[发明专利]改善匀胶趋势和均匀性的光刻胶匀胶装置、方法及应用在审
| 申请号： | 202211270221.1 | 申请日： | 2022-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN115502048A | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 刘林韬 | 申请（专利权）人： | 苏州苏纳光电有限公司 |
| 主分类号： | B05C11/08 | 分类号： | B05C11/08;B05D1/00 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王锋 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园区金*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种改善匀胶趋势和均匀性的光刻胶匀胶装置、方法及应用。所述光刻胶匀胶装置包括承载结构以及稳流结构，所述承载结构能够进行匀胶处理，所述稳流结构至少包括盖板；还包括扰流结构，所述扰流结构设置于所述盖板面向所述承载结构的一面，且与所述胶液膜层无接触；当所述基底旋转时，所述扰流结构产生湍流，所述湍流至少能够作用于所述胶液膜层的待改善区域。本发明所提供的光刻胶匀胶装置及方法在保证整体匀胶均匀性的基础上，能够可控地产生胶膜厚度的趋势性分布，使所形成的光刻胶膜层能够准确地匹配后续制程的反应速率差异，进而能够带来整体制程的优异加工精度和良率。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 趋势 均匀 光刻 胶匀胶 装置 方法 应用 | ||
【主权项】：
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