专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种硅氮化HEMT器件及其制备方法-CN202310736872.3在审
  • 伊艾伦;欧欣;周民 - 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 2023-06-20 - 2023-09-05 - H01L21/335
  • 本公开涉及一种硅氮化HEMT器件及其制备方法,该方法包括:对N型导电碳化硅衬底进行离子注入;对离子注入后的N型导电碳化硅衬底的表面进行绝缘处理,得到绝缘处理后的N型导电碳化硅衬底;获取硅衬底;将硅衬底与绝缘处理后的N型导电碳化硅衬底进行键合,对键合后的复合衬底进行剥离处理,得到复合硅衬底;对复合硅衬底的表面进行绝缘处理,得到绝缘处理后的复合硅衬底;于绝缘处理后的复合硅衬底的表面外延氮化薄膜;于氮化薄膜的表面制备HEMT器件层,得到硅氮化HEMT器件。本公开的硅氮化HEMT器件制备方法,不仅可以降低制备成本,还可以扩大硅氮化HEMT器件的尺寸。
  • 一种氮化hemt器件及其制备方法
  • [发明专利]一种具有纳米二氧化钛层的LED芯片及制备方法-CN202010143031.8有效
  • 施光典 - 深圳市炬诠科技有限公司
  • 2020-03-04 - 2021-08-10 - H01L33/06
  • 本发明公开了一种具有纳米二氧化钛层的LED芯片,包括:蓝宝石基板,所述蓝宝石基板的上端设置有氮化成核层,所述氮化成核层的上端设置有N型氮化层,所述N型氮化层的上端一侧设置有多量子阱层,所述N型氮化层远离所述多量子阱层的上端一侧设置有N型电极及焊垫层,所述多量子阱层的上端设置有P型氮化,所述P型氮化的上端设置有Ni/Au反射层,所述Ni/Au反射层与P型氮化之间设置有二氧化钛层,所述Ni/Au反射层的上端设置有P型电极。有益效果:通过蓝光激发二氧化钛,进而进行杀菌除臭功能,使得LED芯片产品性能更好。
  • 一种具有纳米氧化led芯片制备方法
  • [发明专利]载流子浓度液态金属测量探头及其装置-CN202210858509.4在审
  • 王昕;叶灿明;王世进;李俊生 - 广州昆德半导体测试技术有限公司
  • 2022-07-20 - 2022-09-20 - G01R31/26
  • 本发明公开了一种载流子浓度液态金属测量探头,导电线连接碳化钨棒,碳化钨棒的一端伸入由抗腐蚀材料制成的液态金属容器中,液态金属容器开设有贯通的容腔和毛细管,容腔连通毛细管;所述容腔内部填注液态金属,液态金属浸没碳化钨棒,利用在毛细管内的液态金属形成测量探针,解决了探针安全性和环保的问题;该测量探针与测量样品为面接触,相比传统探针的点接触能够增大接触面积,使得测量数据的重复性好,提升了测量数据的准确度;使用诸如聚四氟乙烯等抗腐蚀材料的液态金属的容器及其毛细管,既不会被合金腐蚀,也不会与液态金属发生粘连,提升了液态金属的流动性,从而提升测量精度。
  • 载流子浓度液态金属测量探头及其装置
  • [实用新型]载流子浓度液态金属测量探头及其装置-CN202221882162.9有效
  • 王昕;叶灿明;王世进;李俊生 - 广州昆德半导体测试技术有限公司
  • 2022-07-20 - 2022-11-08 - G01R31/26
  • 本实用新型公开了一种载流子浓度液态金属探头,导电线连接碳化钨棒,碳化钨棒的一端伸入由抗腐蚀材料制成的液态金属容器中,液态金属容器开设有贯通的容腔和毛细管,容腔连通毛细管;所述容腔内部填注液态金属,液态金属浸没碳化钨棒,利用在毛细管内的液态金属形成测量探针,解决了探针安全性和环保的问题;该测量探针与测量样品为面接触,相比传统探针的点接触能够增大接触面积,使得测量数据的重复性好,提升了测量数据的准确度;使用诸如聚四氟乙烯等抗腐蚀材料的液态金属的容器及其毛细管,既不会被合金腐蚀,也不会与液态金属发生粘连,提升了液态金属的流动性,从而提升测量精度。
  • 载流子浓度液态金属测量探头及其装置
  • [发明专利]氮化半导体器件及其制作方法-CN201710795972.8有效
  • 李尚俊 - 英诺赛科(珠海)科技有限公司
  • 2017-09-06 - 2020-12-18 - H01L29/20
  • 本发明提供一种氮化半导体器件及其制作方法,氮化半导体器件包括基板,于所述基板上生长的缓冲层,于所述缓冲层上生长的非有意掺杂氮化层,于所述非有意掺杂氮化层上生长的通道层,于所述通道层上生长的扩散停止层,于所述扩散停止层上生长的P型掺杂氮化帽层。所述扩散停止层用来阻止所述P型掺杂氮化帽层中的掺杂物向所述通道层移动,从而保证所述P型掺杂氮化帽层中掺杂物的浓度,达到维持氮化半导体器件的增强特性有效。
  • 氮化半导体器件及其制作方法

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