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[发明专利]显影方法和显影装置-CN201510566734.0有效
发明人：竹口博史;寺下裕一;下青木刚;吉原孝介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-09-08 - 公布日： 2020-03-10 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明的目的是在对曝光后的基板进行显影处理时，提高基板的面内的抗蚀剂图案的线宽的均匀性。进行显影处理，包括以下步骤：使用具有显影液的排出口和形成得比上述基板的表面小的接触部的显影液喷嘴，在上述基板的中央部使上述接触部与基板的表面相对的步骤；接着，从上述显影液喷嘴的排出口向基板的表面排出显影液，从上述接触部看时使显影液溢出到比该接触部的外缘靠外侧的位置而形成积液的步骤；和像这样维持显影液溢出的状态，一边从上述排出口向正在旋转的基板排出显影液，一边使上述显影液喷嘴从基板的中央部向周缘部移动而将上述积液扩展到基板的整个面的步骤。
显影方法装置

[发明专利]用于旋转涂布中的缺陷控制的盖板-CN201480077666.5有效
发明人：德里克·W·巴塞特;华莱士·P·普林茨;乔舒亚·S·霍格;一野克宪;寺下裕一;吉原孝介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-02-24 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明公开的技术提供一种如下的旋转涂布设备和旋转涂布方法：其抑制湍流流动导致的风痕和其他缺陷的形成，从而允许较高的旋转速度和减少的干燥时间，同时保持膜均匀性。本发明公开的技术包括定位在或悬吊在晶片或其他衬底的表面的上方的流体流动构件，如环或盖。该流体流动构件的径向曲率能够防止在晶片的涂布和旋转干燥处理期间的旋转过程中形成风痕。
用于旋转中的缺陷控制盖板

[发明专利]显影方法和显影装置-CN201510436986.1有效
发明人：井关智弘;竹口博史;寺下裕一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-07-23 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供使面内线宽分布的均匀性提高的显影方法。本发明提供一种显影方法，将配置于晶片(W)的表面(Wa)上且被曝光了的抗蚀剂膜(R)显影而形成抗蚀剂图案，该显影方法包括：使晶片(W)绕在与水平地保持的晶片(W)的表面(Wa)正交的方向上延伸的旋转轴旋转，并且从位于晶片(W)的上方的液体接触部件(N)的排出口(Na)将显影液(L)排出到抗蚀剂膜(R)上，使显影液(L)遍布于抗蚀剂膜(R)的表面上的步骤；和将具有与晶片(W)的表面(Wa)相对的下端面(Nb)的液体接触部件(N)配置于作为晶片(W)的表面(Wa)之中在先从液体接触部件(N)进行了显影液(L)的供给的区域的在先区域的上方的步骤。
显影方法装置

[发明专利]显影方法和显影装置-CN201510336734.1有效
发明人：竹口博史;井关智弘;寺下裕一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-06-17 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成CD分布均匀性足够高的抗蚀剂的显影方法。本发明涉及的显影方法，其用于对基板表面上的曝光后的抗蚀剂膜进行显影来形成抗蚀剂图案，依序具有如下步骤：(A)向旋转的基板供给显影液的步骤；(B)使抗蚀剂膜与显影液反应的步骤；和(C)为了使抗蚀剂膜与显影液的反应停止而从抗蚀剂膜表面除去显影液的步骤，在(A)步骤中，使用接液喷嘴，该接液喷嘴具有显影液的排出口和从排出口在横向扩展且与抗蚀剂膜相对的面，并且在(C)步骤中，使除去了显影液的抗蚀剂膜表面的反应停止区域和与显影液的反应持续进行的抗蚀剂膜表面的反应进行区域的边界从抗蚀剂膜的中心部向周缘部移动。
显影方法装置

[发明专利]处理液供给装置和处理液供给方法-CN201410514563.2有效
发明人： 寺下裕一;吉原孝介;高柳康治;古庄智伸;佐佐卓志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-09-29 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种处理液供给装置和处理液供给方法，使得不浪费地消耗处理液，有效地抑制处理液中的颗粒的增加。该处理液供给装置包括：供给用于对被处理体进行处理的处理液的处理液供给源；经由供给路径与上述处理液供给源连接，向被处理体排出上述处理液的排出部；设置于上述供给路径，用于除去处理液中的异物的过滤器装置；分别设置于上述供给路径中的过滤器装置的初级侧和次级侧的供给泵和排出泵；和控制部，其输出控制信号，使得使用上述供给泵和排出泵中的至少一个对从上述处理液供给源供给的处理液进行减压而使其脱气，接着使用上述供给泵和排出泵使脱气后的处理液从上述过滤器装置的初级侧经由该过滤器装置流通至次级侧。
处理供给装置方法

[发明专利]处理液供给装置和处理液供给方法-CN201410512890.4有效
发明人：高栁康治;吉原孝介;寺下裕一;古庄智伸;佐佐卓志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-09-29 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明提供在自喷出嘴(7)喷出作为处理液的抗蚀液(L)时能够抑制生产率的降低并能够使用一个过滤器(52)来谋求该抗蚀液L的清洁化的处理液供给装置和处理液供给方法。在供抗蚀液(L)流通的供给管路(51)上设置过滤器(52)和泵(70)或泵(111、112)。并且，使通过过滤器(52)后的抗蚀液(L)的一部分自喷出嘴(7)喷出并使余下的抗蚀液(L)返回到过滤器(52)的初级侧，在进行后续的喷出动作时，使该余下的抗蚀液(L)再次通过过滤器(52)。在这样的动作序列中，返回到过滤器(52)的初级侧的抗蚀液(L)的返回量设定为与自喷出嘴(7)喷出的抗蚀液(L)的供给量相同或多于该供给量。
抗蚀液过滤器喷出自喷处理液供给装置处理液供给供给量返回动作序列供给管路处理液清洁化流通

[发明专利]显影方法和显影装置-CN201510556969.1有效
发明人： 寺下裕一;竹口博史;下青木刚;吉原孝介;井关智弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-09-02 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供能够在利用显影液对曝光后的基板进行显影时对基板的面内的显影的进展程度而言有助于面内均匀性的提高的显影方法等。对被水平保持于可旋转的基板保持部的曝光后的基板，使用具有与上述基板相对地设置的接触部的第一显影液喷嘴，在基板的表面的一部分形成积液，使第一显影液喷嘴在旋转的基板的上方移动而将积液扩展到基板的整个表面，进行显影处理。而且，在进行该显影处理之前或之后，为了使基板的面内的显影的进展程度的分布均匀，在使基板旋转的状态利用第二显影液喷嘴对基板的表面供给显影液，之后，来自第一、第二显影液喷嘴的显影液的供给在从基板表面除去先前供给的显影液之后进行。
显影方法装置

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201310713222.3有效
发明人：高栁康治;领川幸江;吉田勇一;吉原孝介;寺下裕一;古庄智伸;佐佐卓志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-12-20 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置和液处理方法。利用一个过滤器得到与设有多个过滤器时相同的过滤效率并谋求防止生产率降低。根据来自控制部（101）的控制信号，将抗蚀剂液（L）经由过滤器（52）吸入到泵（70）内，将被吸入到泵内的抗蚀剂液的一部分自喷射嘴（7）喷射，使余下的抗蚀剂液返回到供给管路（51b）中的位于过滤器的初级侧的部分，将与喷射量相等的补充量加入到返回量中而进行合成，对合成后的抗蚀剂液以与喷射量和返回量之比的合成相应的次数进行抗蚀剂液的喷射和由过滤器进行的过滤。
处理装置方法

[发明专利]液体处理装置和液体处理方法-CN201511001407.7有效
发明人：吉原孝介;一野克宪;古庄智伸;佐佐卓志;土屋胜裕;寺下裕一;竹口博史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-02-22 - 公布日： 2017-09-08 - 主分类号： B01D19/00 文献下载
摘要：本发明提供与对被处理基板供给处理液的处理液供给喷嘴连接的液体处理装置，其包括将处理液存储容器和该处理液供给喷嘴连接的供给管路；设置于供给管路的过滤器装置；过滤器装置的二次侧的泵；将泵的排出侧和过滤器装置的吸入侧连接的循环管路；在泵的二次侧的供给管路设置的供给控制阀；在循环管路设置的循环控制阀；和控制泵、供给控制阀和循环控制阀的控制装置，利用控制装置，使得通过关闭供给控制阀使从该处理液供给喷嘴向被处理基板的处理液的供给停止时，打开循环控制阀，驱动泵，使处理液在具有过滤器装置的供给管路与循环管路之间循环。
液体处理装置方法

[发明专利]液体处理装置和液体处理方法-CN201380011195.3有效
发明人：吉原孝介;一野克宪;古庄智伸;佐佐卓志;土屋胜裕;寺下裕一;竹口博史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-02-22 - 公布日： 2014-11-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供与对被处理基板供给处理液的处理液供给喷嘴连接的液体处理装置，其包括：将处理液存储容器和该处理液供给喷嘴连接的供给管路；设置于供给管路的过滤器装置；过滤器装置的二次侧的泵；将泵的排出侧和过滤器装置的吸入侧连接的循环管路；在泵的二次侧的供给管路设置的供给控制阀；在循环管路设置的循环控制阀；和控制泵、供给控制阀和循环控制阀的控制装置，利用控制装置，使得通过关闭供给控制阀使从该处理液供给喷嘴向被处理基板的处理液的供给停止时，打开循环控制阀，驱动泵，使处理液在具有过滤器装置的供给管路与循环管路之间循环。
液体处理装置方法

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