专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种UV辐照装置-CN202010279641.0在审
  • 张炳忠;刘新 - 深圳市润沃自动化工程有限公司
  • 2020-04-10 - 2020-07-03 - G21K5/00
  • 本发明公开了一种UV辐照装置,其包括辐照组件,包括多个辐照光源以及一用于供颗粒状产品接受辐照辐照容器,多个所述辐照光源位于所述辐照容器两侧;进料机构,位于所述辐照组件上方并与所述辐照容器连接,用于将产品导入至辐照容器内;出料机构,位于所述辐照组件下方并与所述辐照容器连接,用于收集或导出辐照后的颗粒状产品。与现有技术相比,本发明中颗粒状产品经辐照容器上方的进料机构进入所述辐照容器,因辐照容器两侧安装有多个辐照光源,则颗粒状产品经过辐照容器时接受两侧辐照光源的辐照,可提高颗粒状产品的UV辐照固化的良率,且相对比输送带式的辐照装置,本发明UV辐照装置的功耗低、体积小,可减少场地占用面积。
  • 一种uv辐照装置
  • [发明专利]辐照考验件及辐照装置-CN202011270589.9有效
  • 卢志威;温建 - 岭东核电有限公司;中广核研究院有限公司;中国广核集团有限公司;中国广核电力股份有限公司
  • 2020-11-13 - 2022-05-03 - G21K5/00
  • 本发明涉及辐照考验件及辐照装置,辐照装置包括用于包裹于辐照对象外周的内层辐照罐、套设于内层辐照罐外围的外层辐照罐、分别与外层辐照罐两相对端配合的第一端塞和第二端塞;内层辐照罐包括在辐照对象轴向方向上并排设置以调控辐照对象与内层辐照罐的装配间隙和/或内层辐照罐与外层辐照罐的装配间隙的多个罐体单元。该辐照装置通过使辐照对象与辐照罐的总配合间隙的波动值减小,进而可以精准控制辐照对象在轴向不同位置处于辐照罐的装配间隙,并可使得辐照对象的外表面温度保持均匀和稳定性,提升辐照试验工况的精确性;并有效降低辐照罐的整体刚度,有效降低辐照对象可能承受的外部压应力,从而降低外部装置影响。
  • 辐照考验装置
  • [实用新型]一种UV辐照装置-CN202020527347.2有效
  • 张炳忠;刘新 - 深圳市润沃自动化工程有限公司
  • 2020-04-10 - 2020-11-27 - G21K5/00
  • 本实用新型公开了一种UV辐照装置,包括辐照组件,包括多个辐照光源以及一用于供颗粒状产品接受辐照辐照容器,多个所述辐照光源位于所述辐照容器两侧;进料机构,位于所述辐照组件上方并与所述辐照容器连接,用于将产品导入至辐照容器内;出料机构,位于所述辐照组件下方并与所述辐照容器连接,用于收集或导出辐照后的颗粒状产品。与现有技术相比,本实用新型中颗粒状产品经辐照容器上方的进料机构进入所述辐照容器,因辐照容器两侧安装有多个辐照光源,则颗粒状产品经过辐照容器时接受两侧辐照光源的辐照,可提高颗粒状产品的UV辐照固化的良率,且相对比输送带式的辐照装置,本实用新型UV辐照装置的功耗低、体积小,可减少场地占用面积。
  • 一种uv辐照装置
  • [发明专利]辐照系统-CN202110786851.3在审
  • 崔爱军;张立锋;朱志斌;窦玉玲;刘保杰;秦成 - 中国原子能科学研究院
  • 2021-07-12 - 2021-10-01 - G21K5/00
  • 一种辐照系统。辐照系统包括:辐照装置,用于形成辐照辐照物的辐照区;束下传输系统,用于将被辐照物运输至辐照区;辐照通道,用于放置辐照装置和束下传输系统;屏蔽装置,设置于束下传输系统的两侧及顶部,以屏蔽辐照装置产生的辐射射线;其中,辐照通道为双口字型迷宫通道。采用辐照系统对被辐照物进行辐照杀菌,解决了如利用化学药剂杀菌存在的化学药剂残留的问题。
  • 辐照系统
  • [实用新型]一种粘合剂生产用辐照反应装置-CN202120930527.X有效
  • 程玉国;刘广志 - 常熟市辐照技术应用厂
  • 2021-04-30 - 2021-12-21 - B01J19/12
  • 本实用新型公开了一种粘合剂生产用辐照反应装置,包括辐照源装置和多个辐照聚合釜;位于所述辐照源装置的下方设有水井,所述辐照源装置升降式进出所述水井;所述辐照聚合釜均匀分布在所述辐照源装置所在区域的两侧;所述辐照源装置上升至与所述辐照聚合釜平行的高度进行辐照聚合本实用新型一种粘合剂生产用辐照反应装置,其通过辐照源装置和辐照聚合釜的设计,使辐照源能够均匀辐射到辐照聚合釜上,确保辐照聚合釜中的物料能够进行有效辐照聚合,提高生产效率,且辐照剂量可控,提高辐照反应的质量
  • 一种粘合剂生产辐照反应装置
  • [实用新型]一种LED试片辐照-CN201921325313.9有效
  • 王振伟;陈蕤森;黄君宇;郭殿 - 邢台龙嘉电子设备科技有限公司
  • 2019-08-15 - 2020-04-07 - G01N1/44
  • 本实用新型公开了一种LED试片辐照仪,包括底座,所述底座上设置有辐照通道,辐照通道顶部固定设置有辐照仓,所述底座上对应辐照通道设置有辐照传输机构,所述辐照仓底部平铺向下设置有LED灯带,LED灯带安装在辐照仓底部对应设置的灯罩内,辐照仓底端设置有辐照口;所述辐照口上设置有用于将紫外光平均投射到试片上进行辐照的透镜;工作时,试片通过辐照传输机构在辐照通道内传输,同时辐照仓对试片进行辐照交联反应,自动流水式辐照交联反应,大大提高辐照交联反应效率,还包括水冷机,水冷机的水冷管与辐照仓连接,辐照仓内设置有冷却循环管,利用水冷对辐照仓内LED灯带进行冷却,使得LED灯带降温,大大提高辐照稳定性。
  • 一种led试片辐照
  • [发明专利]一种辐照装置-CN202110808378.4在审
  • 王兆华 - 山东泉港辐射科技发展有限公司
  • 2021-07-16 - 2021-10-29 - B05D3/06
  • 本发明公开了一种辐照装置,涉及辐照领域,该装置包括架体及辐照室,还包括:多个放置组件,多个放置组件活动安装在辐照室中,多个放置组件用于对待辐照的物料进行放置;辐照组件,辐照组件固定安装在辐照室侧壁上,辐照组件包括多个安装在辐照室中的辐照元件、以及安装在辐照室内侧壁上的多角度反射元件,辐照元件用于对多个放置组件上的物料进行辐照,多角度反射元件用于对辐照光源进行多角度反射,从而对物料进行均匀辐照;驱动机构,驱动机构活动安装在辐照室侧壁上,本发明能够有效的实现对物料的动态辐照固化效果,从而能够有效地提高辐照光源对物料的光固化效率及效果,相较于传统的辐照装置,本发明的实用性更佳。
  • 一种辐照装置
  • [发明专利]辐照系统-CN202110786848.1在审
  • 崔爱军;张立锋;朱志斌 - 中国原子能科学研究院
  • 2021-07-12 - 2021-10-01 - G21K5/00
  • 本发明的实施例公开了一种辐照系统。辐照系统包括:辐照装置,用于形成辐照辐照物的辐照区;束下传输系统,用于将被辐照物运输至辐照区;其中,辐照装置包括对称设置在束下传输系统两侧的第一加速器和第二加速器。采用辐照系统对被辐照物进行辐照杀菌,解决了如利用化学药剂杀菌存在的化学药剂残留的问题。
  • 辐照系统
  • [发明专利]光源辐照时长确定方法、装置、电子设备及介质-CN202110666451.9在审
  • 徐晓军 - 浙江宇视科技有限公司
  • 2021-06-16 - 2022-12-16 - G01M99/00
  • 本申请实施例公开了一种光源辐照时长确定方法、装置、电子设备及介质。该方法包括:确定目标光源的当前辐照强度;根据所述目标光源的当前辐照强度、所述目标光源的光衰曲线以及所需的辐照剂量,确定目标辐照强度;根据所述目标辐照强度,确定所述目标光源的辐照时长。上述方案能够考虑到目标光源的辐照强度随使用时间增加而减弱,从而基于目标光源的光衰曲线,根据当前辐照强度适应性地确定目标光源的辐照时长,解决了目标光源的辐照强度降低,而仍按照未降低的辐照强度确定辐照时长,导致难以实现理想的辐照效果的问题,从而根据辐照强度的变化适应性确定辐照时长,以实现理想的辐照效果,增强了目标光源辐照的有效性。
  • 光源辐照确定方法装置电子设备介质
  • [发明专利]对用于生产三维工件的设备的辐照系统进行校准的装置和方法-CN201980012459.4有效
  • 克里斯蒂亚娜·蒂尔 - SLM方案集团股份公司
  • 2019-02-05 - 2021-04-02 - B29C64/153
  • 提出了一种对用于生产三维工件的设备(14)的辐照系统(12)进行校准的装置(10),该辐照系统(12)包括第一辐照单元(16)和第二辐照单元(24),第一辐照单元用于沿着第一操作轴线(20)将第一辐照束(18)选择性地辐照辐照平面(22)上,第二辐照单元用于沿着第二操作轴线(28)将第二辐照束(26)选择性地辐照辐照平面(22)上,其中,该装置(10)包括:控制单元(30),其适于控制第一辐照单元(16)以根据辐照图案(32)将第一辐照束(18)辐照辐照平面(22)上,并适于控制第二辐照单元(24)以使第二操作轴线(28)相对于辐照平面(22)移位,使得第二操作轴线(28)穿过由第一辐照单元(16)产生的、到达辐照平面(22)上的辐照图案(32);和检测单元(34),其适于检测从辐照平面(22)上的碰撞点(36)的区域排放的处理排放物,第二辐照单元(24)的第二操作轴线(28)在该区域穿过辐照平面(34)输出的信号确定由第一辐照单元(16)产生的辐照图案(22)和第二辐照单元(24)的第二操作轴线(28)之间的至少一个相交点(38)的位置(X’s1,Y’s1);以及基于由第一辐照单元(16)产生的辐照图案
  • 用于生产三维工件设备辐照系统进行校准装置方法

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