“株式会社平间理化研究所”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果42个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]固体粒子回收去除装置及液体、溶液、蚀刻液的管理装置-CN201510419019.4有效
发明人：中川俊元;白井浩之 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2015-07-16 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本发明提供节省空间且能够缩短处理时间的固体粒子回收去除装置、具备该固体粒子回收去除装置的液体管理装置以及蚀刻液管理装置。该固体粒子回收去除装置具备：壳体(35)，其形成为筒状；中心轴(36a)，其设置在壳体(35)内；螺杆叶片(36b)，其以接近壳体(35)的内壁的方式呈螺旋状地设置在中心轴(36a)的周围；流入口，其供给包含固体粒子的液体；排出口，其排出包含固体粒子的液体；固体粒子排出管，其将固体粒子从壳体排出，固体粒子排出管设置为比流入口以及流出口靠上方侧，壳体(35)以具有规定的角度的方式配置，电动机(37)使螺杆叶片(36b)旋转，由此将液体中的固体粒子从壳体(35)内的液体中向固体粒子排出管输送而排出。
固体粒子回收去除装置液体管理蚀刻

[发明专利]蚀刻液管理装置及方法、以及蚀刻液的成分浓度测定方法-CN201410601727.5有效
发明人：中川俊元;白井浩之 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2014-10-31 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种将草酸系蚀刻液的作为蚀刻液的性能维持/管理成大致固定并抑制固体粒子的析出的蚀刻液管理装置及方法、以及蚀刻液的成分浓度测定方法。该蚀刻液管理装置具备：电导率计(17)，其对蚀刻液的电导率值进行测定；密度计(18)，其对蚀刻液的密度值进行测定；补充液输送控制机构，其基于蚀刻液的草酸浓度与电导率值之间的相关关系和电导率计(17)的测定结果、以及蚀刻液的溶解金属浓度与密度值之间的相关关系和密度计(18)的测定结果，来控制向蚀刻液补给的补充液的输送。
蚀刻管理装置方法以及成分浓度测定

[发明专利]显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统-CN201711234540.6在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供最适于将基板的显影所使用的显影液管理为最佳的状态的服务的显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统。基板处理系统中，显影液的浓度管理装置(B)、显影处理装置(A)、调制显影液的新液的调制装置(E)、对使用后的显影液进行再生的再生装置(F)由配管连接。显影液的浓度管理装置(A)测定显影处理装置(B)的显影液的物性或者成分浓度并供给显影液的原液或新液、再生液，从而将显影液管理为最佳的浓度。所供给的补充液由设于配管的累计流量计(151、152、153、154、155)计测。能够基于由累计流量计(151、152、153、154、155)计测出的补充液的累计流量来计算显影液的浓度管理的费用或基板的显影处理费用。
显影液浓度管理基板流量计显影处理系统显影处理装置补充液配管新液基板处理系统物性调制装置累计流量显影处理再生装置再生液计测显影原液调制再生管理服务

[发明专利]基板处理装置的药液管理系统、费用的计算方法及系统-CN201711234841.9在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供最适于将基板制造所使用的药液管理为最佳状态的服务的基板处理装置的药液管理系统、基板处理装置的药液管理费用的计算方法、及基板处理装置的药液管理费用计算系统。在基板处理装置的药液管理系统中，通过配备有累计流量计的配管将基板处理装置与调制药液的新液的药液调制装置、对使用后的药液进行再生的药液再生装置等连接。浓度管理装置测定基板处理装置的药液的浓度，补充药液的原液或新液、再生液，将药液始终管理为最佳的浓度。所供给的补充液的累计流量由累计流量计来计测。累计流量计与网络直接连接。
基板处理装置药液管理流量计新液计算方法及系统费用计算系统测定基板处理装置调制装置基板制造累计流量浓度管理再生装置补充液再生液计测配管原液调制再生配备补充网络服务管理

[发明专利]药液的浓度管理装置、再生装置、费用的计算方法及系统-CN201711232617.6在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： G06Q30/02 文献下载
摘要：本发明提供在对用于制造半导体、液晶显示器基板的药液浓度进行管理的服务提供中使用的浓度管理装置及在对药液进行再生处理的服务提供中使用的药液再生装置、及使用这些装置而提供的服务提供所涉及的费用的计算方法及系统。浓度管理装置(1)在补给补充液的配管配备有累计流量计(51～53)。药液再生装置(2)在供给再生药液的配管配备有累计流量计(54)。药液的浓度管理或再生处理的费用基于由累计流量计计测出的规定期间内的累计流量而算出。累计流量计(221～225)具备通信功能而与网络(201)连接。累计流量经由网络由服务器系统(202)接收并存储。服务器系统(202)具备按照每个累计流量计并基于规定期间的累计流量而计算费用的计算部(205)。
流量计浓度管理服务提供累计流量再生装置计算方法及系统服务器系统再生处理配管液晶显示器基板通信功能再生药液补充液计算部配备半导体补给存储网络制造管理

[发明专利]基板处理系统以及基板的处理费用计算系统-CN201711232549.3在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-12-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供适合于将基板制造所使用的药液管理为最佳状态的服务的基板处理系统及其费用的计算系统。在基板处理系统中，通过配管将基板处理机构(1)、调制药液的新液的药液调制机构(3)、对使用后的药液进行再生的药液再生机构(4)等连接。药液管理机构(2)测定基板处理机构的药液的浓度并补充药液的原液、新液、再生液，将药液管理为最佳浓度。所供给的补充液由配备于配管的累计流量计(51～55)计测。在基板的处理费用计算系统(5)中，具有通信功能的累计流量计和服务器系统(502)与网络(501)连接。累计流量经由网络由服务器系统接收并存储。服务器系统具备按照每个累计流量计并基于规定期间的累计流量计算费用的运算部(505)。
流量计基板处理系统服务器系统药液管理费用计算系统累计流量基板配管新液调制基板处理机构测定基板处理机构基板制造计算系统通信功能再生机构补充液运算部再生液计测原液存储网络再生配备补充服务

[实用新型]基板处理系统以及基板的处理费用计算系统-CN201721633186.X有效
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供适合于将基板制造所使用的药液管理为最佳状态的服务的基板处理系统及其费用的计算系统。在基板处理系统中，通过配管将基板处理机构(1)、调制药液的新液的药液调制机构(3)、对使用后的药液进行再生的药液再生机构(4)等连接。药液管理机构(2)测定基板处理机构的药液的浓度并补充药液的原液、新液、再生液，将药液管理为最佳浓度。所供给的补充液由配备于配管的累计流量计(51～55)计测。在基板的处理费用计算系统(5)中，具有通信功能的累计流量计和服务器系统(502)与网络(501)连接。累计流量经由网络由服务器系统接收并存储。服务器系统具备按照每个累计流量计并基于规定期间的累计流量计算费用的运算部(505)。
流量计基板处理系统服务器系统药液管理费用计算系统累计流量基板配管新液调制基板处理机构本实用新型测定基板处理机构基板制造计算系统通信功能再生机构补充液运算部再生液计测原液存储网络再生配备补充服务

[发明专利]显影液的二氧化碳浓度显示装置及显影液管理装置-CN201711232810.X在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G01N9/36 文献下载
摘要：本发明提供显影液的二氧化碳浓度显示装置及显影液管理装置。它们具备密度仪，用于测定显影液的密度。与碱成分等其它成分的浓度无关地在显影液的密度与吸收二氧化碳浓度之间具有良好的对应关系。二氧化碳浓度显示装置基于密度的测定值，根据显影液的密度与吸收二氧化碳浓度的对应关系算出吸收二氧化碳浓度，利用显示机构显示吸收二氧化碳浓度。显影液管理装置使用显影液的密度与吸收二氧化碳浓度的对应关系，基于显影液的测定出的密度值或算出的吸收二氧化碳浓度值，以使显影液的吸收二氧化碳浓度成为规定的管理值或管理值以下的方式向显影液补给补充液，由此管理显影液的吸收二氧化碳浓度，利用显示机构显示吸收二氧化碳浓度。
二氧化碳显影液吸收显影液管理装置浓度显示装置显示机构补充液密度仪补给管理

[发明专利]显影液的成分浓度测定装置及显影液管理装置-CN201711232431.0在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G01N27/06 文献下载
摘要：本发明提供根据显现碱性的显影液的特性值来精度良好地算出显影液的碱成分、溶解的光致抗蚀剂、吸收的二氧化碳等各成分的浓度的显影液的成分浓度测定装置、以及将显影液的显影性能维持并管理成最佳的状态的显影液管理装置。显影液的成分浓度测定装置具备：对与反复使用且显现碱性的显影液的成分浓度具有关联的显影液的多个特性值进行测定的测定部(1)；基于由测定部测定出的多个特性值并利用多变量解析法来算出显影液的成分浓度的运算部(2)；以及显示由测定部(1)测定出的所述特性值及由运算部(2)算出的成分浓度中的至少任一方的显示部(DP)。
显影液成分浓度测定装置显影液管理装置运算部光致抗蚀剂显影性能多变量解析法二氧化碳溶解关联吸收管理

[发明专利]显影装置-CN201711232616.1在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G03D3/00 文献下载
摘要：本发明提供能够对被显现碱性的显影液吸收的二氧化碳的浓度进行测定并对显现碱性的显影液的吸收二氧化碳的浓度进行管理的显影装置。显影装置具备：显影液调制装置，其将包含显现碱性的显影液的主成分的显影原液与纯水混合，调制出浓度被设定好的所述显影液作为显影新液；显影新液用管路，其输送从所述显影液调制装置向反复使用的所述显影液补给的所述显影新液；显影原液用管路，其输送向所述反复使用的所述显影液补给的所述显影原液；纯水用管路，其输送向所述反复使用的所述显影液补给的纯水；以及显影液管理装置，其将所述反复使用的所述显影液管理为规定的成分浓度或者规定的浓度范围。
显影液显影原液显影装置显影新液补给调制装置二氧化碳显影液管理装置吸收调制管理

[发明专利]显影装置-CN201711234725.7在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G03D3/00 文献下载
摘要：本发明提供能够维持所期望的显影性能并维持基板上的布线图案的所期望的线宽及剩余膜厚的显影装置。显影装置具备：显影液调制装置，其将包含显现碱性的显影液的主成分的显影原液与纯水混合，而调制浓度被设定好的所述显影液作为显影新液；显影新液用管路，其输送从所述显影液调制装置向反复使用的所述显影液补给的所述显影新液；显影原液用管路，其输送向所述反复使用的所述显影液补给的所述显影原液；纯水用管路，其输送向所述反复使用的所述显影液补给的纯水；以及显影液管理装置，其以使所述反复使用的所述显影液的碱成分浓度或所述显影液的导电率成为规定的管理值或落入规定的管理范围的方式进行管理。
显影液显影原液显影装置显影新液补给调制装置显影液管理装置布线图案显影性能导电率期望基板膜厚线宽调制管理

[发明专利]显影液的浓度监视装置及显影液管理装置-CN201711232546.X在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供根据显现碱性的显影液的特性值来精度良好地算出显影液的碱成分、溶解的光致抗蚀剂、吸收的二氧化碳等各成分的浓度的浓度监视装置、以及将显影液的显影性能维持并管理成最佳的状态的显影液管理装置。显影液的浓度监视装置(A)具备：对与反复使用且显现碱性的显影液的成分浓度具有关联的显影液的多个特性值进行测定的测定部(1)；基于由测定部(1)测定出的多个特性值并利用多变量解析法来算出显影液的成分浓度的运算部(2)；以及在由运算部(2)算出的成分浓度中的至少任一方偏离设定的管理范围时发出警报的警报机构(WD)。
显影液浓度监视显影液管理装置运算部光致抗蚀剂警报机构显影性能多变量解析法二氧化碳警报偏离溶解关联管理吸收

[发明专利]显影液管理装置-CN201711232620.8在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供能够实现可维持期望的显影性能且可维持基板上的布线图案的期望的线宽及剩余膜厚的显影处理的显影液管理装置。显影液管理装置具备控制机构及显示机构，控制机构具备：数据存储部，存储有导电率数据，该导电率数据按照以反复使用且显现碱性的显影液的溶解光致抗蚀剂浓度及吸收二氧化碳浓度为指标而确定的浓度区域，具有预先确认了实现规定的显影性能的所述显影液的导电率值；及控制部，将所确定的浓度区域的导电率值作为控制目标值，以使显影液的导电率成为控制目标值的方式向控制阀发送控制信号，显示机构显示从显影液获得的导电率值、碱成分浓度值、溶解光致抗蚀剂浓度值及吸收二氧化碳浓度值中的至少导电率值及碱成分浓度值的任一方。
导电率显影液显影液管理装置光致抗蚀剂浓度区域显示机构显影性能二氧化碳溶解数据存储部布线图案发送控制显影处理控制阀期望基板膜厚吸收线宽存储

[发明专利]显影装置-CN201711232806.3在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供能根据显影液的特性值来精度良好地算出显现碱性的显影液的碱成分、溶解的光致抗蚀剂、吸收的二氧化碳等各成分的浓度，能够将显影液的显影性能维持并管理成最佳状态的显影装置。显影装置具备：显影液调制装置，其将包含显现碱性的显影液的主成分的显影原液与纯水混合而调制浓度被设定好的显影液作为显影新液；显影新液用管路，其输送从显影液调制装置向反复使用的显影液补给的显影新液；显影原液用管路，其输送向反复使用的显影液补给的显影原液；纯水用管路，其输送向反复使用的显影液补给的纯水；显影液管理装置，其以使反复使用的显影液的成分浓度或与成分浓度具有关联的特性值成为规定的管理值或落入规定的管理范围的方式进行管理。
显影液显影原液显影装置显影新液补给调制装置显影液管理装置光致抗蚀剂管理显影性能二氧化碳调制溶解关联吸收

[发明专利]显影液的浓度监视装置及显影液管理装置-CN201711232885.8在审
发明人：中川俊元 -专利权人： 株式会社平间理化研究所
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供显影液的浓度监视装置及显影液管理装置。它们具备密度仪，用于测定显影液的密度。与碱成分等其它成分的浓度无关地在显影液的密度与吸收二氧化碳浓度之间具有良好的对应关系。浓度监视装置基于密度的测定值，根据显影液的密度与吸收二氧化碳浓度的对应关系算出吸收二氧化碳浓度。警报机构在由运算机构算出的显影液的吸收二氧化碳浓度值偏离预先设定的管理范围时发出警报。显影液管理装置使用显影液的密度与吸收二氧化碳浓度的对应关系，基于显影液的测定出的密度值或算出的吸收二氧化碳浓度值，以使显影液的吸收二氧化碳浓度成为规定的管理值或管理值以下的方式向显影液补给补充液，由此管理显影液的吸收二氧化碳浓度。
显影液二氧化碳吸收显影液管理装置浓度监视管理警报机构运算机构补充液密度仪补给警报偏离

1
2
3
下一页»
尾页
共 42 条