专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种信号均匀覆盖的天线-CN202120108184.9有效
  • 何满花 - 何满花
  • 2021-01-15 - 2021-08-10 - H01Q3/08
  • 本实用新型公开了一种信号均匀覆盖的天线,包括安装盘,所述安装盘下方活动安装有卡接柱,所述卡接柱两侧均固定安装有调节柱,所述安装盘上表面靠近边缘位置开设有安装孔,所述安装盘上表面靠近中心位置嵌入固定安装有旋转电机本实用新型所述的一种信号均匀覆盖的天线,能够在设备安装后对设备输出角度进行调整,无需使用梯子等工具爬上爬下,还能够解决设备维修时拆装不方便的问题。
  • 一种信号均匀覆盖天线
  • [发明专利]精密微量试剂加给与均匀覆盖方法及其装置-CN200310108383.6无效
  • 庞全 - 庞全
  • 2003-10-30 - 2004-10-27 - G01N1/28
  • 本发明公开了一种精密微量试剂加给与均匀覆盖方法及其装置。方法:它采用权利要求4和5所述的试剂喷射机构,将试剂进行雾化,并将雾化的试剂通过试剂喷射机构喷射到切片上的组织或其他具有一定面积的被试验物表面,形成一层均匀覆盖的试剂膜。本发明优点:1)试剂采用雾状喷射到试验物表面,形成一层薄薄的液膜,保证了试剂对试验物表面的均匀覆盖,试剂用量小;2)改变试剂喷射机构与试验物表面的距离,可以方便的改变试剂均匀覆盖面积的大小。
  • 精密微量试剂给与均匀覆盖方法及其装置
  • [实用新型]一种均匀喷水的掩膜覆盖装置-CN201720932081.8有效
  • 任壮 - 润峰电力有限公司
  • 2017-07-28 - 2018-04-03 - B05B1/14
  • 一种均匀喷水的掩膜覆盖装置,包括封闭式方形储液箱,所述封闭式方形储液箱顶部设置有进液孔,所述封闭式方形储液箱底部规则排列有若干出液孔,所述出液孔内安装有开关阀门,所述封闭式方形储液箱侧端还安装有液位传感器,本实用新型结构简单,各个出液孔的出液量能够较均匀,能够在不浪费掩膜液的情况下,保证每一处掩膜效果都为最佳。
  • 一种均匀喷水覆盖装置
  • [实用新型]试剂微量加给与均匀覆盖自动化装置-CN200320109498.2无效
  • 庞全 - 庞全
  • 2003-10-30 - 2004-11-03 - G01N1/28
  • 本实用新型公开了一种试剂微量加给与均匀覆盖自动化装置。试剂微量加给与均匀覆盖自动化装置具有安装在机座上的压下机构、动力传动机构、试剂喷射机构;固定在机座下部的电机,通过同步轮、同步带与固定在机座上部的压下机构上的传动轴相连;传动轴的转动,通过压下机构产生冲头的上下运动本实用新型具有的优点:1)试剂采用雾状喷射到试验物表面,形成一层薄薄的液膜,既保证了试剂对试验物表面的均匀覆盖,同时也比其他任何试剂加给方法的试剂用量都要小,从而有利于节省昂贵的试剂;2)采用电机控制凸轮旋转并通过传感器检测
  • 试剂微量给与均匀覆盖自动化装置
  • [实用新型]改善阻障层的覆盖均匀性的内连线-CN200420049598.5无效
  • 黄震麟;谢静华;眭晓林 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2004-04-22 - 2005-04-13 - H01L23/52
  • 本实用新型为一种改善阻障层的覆盖均匀性的内连线,包括:一半导体基底;一介电层,形成于该半导体基底上,其中该介电层具有一沟槽,且该沟槽露出于该半导体基底表面;以及,一阻障层,形成于该沟槽的侧壁及底部,其中该阻障层具有一大体均匀的厚度,且该均匀的厚度藉由一再溅击制程形成,从而克服了现有技术的缺陷,导电插塞与金属层可有效连接,避免介电层上方及下方的金属层导电不良的问题;同时,可有效避免金属层构成的导电插塞的金属扩散至介电层当中,进而达到提高产品可靠度的目的
  • 改善阻障覆盖均匀连线

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