专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]前驱容器-CN202211073184.5在审
  • T·布隆贝格 - 皮考逊公司
  • 2022-09-02 - 2023-03-10 - C23C16/44
  • 本公开的实施例涉及一种前驱容器,包括:第一容积,由第一腔室形成以容纳前驱材料;第二容积,由第二腔室形成并通过分隔壁与第一容积分开;以及导管,穿过分隔壁并从第一容积延伸到第二容积,在第一容积中的压力增加之后,向被容纳在第一容积中的前驱材料提供到第二容积的路径。
  • 前驱容器
  • [发明专利]前驱输出系统及前驱输出方法-CN202211264317.7有效
  • 邵大立;齐彪;马敬忠 - 上海星原驰半导体有限公司
  • 2022-10-17 - 2023-03-24 - C23C16/52
  • 本发明涉及一种前驱输出系统及前驱输出方法。前驱输出系统,包括第一容器、温控装置、进液管路、出气管路、第一检测件、第二检测件及控制器。温控装置用于对第一容器进行加热,进液管路能够向第一容纳腔内输送液相前驱,出气管路用于输出第一容纳腔内的气相前驱。控制器用于根据当前蒸汽压确定温控装置的加热温度,控制器还用于根据当前液面高度确定进液管路向第一容纳腔内输送液相前驱的输送量。控制器根据第一检测件检测到的当前蒸汽压控制温控装置进行温度控制,根据第二检测件检测到的当前液面高度控制进液管路输送液相前驱,通过调控温度和液面高度,保证了前驱输出系统的输出稳定性,提升了沉积膜的成膜质量
  • 前驱输出系统方法
  • [发明专利]用于半导体设备的前驱物供应装置、供应方法及设备-CN202110872836.0在审
  • 史晶 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2021-07-30 - 2023-02-03 - C23C16/52
  • 本发明公开一种用于半导体设备的前驱物供应装置、供应方法及设备,其中供应装置包括:前驱物容器,前驱物容器内包括相互隔离设置的前驱物供应区和前驱物补充区,前驱物补充区和前驱物供应区均用于容纳液态前驱物;液压监测系统,液压监测系统用于实时监测并显示前驱物供应区内的液态前驱物的液压;补液系统,补液系统用于根据液压监测系统监测的前驱物供应区内的液态前驱物的液压,将前驱物补充区内的液态前驱物输送至前驱物供应区本装置保证了前驱物的稳定充足供应,提高了前驱物的利用率,提高了薄膜的沉积质量。
  • 用于半导体设备前驱供应装置方法设备
  • [发明专利]前驱供应柜-CN202080045932.1有效
  • P·索恩宁;J·韦斯林;M·马里拉 - 青岛四方思锐智能技术有限公司
  • 2020-04-24 - 2023-08-22 - C23C16/448
  • 本发明涉及用于容纳一个或多个前驱容器(80)的前驱供应柜(2),前驱供应柜(2)具有限定内部柜空间(1)的柜壁(3、4、6、7、8、9)。前驱供应柜(2)包括通气排出连接件(20、21、22)、一个或多个通气入口连接件(10、11)、用于容纳前驱容器(80)的两个或更多个单独的气密式前驱供应腔室(30),该通气排出连接件(20、21气密式前驱供应腔室(30)布置在前驱供应柜(2)的内部柜空间(1)内部,使得前驱供应柜(2)的包围单独的气密式前驱供应腔室(30)的内部柜空间(1)是通气的。
  • 前驱供应
  • [发明专利]平版印版前驱-CN00130198.5无效
  • 川村浩一;曾吕利忠弘;山崎纯明 - 富士胶片株式会社
  • 2000-10-19 - 2001-06-06 - B41M1/06
  • 公开了平版阳印版或平版阴印版前驱,它通过加热或光热转换放出的热而光敏性强地形成图象而不需要图象记录后的显影过程,并且具有良好的光敏性和出色的耐印性和耐糊版性,通过根据数字信号操作红外激光器而直接制出印版,前驱包括一种具有可通过热、酸或辐射而改变亲水性的官能团的聚合物和一个聚合物与之化合的底层,其中聚合物是直接在聚合物链的一端通过化学键与该底层表面化合的直链聚合物,或者包含(i)与该底层表面以化学方式化合的聚合物主链
  • 平版前驱
  • [发明专利]一种量子点的制备方法-CN201910208244.1在审
  • 程陆玲;杨一行 - TCL集团股份有限公司
  • 2019-03-19 - 2020-09-29 - C09K11/56
  • 本发明提供一种量子点的制备方法,包括如下步骤:提供量子点核;将所述量子点核分散到第一前驱溶液中,得到混合溶液;加入第二前驱和第三前驱进行晶体生长,得到所述量子点;其中,所述第一前驱溶液被配置为离子前驱溶液,所述第二前驱和第三前驱选自阴离子前驱;或者,所述第一前驱溶液被配置为阴离子前驱溶液,所述第二前驱和第三前驱选自阳离子前驱;并且,所述第二前驱与所述第一前驱反应进行晶体生长的反应活性大于所述第三前驱与所述第一前驱反应进行晶体生长的反应活性
  • 一种量子制备方法
  • [发明专利]制备BiGaO3薄膜材料的反应装置-CN201710579314.5在审
  • 尹海宏;王志亮;宋长青 - 南通大学
  • 2015-11-11 - 2017-12-15 - C23C16/40
  • 一种制备BiGaO3薄膜材料的反应装置,包括有铋前驱源、铋前驱管路手动阀、铋前驱管路自动阀、铋前驱载气管路质量流量控制器、镓前驱源、镓前驱管路手动阀、镓前驱管路自动阀、镓前驱载气管路质量流量控制器、氧前驱源、氧前驱管路手动阀、氧前驱管路自动阀、氧前驱载气管路质量流量控制器、惰性气体源、惰性气体管路手动阀、真空反应腔、真空泵、真空泵进气口自动阀门、设备控制器,真空反应腔中设有电加热器和温度传感器,铋前驱源1、镓前驱源2、氧前驱源3的容器均设有电加热器和半导体制冷器。
  • 制备bigao3薄膜材料反应装置
  • [发明专利]一种量子点的制备方法-CN201811583541.6在审
  • 聂志文;杨一行 - TCL集团股份有限公司
  • 2018-12-24 - 2020-06-30 - C09K11/70
  • 本发明公开了一种量子点的制备方法,方法包括:提供阴离子前驱溶液,所述阴离子前驱溶液包括V族前驱、第一配位溶剂和介孔材料,所述V族前驱包括P前驱;提供阳离子前驱溶液,所述阳离子前驱溶液包括III族前驱,所述III族前驱包括In前驱;将所述阴离子前驱溶液和所述阳离子前驱溶液混合,在所述介孔材料的孔道中进行量子点晶体生长;加入脱附剂,得到量子点。
  • 一种量子制备方法
  • [发明专利]前驱供应腔室-CN202080045851.1在审
  • J·韦斯林;M·马里拉;P·索恩宁 - BENEQ有限公司
  • 2020-04-24 - 2022-02-01 - C23C16/448
  • 本发明涉及用于容纳前驱容器(80)的前驱供应腔室(10),该前驱供应腔室(10)与原子层沉积设备连接。前驱供应腔室(10)包括腔室壁(11、12、13、15、16、18),该腔室壁(11、12、13、15、16、18)限定前驱供应腔室(10)内部的腔室空间。前驱供应腔室(10)还包括腔室门组件(12、17、30、32、40)、第一加热元件(61)以及气密式前驱连接件(50),该腔室门组件(12、17、30、32、40)布置成以气密方式关闭前驱供应腔室(10),第一加热元件(61)设置至前驱供应腔室(10)并且布置成加热前驱供应腔室(10)的腔室空间内部的前驱容器(80),气密式前驱连接件(50)设置至腔室壁(11、12、13、15、16、18)以将前驱前驱容器(80)供应到前驱供应腔室(10)外部。
  • 前驱供应
  • [发明专利]药用玻璃瓶内壁涂层的制备方法-CN201010519850.4有效
  • 郭敏;陈宇林;吴东;王东君 - 英作纳米科技(北京)有限公司
  • 2010-10-19 - 2012-05-16 - C03C17/00
  • 本发明公开了一种药用玻璃瓶内壁涂层的制备方法,包括:将药用玻璃瓶放入原子层沉积设备的反应腔体中,对反应腔体进行真空处理;将一定量的第一前驱脉冲压入反应腔体中,压入的第一前驱在药用玻璃瓶内壁浸润吸附,抽气去除多余的所述第一前驱;将一定量的第二前驱脉冲压入反应腔体中,压入的第二前驱与药用玻璃瓶内壁表面上的第一前驱反应吸附,抽气去除多余的第二前驱以及反应副产物;重复上述步骤,直至药用玻璃瓶内壁沉积所需厚度的涂层薄膜;第一前驱为含硅前驱,第二前驱为含氧前驱;或者,第一前驱为含氧前驱,第二前驱为含硅前驱
  • 药用玻璃瓶内壁涂层制备方法

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