专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种制备大面积高性能n型场效应晶体管阵列的方法-CN202111361183.6在审
  • 戴伦;程智轩;贾雄辉 - 北京大学
  • 2021-11-17 - 2022-03-11 - H01L21/34
  • 本发明公开了一种制备大面积高性能n型场效应晶体管阵列的方法。该方法先在衬底上生长半导体相薄膜,再图案半导体相薄膜并生长钨薄膜,得到金属钨和半导体相相间的薄膜,继而通过化学气相沉积法使钨薄膜变为半金属相钨薄膜;再次图案后得到分立的以半导体相为沟道、以半金属相钨为电极的器件阵列;最后通过原子层沉积氧化铪薄膜对器件实现n型掺杂,并制备图案的顶栅金属电极,获得大面积高性能n型场效应晶体管阵列。该方法对n型掺杂效果理想,掺杂程度可调,同时所制备的器件源漏电极接触电阻低,提高了器件性能,为维半导体材料在集成电路等领域的应用提供了基础。
  • 一种制备大面积性能二维碲化钼场效应晶体管阵列方法
  • [发明专利]基于的忆阻器及其制备方法、非易失性存储器-CN202011154078.0有效
  • 杨蕊;何慧凯;江勇波;黄腾 - 华中科技大学
  • 2020-10-26 - 2023-04-25 - H10N70/20
  • 本发明属于半导体存储相关技术领域,其公开了一种基于的忆阻器及其制备方法、非易失性存储器,所述忆阻器包括自上而下设置的顶电极、阻变层及底电极,所述阻变层位于所述顶电极及所述底电极之间,其为经过氩等离子处理的片;通过氩等离子处理在片的表面引入空位,从而降低从2H相到1T’相转变的能量,使得自2H相到1T’的相转变更容易发生;所述阻变层在外加电压作用会发生从2H相到1T’相的可逆相转变,从而所述忆阻器的电阻发生高低阻态的变化本发明使得2H和1T’之间的相转变更容易发生,降低相转变的操作电压,同时提高转变速度和循环寿命。
  • 基于碲化钼忆阻器及其制备方法非易失性存储器
  • [发明专利]一种纳米管的制备方法-CN201711454389.7有效
  • 胡柱东;林海敏 - 佛山科学技术学院
  • 2017-12-26 - 2020-05-05 - C01B19/04
  • 本发明公开了一种纳米管的制备方法,其包括如下工艺步骤:1)将六羰基铺装在陶瓷坩埚底部,后将多孔阳极氧化铝模板开口向下置于六羰基上方,密封坩埚后置于管式炉中,在气体保护下低温升华沉积,继续升温热解;2)真空管式炉降至室温后将模板开口向下置于装有粉的陶瓷坩埚中,密封坩埚后在气体保护下升温,使单质与金属直接反应;3)用稀酸溶液去除多孔氧化铝模板和多余的,后进行抽滤处理,烘干,得成品。本发明方法步骤简单,无环境污染,无需复杂的设备,所制备得的纳米管粉体材料的尺寸可控性强,结晶性好,纳米管管壁、形貌均匀,从而大大提高该纳米管粉体材料成品的综合性能。
  • 一种二碲化钼纳米制备方法

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