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[实用新型]一种匀流膜安装结构-CN202221482297.6有效
发明人：李青;陈莉 -专利权人：苏州安泰空气技术有限公司
申请日： 2022-06-13 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： B01D46/42 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种匀流膜安装结构,包括框架结构及匀流膜本体，其特征在于：所述框架结构的外侧边设有固定槽，所述匀流膜本体贴覆于所述框架结构上，并覆盖所述固定槽，还包括一与所述固定槽配合的弹性嵌条，所述匀流膜本体通过所述弹性嵌条卡设于所述固定槽内本实用新型通过弹性嵌条与固定槽的配合，对匀流膜本体形成固定，实现对匀流膜的在线更换，且出风达到匀流效果。
一种匀流膜安装结构

[实用新型]一种晶硅太阳能电池刻蚀水膜匀膜装置-CN201821397395.3有效
发明人：支凯飞;杨辉;李伟乐;胡学一;吴而义 -专利权人：洛阳尚德太阳能电力有限公司
申请日： 2018-08-28 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种晶硅太阳能电池刻蚀水膜匀膜装置，包括超声波雾化器，导流管道，分流管道，喷淋管道；导流管道与超声波雾化器的雾化气体出口连通，分流管道与导流管道连通，多个喷淋管道均与分流管道连通，每个喷淋管道的出口端均设有无驱动匀流扇，该无驱动匀流扇包括通过螺丝固定于喷淋管道的三叉支架和与三叉支架连接的轴承，轴承上还连接有多个曲条状匀流扇叶片，多个曲条状匀流扇叶片以轴承为中心均匀分布且可绕轴承旋转。本实用新型利用超声波雾化后的水分子在无驱动匀流扇的驱动下均匀覆盖到硅片表面，预先湿润硅片表面，在之后水膜喷淋时保证硅片表面均匀、完全被水膜覆盖，避免出现因水膜覆盖不均匀造成的返工和降级。
水膜喷淋管道轴承导流管道分流管道硅片表面驱动连通超声波雾化器硅太阳能电池本实用新型三叉支架扇叶片刻蚀匀膜种晶超声波雾化均匀覆盖螺丝固定雾化气体不均匀出口端水分子返工覆盖喷淋湿润降级出口保证

[发明专利]一种具有气体匀流结构的膜电极及其制备方法-CN201510107028.X有效
发明人：沈培康;杜弘煜;黄向东;王清泉;梅骜 -专利权人：中山大学;广州汽车集团股份有限公司
申请日： 2015-03-11 - 公布日： 2017-06-30 - 主分类号： H01M4/86 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有气体匀流结构的膜电极及其制备方法。该方法为对导电载体材料进行清洁和亲水处理，烘干；负载气体扩散层原材料，烘干，烧结，形成气体扩散层；在气体扩散层上涂覆气体匀流层，烧结；涂覆催化层，烘干，得到电极；将两片电极之间夹一层离子交换膜，热压成具有气体匀流结构的膜电极该种新型结构在膜电极的气体扩散层与催化剂层中间加入了气体匀流层结构，匀流层具有多孔、气体通道多而且均匀等特点，为反应气体的传送提供了传输通道，并为反应气体与催化剂提供反应场所，减少了膜电极普遍存在的催化剂催化性能损失以及质量传输损失，解决了现有技术制备的膜电极内部反应物通道不均匀、反应气体与催化剂接触面积小的问题。
一种具有气体结构电极及其制备方法

[实用新型]一种适用于管式PECVD设备的真空抽口匀流板机构-CN202221159725.1有效
发明人：王玉明;周玉龙;刘景博 -专利权人：苏州拓升智能装备有限公司
申请日： 2022-05-16 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种适用于管式PECVD设备的真空抽口匀流板机构，包括：反应室、匀流板机构、设置于反应室尾部的抽气口及设置于反应室头部的进气口，匀流板机构设置于反应室尾口且位于所述抽气口的内侧，其包括：匀流板安装钣金、法兰、第一匀流板及第二匀流板，第一匀流板和第二匀流板之间通过匀流板连接柱固定为一整体结构，匀流板安装钣金的一端与第二匀流板锁固连接，另一端固定安装在法兰上，匀流板机构通过法兰固定在反应室尾口的位置，第一匀流板上开设有若干列阵排布的匀流孔，本实用新型的匀流板机构，使得抽真空时反应室内的气流不会发生明显的乱流，降低气流部分不均对电池片制膜的影响。
一种适用于 pecvd 设备真空抽口匀流板机

[实用新型]一种具有核酸分子扩增结构的卡盒-CN202121114369.7有效
发明人：梅哲;贾础豪;张彤 -专利权人：广州万孚生物技术股份有限公司
申请日： 2021-05-21 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： C12M1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及生物医疗技术领域，公开了一种具有核酸分子扩增结构的卡盒，包括卡盒板、前膜和后膜；前膜及后膜分别贴设于卡盒板的正面及背面上，密封设于卡盒板表面上的空腔，以形成混匀腔、阻断腔、PCR腔、第七气道和流道；混匀腔通过流道与PCR腔连通，阻断腔位于混匀腔与所述PCR腔之间，阻断腔的底部接入流道，阻断腔在PCR腔完成扩增反应后封闭流道。本实用新型将各反应腔及流道设置于卡盒板上，并由前膜及后膜密封，使核酸分子扩增过程在封闭式的卡盒里进行，避免污染。并且，在混匀腔与PCR腔之间设置阻断腔结构，在PCR腔完成扩增反应后对其进行密封，以避免PCR腔内的扩增产物通过卡盒流道泄漏到卡盒外，污染仪器或者环境。
一种具有核酸分子扩增结构

[发明专利]一种土木工程建筑废料处理装置的粉尘吸取机构-CN202011391955.6在审
发明人：靳玉娟;任永明;王娟玲;施小明;李峥;靳静 -专利权人：黄河水利职业技术学院
申请日： 2020-12-01 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： B08B15/00 文献下载
摘要：本发明公开一种土木工程建筑废料处理装置的粉尘吸取机构，其包括箱体、吸尘组件、匀流室以及覆膜滤芯，其特征在于，所述机箱内部设置有匀流室，匀流室下方连接有吸尘组件，匀流室上方固定有覆膜滤芯，本发明通过采用垂直吸尘的设计，通过吸尘组件对粉尘由下而上的吸取、保存，避免了在除了粉尘时发生尘土飞扬的现象；通过设置四个电动推杆通过连杆控制吸尘罩的转动以及转动方向，增大了吸尘范围，大大提高了吸尘效果；设置覆膜滤芯收尘，在收尘之后
一种土木工程建筑废料处理装置粉尘吸取机构

[实用新型]脱硫除尘器用硫化器-CN200720029942.8无效
发明人：崔茂展;赵存宏;田忠言 -专利权人：于波涛
申请日： 2007-10-29 - 公布日： 2008-09-24 - 主分类号： B01D53/78 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种脱硫除尘器用硫化器，包括圆筒形壳体，所述圆筒形壳体内的通道内、绕所述通道的轴线均匀且倾斜固定有多个匀流叶片，所述匀流叶片的内端固定在一起，所述匀流叶片的外端固定在所述圆筒形壳体的内壁上，能够产生流态化运动区域，使整个设备的流场组织都能够实现气液固三相充分的接触与混合，在低压差阻力前提下采用高湍流度的设计，使气膜和液膜不断更新，减小了气膜和液膜阻力，增大了传质系数，提高了脱硫效率和细小颗粒粉尘的增湿凝聚效果
脱硫除尘器用硫化

[发明专利]工艺腔室用匀流件、工艺腔室和半导体处理设备-CN201810522206.9有效
发明人：武学伟;王军;董博宇;王厚工;丁培军;郭冰亮;耿玉洁;马怀超;王庆轩;李丽;徐宝岗;张鹤南;刘绍辉;王桐;崔亚欣 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-05-28 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种工艺腔室用匀流件、工艺腔室和半导体处理设备。包括相连通的匀流主体管和插接管，其中，所述插接管的一端与所述匀流主体管连通，另一端用于与所述工艺腔室的进气口连通；所述匀流主体管呈环状结构，所述环状结构的周向上间隔设置有多个匀流出气口，以对经所述进气口进入所述匀流主体管内的工艺气体进行匀流通过所设置的多个匀流出气口对工艺气体进行匀流后再扩散至工艺腔室内，从而可以使得工艺气体在工艺腔室内均匀分布，进而可以产生密度均匀的等离子体，提高所沉积膜层的厚度的均匀性，降低产品的制作成本。
工艺腔室用匀流件半导体处理设备

[发明专利]一种高压穿膜双重匀流钢化玻璃炉-CN200810231058.1无效
发明人：江宜桥 -专利权人：江宜桥
申请日： 2008-11-25 - 公布日： 2009-05-06 - 主分类号： C03B27/012 文献下载
摘要：本发明属于玻璃钢化设备技术领域，特别公开了一种高压穿膜双重匀流钢化玻璃炉，包括炉体和由转动辊组成的辊道，辊道位于炉体内腔的炉门处，辊道上方安装有高压穿膜双重匀流系统。所述的高压穿膜双重匀流系统由特级对流方程器、一级对流方程器、二级对流方程器构成，在炉体内腔由上至下依次布置特级对流方程器、一级对流方程器、二级对流方程器，并用电路连接各方程器。本发明提供一种新型加热方式的高压穿膜双重匀流钢化玻璃炉，不仅高效、节能、环保，而且成功解决了Low-E玻璃U值0.08～0.02钢化时快速加热的需求，更重要的是解决了困惑行业多年的保温棉掉渣和飞灰现象。
一种高压双重钢化玻璃

[实用新型]一种高压穿膜双重匀流钢化玻璃炉-CN200820221264.X无效
发明人：江宜桥 -专利权人：江宜桥
申请日： 2008-11-25 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： C03B27/00 文献下载
摘要：本实用新型属于玻璃钢化设备技术领域，特别公开了一种高压穿膜双重匀流钢化玻璃炉，包括炉体和由转动辊组成的辊道，辊道位于炉体内腔的炉门处，辊道上方安装有高压穿膜双重匀流系统。所述的高压穿膜双重匀流系统由特级对流方程器、一级对流方程器、二级对流方程器构成，在炉体内腔由上至下依次布置特级对流方程器、一级对流方程器、二级对流方程器，并用电路连接各方程器。本实用新型提供一种新型加热方式的高压穿膜双重匀流钢化玻璃炉，不仅高效、节能、环保，而且成功解决了Low-E玻璃U值0.08～0.02钢化时快速加热的需求，更重要的是解决了困惑行业多年的保温棉掉渣和飞灰现象
一种高压双重钢化玻璃

[实用新型]卧式半导体工艺炉的反应腔室及卧式半导体工艺炉-CN202021018542.9有效
发明人：赵庆峰;王晓飞 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2020-06-05 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：卧式半导体工艺炉的反应腔室包括进气口和抽气口，还包括匀流板组件，匀流板组件设置于反应腔室的后炉门上，且遮挡位于后炉门上的抽气口；匀流板组件包括一个、或者至少两个匀流板，匀流板上开设有多个匀流小孔。匀流板组件能够延长工艺气体在反应腔室内的停留时间，改变工艺气体的流动方向，使工艺气体与硅片充分接触和反应，提高反应腔室内工艺气体的均匀性，使得硅片上各点膜厚更加均匀。
卧式半导体工艺反应

[发明专利]半导体工艺设备及其进气机构-CN202011494729.0在审
发明人：李新颖;王宽冒 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：该进气机构包括进气支撑件、匀流罩及多个调节件；进气支撑件用于设置在工艺腔室的顶部，匀流罩设置于进气支撑件内，进气支撑件和匀流罩之间形成环形的匀流腔，进气支撑件上设有与匀流腔连通的进气道，进气道用于导入气体；匀流罩上设有多个周向间隔排布进气孔，匀流腔通过进气孔与工艺腔室的工艺腔连通；匀流罩的外周壁设置有沿周向延伸的凸缘，凸缘位于多个进气孔的底部；多个调节件均以可活动的方式设置于凸缘上，并且分别与多个进气孔对应设置，调节件用于调节由匀流腔进入各进气孔的气体流量。本申请实施例实现了工艺腔室的均匀进气，大幅提高晶圆的成膜均匀性及良率。
半导体工艺设备及其机构

[发明专利]改善匀胶趋势和均匀性的光刻胶匀胶装置、方法及应用-CN202211270221.1在审
发明人：刘林韬 -专利权人：苏州苏纳光电有限公司
申请日： 2022-10-17 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： B05C11/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善匀胶趋势和均匀性的光刻胶匀胶装置、方法及应用。所述光刻胶匀胶装置包括承载结构以及稳流结构，所述承载结构能够进行匀胶处理，所述稳流结构至少包括盖板；还包括扰流结构，所述扰流结构设置于所述盖板面向所述承载结构的一面，且与所述胶液膜层无接触；当所述基底旋转时，所述扰流结构产生湍流，所述湍流至少能够作用于所述胶液膜层的待改善区域。本发明所提供的光刻胶匀胶装置及方法在保证整体匀胶均匀性的基础上，能够可控地产生胶膜厚度的趋势性分布，使所形成的光刻胶膜层能够准确地匹配后续制程的反应速率差异，进而能够带来整体制程的优异加工精度和良率。
改善趋势均匀光刻胶匀胶装置方法应用

[发明专利]一种气体喷淋头和化学气相沉积设备-CN202310685373.6在审
发明人：郑冬;邢志刚 -专利权人：楚赟精工科技（上海）有限公司
申请日： 2023-06-09 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种气体喷淋头和化学气相沉积设备，气体喷淋头用于向反应室内输入反应气体，包括：进气口；与进气口连通的气体扩散室；设于气体扩散室中并与反应室相通的多个匀气管，匀气管的侧壁上沿轴向设有多个进气孔；流阻调节堵头，自上端密封穿设于匀气管中；通过使流阻调节堵头在匀气管中上下移动，调节匀气管上未被流阻调节堵头封堵的进气孔的数量，以调节匀气管的流阻，可使由各匀气管通出气体喷淋头时的反应气体的流量均匀化，从而达到匀气的效果。使用气体喷淋头的化学气相沉积设备，可以将经气体喷淋头进行流阻调节后的反应气体均匀导入反应室内，能够在基板表面上形成厚度均匀的膜层。
一种气体喷淋化学沉积设备

[发明专利]用于净化设备上的局部微调整风装置及其调节方法-CN202110962065.4有效
发明人：金真;吴志坚;王欢;但宇森 -专利权人：苏州安泰空气技术有限公司
申请日： 2021-08-20 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： B01D46/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于净化设备上的局部微调整风装置及其调节方法，包括高效空气过滤器及匀流装置，其特征在于：所述匀流装置包括多孔膜和匀流框，所述匀流框包括外框和内框，两框之间设有活动空间，所述内框包含若干个固定块和若干个移动块本发明通过移动块的相对移动，拉伸或收缩贴覆于移动块上的多孔膜，实现多孔膜孔径的变化，从而改变调整点位上的出风风速，达到点、排、面的不同位置灵活调整，输出层流气流。
用于净化设备局部微调整风装置及其调节方法

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