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[发明专利]利用功能掩膜板制造封接胶固化用掩膜基板的方法-CN201010241111.3有效
发明人：马群刚 -专利权人：南京中电熊猫液晶显示科技有限公司
申请日： 2010-07-30 - 公布日： 2011-03-16 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种利用功能掩膜板制造封接胶固化用掩膜基板的方法，其特征是它包括以下步骤：首先，选择与掩膜基板上的掩膜板尺寸相配的功能掩膜板作为模板；其次，在所述模板的空白处形成与掩膜板一边截图相配的拼接用图案；第三，将带有拼接用图案的功能掩膜板放在拟制备掩膜基板的底板上，采用挡光板将不需要的图案挡住，将功能掩膜板上暴露的图案转移到底板上，再反复通过移动功能掩膜板在底板上的位置和挡光板的位置将暴露的图案转移到底板上，直至拼接形成一个完整的掩膜板；重复第三步的动作，即可在底板上形成所需数量的掩膜板，实现利用功能掩膜板制作整张掩膜基板的目的。本发明可以保证在制成紫外固化封接胶用掩膜基板的同时，节省一张紫外固化封接胶用掩膜板的费用。同时也节省了另外制作这张掩膜板所需要的时间。
利用功能掩膜板制造封接胶固化用掩膜基板方法

[发明专利]掩膜组件及其制造方法、显示装置-CN202211063893.5在审
发明人：张峰杰;王路;孙中元;王伟杰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-09-01 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种掩膜组件及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。该掩膜组件包括掩膜板和掩膜框架，该掩膜板设置在该掩膜框架上且与该掩膜框架固定连接，该掩膜板包括第一对位结构，该掩膜框架包括第二对位结构，第一对位结构与第二对位结构不同，第一对位结构与第二对位结构对位。本申请提供的掩膜组件中，掩膜板与掩膜框架的对位精度较高。
组件及其制造方法显示装置

[发明专利]超薄玻璃掩膜板以及超薄玻璃掩膜板清洗方法-CN202110650730.6在审
发明人：蒋承忠 -专利权人：蒋承忠
申请日： 2021-06-10 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供了超薄玻璃掩膜板以及超薄玻璃掩膜板清洗方法，其中，超薄玻璃掩膜板包括：一掩膜板框架，其骨架合围形成若干个供掩膜安装的留空区域；若干超薄玻璃掩膜，分别可拆卸地连接于留空区域，每个超薄玻璃掩膜包括一超薄玻璃本体，基于预设蒸镀图案在超薄玻璃本体的唯一的基板区域沿厚度方向形成贯穿超薄玻璃本体的若干贯通孔，每个贯通孔的内壁与超薄玻璃本体的表面之间形成倒角，当进行蒸镀时，超薄玻璃掩膜的贯通孔供蒸镀介质通过超薄玻璃本体到达蒸镀对象本发明能够通过超薄玻璃掩膜板替代传统掩膜，超薄玻璃掩膜与掩膜板框架可迅速分离清洗，并且能对单个超薄玻璃掩膜进行替换或修补，无需张网，缩短掩膜板清洗时间，提高生产效率。
超薄玻璃掩膜板以及清洗方法

[发明专利]掩膜板的制备方法、显示基板的制备方法-CN202010001096.9有效
发明人：蒋志亮;王威;王世龙 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2020-01-02 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板的制备方法、显示基板的制备方法，属于掩膜板制备技术领域。本发明的掩膜板的制备方法，包括：形成图案化的过渡掩膜板；通过预设工艺对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力；对所述过渡掩膜板执行张网操作，以形成最终掩膜板。
掩膜板制备方法显示

[实用新型]一种掩膜板装置-CN201821080019.1有效
发明人：蓝仕虎 -专利权人：君泰创新（北京）科技有限公司
申请日： 2018-07-09 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开一种掩膜板装置，涉及太阳能电池制造技术领域，为提高导电膜的使用性能而设计。所述掩膜板装置包括第一掩膜板和第二掩膜板；所述第一掩膜板和第二掩膜板均包括框架，所述框架内设置有多个间隔布设的遮挡件，所述遮挡件将所述框架内划分成交错间隔的开口区和遮挡区，所述第一掩膜板的开口区结构和第二掩膜板的遮挡区结构相同，所述第一掩膜板的遮挡区结构和第二掩膜板的开口区结构相同。本实用新型提供的掩膜板装置用于提高导电膜的性能。
掩膜板开口区遮挡区本实用新型导电膜遮挡件太阳能电池间隔布设交错间隔使用性能制造

[发明专利]掩膜板覆盖膜设计方法-CN201310195623.4无效
发明人：朱骏;马兰涛;张旭升 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2013-05-23 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜板覆盖膜设计方法，包括：掩膜板覆盖膜制作步骤，用于制作掩膜板覆盖膜膜体；气孔形成步骤，用于在掩膜板覆盖膜膜体四个侧边分别布置多个气孔。所述掩膜板覆盖膜设计方法可以用于设计193纳米光源的掩膜板覆盖膜。掩膜板覆盖膜膜体四个侧边上的气孔的尺寸相同。掩膜板覆盖膜膜体四个侧边中的各个侧边上的多个气孔等间距布置。掩膜板覆盖膜膜体四个侧边中的相对侧边上的气孔数量相等，并且对应布置。掩膜板覆盖膜膜体四个侧边中的较长的两个相对侧边上的气孔数量大于四个侧边中的较短的两个相对侧边上的气孔数量。
掩膜板覆盖设计方法

[实用新型]一种光刻机及其掩膜结构-CN202121532930.3有效
发明人：霍锦充 -专利权人：东莞王氏港建机械有限公司
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及光刻机技术领域，更具体地说，它涉及一种光刻机及其掩膜结构，其中，掩膜结构包括上模板、下模板、掩膜安装板和掩膜板；掩膜安装板为浮动板，且用于安装在上模板上；掩膜板用于安装在掩膜安装板上，以随掩膜安装板一起运动；下模板用于承载晶圆；上模板可相对下模板升降，以带动掩膜板相对靠近或远离晶圆，掩膜板相对靠近晶圆时还可与晶圆相抵。根据本实用新型的方案，当上模板带动掩膜板靠近晶圆直至与晶圆相抵时，掩膜板在下压晶圆的过程中可以受晶圆推动，而使自身的各个边角发生不同程度的运动，以补偿各边角与晶圆之间的间隙，使掩膜板的各个边角均与晶圆贴合，从而可以提高掩膜板与晶圆的平行度。
一种光刻及其膜结构

[发明专利]一种掩膜板组件-CN202010808260.7在审
发明人：邱岳;臧公正;李伟丽 -专利权人：维信诺科技股份有限公司
申请日： 2020-08-12 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜板组件，用于制造目标基板，该掩膜板组件包括掩膜架、可膨胀件和掩膜网，掩膜架上设置有连接面，掩膜架在连接面开设有凹槽；可膨胀件设置于凹槽内靠近掩膜架中心位置的一端；掩膜网搭接在掩膜架连接面一侧，且与可膨胀件连接；其中，可膨胀件沿凹槽背离掩膜架中心方向，可随目标基板膨胀而膨胀，以拉伸掩膜网而使得掩膜网趋于平整。本申请掩膜板组件能够减小掩膜网的下垂量，有利于提高蒸镀精度。
一种掩膜板组件

[发明专利]掩膜板的检测方法-CN200910195217.1无效
发明人：朱瑜杰;陈宏璘;孙强;施春山 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-09-04 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜板的检测方法，包括步骤：预先根据在掩膜层中形成的光掩膜图形的目标特征尺寸计算目标曝光能量；提供掩膜板和半导体基底，在所述掩膜板上具有开口图形，在所述半导体基底上具有光掩膜层；利用小于目标曝光能量的测试曝光能量，透过掩膜板对所述半导体基底上的部分区域光掩膜层曝光；进行显影，形成光掩膜图形；对所述光掩膜图形进行检测。本发明可以对掩膜板上的缺陷进行检测。
掩膜板检测方法

[发明专利]掩膜板、掩膜板的制造方法和蒸镀装置-CN201710525273.1有效
发明人：张文畅;马超;靳福江;杨文斌;曾望明;王永茂;黄世花 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-06-30 - 公布日： 2020-02-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板、掩膜板的制造方法和蒸镀装置，掩膜板包括：掩膜框架和掩膜条，掩膜框架具有第一表面和第二表面，第一表面和第二表面在掩膜框架的厚度方向上相对设置，第一表面上设有过渡层；掩膜条设在掩膜框架上且与过渡层相连，过渡层的材质与掩膜条的材质相同。根据本发明实施例的掩膜板，通过在掩膜框架上设置过渡层，并使得过渡层的材质与掩膜条的材质相同，在焊接过程中，可以将材质相同的两种物质焊接在一起，从而可以方便、牢靠地将掩膜条焊接在掩膜框架上，降低了焊接难度，且提高了焊接效果，进而提高了掩膜板的质量，有效地避免了焊接瑕疵对掩膜板的使用寿命造成影响。
掩膜板掩膜过渡层掩膜条焊接第一表面第二表面焊接过程焊接难度使用寿命相对设置蒸镀装置有效地瑕疵制造

[发明专利]一种光刻掩膜板缺陷检测方法及设备和芯片-CN202010061666.3在审
发明人：陈颖;韦亚一;董立松;陈睿;吴睿轩;粟雅娟 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-01-19 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻掩膜板缺陷检测方法及设备和芯片，涉及光刻技术领域，以降低掩膜板的缺陷检测成本的同时，加快检测速度的同时，提高缺陷检测准确率。所述光刻掩膜板缺陷检测方法包括：获取待测掩膜板的光刻投影，所形成的空间图像分布；利用缺陷机器学习模型对所述待测掩膜板的空间图像分布进行检测，获得光刻掩膜板的缺陷信息。所述光刻掩膜板缺陷检测设备用于执行光刻掩膜板缺陷检测方法。本发明提供的光刻掩膜板缺陷检测方法用于检测掩膜板缺陷。
一种光刻掩膜板缺陷检测方法设备芯片

[实用新型]一种掩膜板框架模组-CN201620531722.4有效
发明人：吕守华;李宝军 -专利权人：鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-06-01 - 公布日： 2016-10-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种掩膜板框架模组，属于OLED制备技术领域，其可解决现有的掩膜板框架模组和蒸镀背板玻璃之间的贴合缝隙导致的混色和产品良率降低的问题。本实用新型的掩膜板框架模组，包括矫正框架、掩膜板框架和至少一个金属掩膜板；至少一个所述金属掩膜板固定在所述掩膜板框架的一侧；所述矫正框架固定在所述掩膜板框架的远离所述金属掩膜板的一侧，所述矫正框架用于矫正所述掩膜板框架
一种掩膜板框架模组

[实用新型]一种曝光装置-CN201621248258.4有效
发明人：曹中林;黄炜赟;陈中龙 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光装置，包括位于掩膜板的出光侧的图像采集单元和与图像采集单元连接的处理单元；图像采集单元用于采集曝光过程中由掩膜板的出射光呈现的掩膜板图像，将采集的掩膜板图像发送给处理单元；处理单元用于接收图像采集单元发送的掩膜板图像，将接收的掩膜板图像与预存的参考图像进行比较，在掩膜板图像与参考图像一致时确定掩膜板使用正确且掩膜板的表面无异物，在掩膜板图像与参考图像不一致时确定掩膜板使用错误和/或掩膜板的表面存在异物；这样，利用上述曝光装置进行曝光工艺的过程中，可以及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题，从而可以及时停止曝光工艺并采取有效措施，进而可以提高显示面板的制作良率。
一种曝光装置

[发明专利]掩膜板、掩膜板的制备方法及蒸镀装置-CN202010753967.2在审
发明人：宋平;肖志慧;单为健;孙增标;王亚玲;李骄阳 -专利权人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板、掩膜板的制备方法及蒸镀装置，涉及显示技术领域，旨在解决现有掩膜板无法制备高分辨率的显示面板的问题。该掩膜板包括层叠设置的第一掩膜层和第二掩膜层，第一掩膜层上设置有多个第一开口，第二掩膜层包括相互独立的多个掩膜部，掩膜部由有机材料制成，多个掩膜部与多个第一开口一一对应设置，每个所述掩膜部上均设置有呈阵列排布的多个第二开口每个第一开口在对应的掩膜部上的投影覆盖该掩膜部的所有第二开口。本发明能够降低掩膜板的制备难度，并且满足高分辨率的显示面板的制备需求，优化显示面板的显示效果。
掩膜板制备方法装置

[发明专利]一种掩膜板及其制备方法-CN201810416093.4有效
发明人：王灿;张粲;杨明;岳晗;丛宁;玄明花;陈小川 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-05-03 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及蒸镀技术领域，公开一种掩膜板及其制备方法，其中，掩膜板包括掩膜本体和形成在所述掩膜本体上的涂层；其中：所述涂层对有机材料的吸附性比所述掩膜本体对有机材料的吸附性差。上述掩膜板，由于其掩膜本体表面具有涂层，且该涂层对有机材料的吸附性比较差，进而，在利用该掩膜板进行蒸镀时，蒸镀材料不易吸附于该掩膜板上，因此，该掩膜板的开口不易发生堵塞，从而该掩膜板的使用寿命较长；并且，该掩膜板可以具有较高的精度和较小的图案开口，尤其适合制备高PPI的OLED产品，可以提高产品的蒸镀良率。
一种掩膜板及其制备方法