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[发明专利]用于化学增强抗蚀剂的树脂-CN99122019.6无效
发明人：郑允植;玄胜一;崔容准;金良淑;金炫辰;金德倍;崔世振 -专利权人：东进化成工业株式会社
申请日： 1999-09-22 - 公布日： 2000-08-23 - 主分类号： C08F112/08 文献下载
摘要：本发明是涉及一种用于化学增强抗蚀剂的树脂以及含有这种树脂的抗蚀剂组合物。本发明的一个目的是提供可应用于化学增强抗蚀剂的新型树脂,这种抗蚀剂在光刻工艺中通过对远紫外光的感光可在胶片上形成超精细图案,并能提高后曝光延迟(PED)的安全性,还提供了相应的可涂布的抗蚀剂组合物。这种化学增强抗蚀剂包括所选的可碱性显影的聚合树脂,在光刻工艺中通过远紫外线作用,可在胶片上形成具有极高分辨率的精密图案。
用于化学增强抗蚀剂树脂

[发明专利]抗蚀剂组合物和图案化方法-CN201610272230.2有效
发明人：山田健司;渡边聪 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2016-04-28 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。通过将抗蚀剂组合物涂布到基材上，烘焙，将该抗蚀剂膜曝光，PEB，和在有机溶剂显影剂中显影，从而形成图案。该抗蚀剂组合物包括(A)PPD抑制剂、(B)适于在酸的作用下改变其在有机溶剂中的溶解性的聚合物、(C)光致产酸剂、和(D)有机溶剂。该抗蚀剂组合物确保以一致的方式形成图案，同时抑制起因于从PEB到显影的延迟的任何CD收缩和图案轮廓变化。
抗蚀剂组合图案方法

[发明专利]正型抗蚀剂组合物-CN201280030770.X有效
发明人：照井贵阳;森高;小森谷治彦 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2012-06-18 - 公布日： 2014-03-05 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的正型抗蚀剂组合物的特征在于，其含有含氟脂肪族醇、聚合物、乙烯基化合物和光产酸剂，含氟脂肪族醇为一元醇、所含有的碳原子数为2～8且氢原子的个数少于等于氟原子数的个数。关于该正型抗蚀剂组合物，溶解或溶胀等的对于有机材料的影响小，可以通过有机聚合物基板的湿式涂布形成抗蚀膜，且基板上形成的抗蚀膜、抗蚀图案显示优异的耐溶剂性。
正型抗蚀剂组合

[发明专利]抗蚀图案形成方法和半导体装置的制造方法-CN200710006163.0无效
发明人：菅长利文;塙哲郎;石桥健夫 -专利权人：株式会社瑞萨科技
申请日： 2007-01-31 - 公布日： 2007-08-08 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明提供改善了由于掩模图案的疏密差所产生的OPE特性、提高了图案的设计可靠性的抗蚀图案形成方法。该方法具有以下工序：在基板(7)上形成具有酸解离性溶解抑制基的抗蚀剂(1)的工序、将溶解在醇类溶剂中的酸性聚合物涂布在抗蚀剂上形成上层膜(6)的工序、通过掩模(3)进行曝光的工序、进行烘烤处理的工序、利用碱显影液
图案形成方法半导体装置制造

[发明专利]蚀刻方法-CN201380054561.3有效
发明人：中村纪和 -专利权人：株式会社御牧工程
申请日： 2013-10-09 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： C23F1/00 文献下载
摘要：一种蚀刻方法，其特征在于，作为解决手段，通过用腐蚀剂使对象物(11)的表面(11a)腐蚀来加工表面(11a)，其具备抗蚀膜形成步骤在表面(11a)喷墨印刷抗蚀液，从而在表面(11a)利用抗蚀液形成抗蚀膜(12)；表面腐蚀步骤通过使腐蚀剂接触在抗蚀膜形成步骤形成了抗蚀膜(12)的对象物(11)的表面(11a)侧，使表面(11a)中没有形成抗蚀膜(12)的部分腐蚀；和抗蚀膜剥离步骤在表面腐蚀步骤之后从表面(11a)剥离抗蚀膜(12)，抗蚀膜形成步骤是利用含有单官能单体或单官能低聚物和多官能单体或多官能低聚物的抗蚀液形成抗蚀膜(12)的步骤。
蚀刻方法

[发明专利]显影剂溶液及用法-CN200680043966.7有效
发明人：凤凯胜;丹尼尔·J·哈特 -专利权人：麦克德米德有限公司
申请日： 2006-08-28 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于抗蚀剂的显影的改良组合物和方法。所述方法包括将显影剂溶液与光敏抗蚀剂接触，所述显影剂溶液包含碱度来源以及阳离子表面活性剂，该表面活性剂为乙氧基化和/或丙氧基化牛油脂肪胺。所述改良过的显影剂溶液能更有效地从抗蚀剂涂布的表面上除去未固化的抗蚀剂。
显影剂溶液用法

[发明专利]薄膜构图方法及制造平板显示器件的方法和设备-CN200410070552.6有效
发明人：金容凡;金珍郁 -专利权人： LG.菲利浦LCD株式会社
申请日： 2004-08-06 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： G02F1/136 文献下载
摘要：根据本发明实施例的制造薄膜的方法和制造平板显示器件的方法和设备包括以下步骤：在基板上形成薄膜；在形成有所述薄膜的基板上涂布含有溶剂的抗蚀剂溶液；在具有所述抗蚀剂溶液的基板上对准软模；在所述溶剂的气化温度以下对所述抗蚀剂溶液进行第一热处理，同时对所述抗蚀剂溶液上的软模施压，从而在所述薄膜上形成抗蚀剂图案；将所述软模与所述抗蚀剂图案分离；通过第二热处理使所述抗蚀剂图案固化；以及利用所述抗蚀剂图案作为掩模对所述薄膜进行构图。
薄膜构图方法制造平板显示器件设备

[发明专利]抗蚀液涂敷方法和装置-CN200310104695.X无效
发明人：高森秀之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2003-10-27 - 公布日： 2004-06-02 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明的目的是抑制在被处理基板上涂敷的抗蚀液在干燥处理中的移动、保证抗蚀膜的膜厚均一性的抗蚀液涂敷方法和抗蚀液涂敷装置。抗蚀液喷嘴头154沿点划线A所示路线移动，对第1列至第3列依次进行涂敷扫描。更详细地说，沿Y方向穿过各个列的液晶板区域S移动，仅仅限定向各涂敷区域E(图中斜线部分)涂敷抗蚀液。从而，基板G的被处理面中，仅仅向与液晶板区域S分别对应的涂敷区域E以大致一定的膜厚涂敷了抗蚀液。基板周缘部和相邻接的涂敷区域E、E的间隙d中，残留有不存在抗蚀液膜的空区域。
抗蚀液涂敷方法装置

[发明专利]抗蚀剂剥离液控制装置-CN98108312.9无效
发明人：中川俊元;中川光元;小川修;西嶋佳孝;宝山隆博 -专利权人：株式会社平间理化研究所;长濑产业株式会社
申请日： 1998-05-12 - 公布日： 2003-05-14 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：一种在半导体制造工艺或液晶基板制造工艺中对用于剥离抗蚀剂的抗蚀剂剥离液进行控制的装置，其目的是将抗蚀剂剥离液的质量控制恒定，而且削减溶液使用量，减少停机时间并降低成本。该控制装置具有一个用于通过吸光光度计16测定抗蚀剂剥离液中溶解的抗蚀剂浓度并补给抗蚀剂剥离原液、羟胺溶液、纯水以及预先调配好的抗蚀剂剥离新液中至少一种的抗蚀剂浓度测定·液体补给装置；以及一个用于通过吸光光度计15测定抗蚀剂剥离液中的羟胺浓度并补给抗蚀剂剥离原液、羟胺溶液和纯水中至少一种的羟胺浓度测定·液体补给装置。
抗蚀剂剥离控制装置

[发明专利]一种氮化物外延生长用图形衬底的制作方法-CN201210109765.X无效
发明人：吴东海;刘刚;李志翔 -专利权人：南通同方半导体有限公司;同方股份有限公司
申请日： 2012-04-16 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明方法包括以下步骤：1）在衬底上均匀涂布一层抗蚀剂；2）将预先形成图形的压印模板压到抗蚀剂上；3）采用物理或者化学的方法使抗蚀剂硬化，并移除压印模板；4）对形成图形的抗蚀剂的表面实施灰化处理，去除部分抗蚀剂使得此部分的衬底暴露出来，抗蚀剂在衬底上形成抗蚀剂掩膜；5）将抗蚀剂上的图形转移到衬底上；6）去除抗蚀剂掩膜，完成对衬底的图形化制作。
一种氮化物外延生长图形衬底制作方法

[发明专利]抗蚀剂剥离液和抗蚀剂的剥离方法-CN201710610215.9有效
发明人：向喜广 -专利权人：长濑化成株式会社
申请日： 2017-07-25 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种抗蚀剂剥离液和抗蚀剂的剥离方法，所述抗蚀剂剥离液为用于将抗蚀剂从具备金属配线和/或金属氧化物膜的基材剥离的抗蚀剂剥离液，该抗蚀剂剥离液的剥离性优异，所剥离的抗蚀剂的再附着量少，消泡性也优异一种抗蚀剂剥离液，其特征在于，其含有(A)胺、(B)有机溶剂和(C)重均分子量为5000～1000000的磺酸或羧酸或者它们的盐，(C)成分的含量为5.0重量％以下，不含有(D)水，或者含有(D)水且(
抗蚀剂剥离方法

[发明专利]微细抗蚀图案形成用组合物以及使用了其的图案形成方法-CN201480010383.9有效
发明人：长原达郎;关藤高志;山本和磨;小林政一;佐竹升;石井雅弘 -专利权人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
申请日： 2014-03-14 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明提供一种可形成表面皲裂少的微细的负型光致抗蚀图案的组合物、以及使用该组合物的图案形成方法。一种组合物，其为微细图案形成用组合物，该微细图案形成用组合物在使用化学放大型正型光致抗蚀组合物而形成正型抗蚀图案的方法中，用于通过使抗蚀图案变粗而使图案微细化，其特征在于：包含在重复单元中包含氨基的聚合物可通过在显影后的正型光致抗蚀图案上涂布该组合物，并进行加热，从而形成微细的图案。
微细图案形成组合以及使用方法

[发明专利]处理液供给装置和处理液供给方法-CN201410512890.4有效
发明人：高栁康治;吉原孝介;寺下裕一;古庄智伸;佐佐卓志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-09-29 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明提供在自喷出嘴(7)喷出作为处理液的抗蚀液(L)时能够抑制生产率的降低并能够使用一个过滤器(52)来谋求该抗蚀液L的清洁化的处理液供给装置和处理液供给方法。在供抗蚀液(L)流通的供给管路(51)上设置过滤器(52)和泵(70)或泵(111、112)。并且，使通过过滤器(52)后的抗蚀液(L)的一部分自喷出嘴(7)喷出并使余下的抗蚀液(L)返回到过滤器(52)的初级侧，在进行后续的喷出动作时，使该余下的抗蚀液(L)再次通过过滤器(52)。在这样的动作序列中，返回到过滤器(52)的初级侧的抗蚀液(L)的返回量设定为与自喷出嘴(7)喷出的抗蚀液(L)的供给量相同或多于该供给量。
抗蚀液过滤器喷出自喷处理液供给装置处理液供给供给量返回动作序列供给管路处理液清洁化流通

[发明专利]掩膜坯料的制造方法及光掩膜的制造方法-CN200810090895.7有效
发明人：浅川敬司;宫田凉司 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2008-04-09 - 公布日： 2008-10-15 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种带有抗蚀膜的掩膜坯料的制造方法，其包括抗蚀剂涂敷，在该抗蚀剂涂敷工序中，从具有向一方向延伸的抗蚀液供给口的涂敷喷嘴喷出抗蚀液，同时沿与所述一方向交差的方向使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面相对移动，在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀液。在本制造方法中，尤其是，涂敷后的抗蚀剂的干燥从相对于抗蚀剂的涂敷膜表面平行的方向供给清洁气体而进行。
坯料制造方法光掩膜

[发明专利]基板处理装置及送液装置-CN200410028733.2有效
发明人：高木善则;福地毅;北泽裕之;安藤美奈子 -专利权人：大日本屏影象制造株式会社
申请日： 2004-03-12 - 公布日： 2004-09-22 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：提供一种不产生颗粒，将处理液高精度地送液的装置。在将抗蚀剂液(处理液)向狭缝喷嘴(41)送液的送液机构(80)中设有抗蚀剂液泵(81)和驱动机构(82)。此外，在抗蚀剂液泵(81)上设有小直径的第1波纹管、大直径的第2波纹管、第1波纹管与第2波纹管的结合部件及构成抗蚀剂液的流路的管。通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积减少，管内的抗蚀剂液被向狭缝喷嘴(41)送液。此外，通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积增加，将抗蚀剂液向抗蚀剂液泵(81)吸引。
处理装置

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