专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]含不饱和键的硅烷化合物的精制方法和制造方法-CN202110901549.8在审
  • 矶野芳美;近藤良介;三浦雅大;森高;高桥干弘 - 中央硝子株式会社
  • 2017-09-27 - 2021-11-30 - C07F7/08
  • 本发明为含不饱和键的硅烷化合物的精制方法和制造方法及其组合物。目的在于提供能够由包含四氢呋喃和含不饱和键的硅烷化合物的混合物获得高纯度的含不饱和键的硅烷化合物的精制方法。使用含不饱和键的硅烷化合物的精制方法,其特征在于,对下述通式(1)所示的至少1种含不饱和键的硅烷化合物与四氢呋喃与沸点高于前述含不饱和键的硅烷化合物和四氢呋喃的高沸点溶剂的混合物进行蒸馏。Si(R1)x(R2)4‑x(1)〔通式(1)中,R1分别相互独立地表示具有碳‑碳不饱和键的基团。R2分别相互独立地选自氟基、碳数为1以上且10以下的直链或支链状的烷基,前述烷基任选具有氟原子和/或氧原子。x为2以上且4以下的整数。〕。
  • 不饱和硅烷化合物精制方法制造
  • [发明专利]含不饱和键的硅烷化合物的精制方法和制造方法-CN201710892548.5有效
  • 矶野芳美;近藤良介;三浦雅大;森高;高桥干弘 - 中央硝子株式会社
  • 2017-09-27 - 2021-07-09 - C07F7/08
  • 本发明为含不饱和键的硅烷化合物的精制方法和制造方法及其组合物。目的在于提供能够由包含四氢呋喃和含不饱和键的硅烷化合物的混合物获得高纯度的含不饱和键的硅烷化合物的精制方法。使用含不饱和键的硅烷化合物的精制方法,其特征在于,对下述通式(1)所示的至少1种含不饱和键的硅烷化合物与四氢呋喃与沸点高于前述含不饱和键的硅烷化合物和四氢呋喃的高沸点溶剂的混合物进行蒸馏。Si(R1)x(R2)4‑x(1)〔通式(1)中,R1分别相互独立地表示具有碳‑碳不饱和键的基团。R2分别相互独立地选自氟基、碳数为1以上且10以下的直链或支链状的烷基,前述烷基任选具有氟原子和/或氧原子。x为2以上且4以下的整数。〕。
  • 不饱和硅烷化合物精制方法制造
  • [发明专利]二氟磷酸锂的制造方法-CN201711248792.4有效
  • 森高;神代将克;西村夏哉 - 中央硝子株式会社
  • 2017-12-01 - 2021-02-23 - C01B25/455
  • 本发明涉及二氟磷酸锂的制造方法。目的在于提供:减少杂质的混入、且工业上制造对提高非水电解液电池的性能有效的添加剂即二氟磷酸锂的方法。使用二氟磷酸锂的制造方法,其特征在于,所述制造方法具备:反应工序,使LiPF6与水与以下通式(1)所示卤化物在非水溶剂中反应;添加工序,在反应工序后的溶液中添加氟化氢;和,脱气工序,对添加工序后的溶液进行脱气处理。RpSiXq(1)(通式(1)中,R分别独立地为碳数1~10的任选具有杂原子、卤素原子的烃基(碳数为3以上时,也能使用支链或环状结构的烃基)。X分别独立地为选自由Cl、Br和I组成的组中的任意1种。p表示1~3的整数、q表示1~3的整数,p+q=4)。
  • 磷酸制造方法
  • [发明专利]正型抗蚀剂组合物-CN201280030770.X有效
  • 照井贵阳;森高;小森谷治彦 - 中央硝子株式会社
  • 2012-06-18 - 2014-03-05 - G03F7/004
  • 本发明的正型抗蚀剂组合物的特征在于,其含有含氟脂肪族醇、聚合物、乙烯基化合物和光产酸剂,含氟脂肪族醇为一元醇、所含有的碳原子数为2~8且氢原子的个数少于等于氟原子数的个数。关于该正型抗蚀剂组合物,溶解或溶胀等的对于有机材料的影响小,可以通过有机聚合物基板的湿式涂布形成抗蚀膜,且基板上形成的抗蚀膜、抗蚀图案显示优异的耐溶剂性。
  • 正型抗蚀剂组合

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