“机掩膜版”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果4603304个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]一种镀膜装置-CN202320114504.0有效
发明人：金海俊;任海峰;汪洋;李爽;余龙;吕启蒙 -专利权人：光驰科技（上海）有限公司
申请日： 2023-01-18 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：镀膜装置包括工件盘、驱动组件、掩膜版和镀膜源，工件盘设有用于容置基板单元的基板孔，驱动组件能够驱动基板单元绕基板孔的中心转动，基板单元投影于掩膜版，掩膜版设于基板单元和镀膜源之间，掩膜版包括镂空区和多个掩膜区，多个掩膜区设于掩膜版的周部，镂空区包括圆形部和设于圆形部外沿的多个凸出部，掩膜区设于相邻凸出部之间。本实用新型的镀膜装置，可以实现对基板孔沿径向方向对基板进行镀膜，能够适用于不同尺寸大小的基板，以及实现不同渐变梯度，适用性强；掩膜版的设计方法简单、可靠，可以保证渐变镀膜的均匀性。
一种镀膜装置

[发明专利]掩膜版及其制造方法和彩色滤光片的制造方法-CN201810390317.9在审
发明人：姚园 -专利权人：东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司
申请日： 2018-04-27 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及液晶显示技术领域，公开了一种掩膜版及其制造方法和彩色滤光片的制造方法，所述掩膜版包括玻璃基板和设置于所述玻璃基板上的薄膜层，所述薄膜层包括透光薄膜本体和形成于所述透光薄膜本体上的黑色不透光图案；所述彩色滤光片的制造方法在黑色矩阵制造过程可以选择使用所述掩膜版来代替现有使用的Cr掩膜版，在RGB制造过程中，将采用上述掩膜版生产出来的含黑色矩阵的玻璃基板作为RGB制造过程中的掩膜版，从而有效降低Cr掩膜版的使用数量，降低彩色滤光片的制造成本并减少对环境的污染。
掩膜版彩色滤光片玻璃基板制造过程制造黑色矩阵透光薄膜薄膜层液晶显示技术制造成本不透光图案污染生产

[发明专利]集成电路掩膜版版图，图形修正方法及其掩膜版-CN202111390500.7在审
发明人：陈柏翰;曾鼎程;胡展源 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种集成电路掩膜版版图，所述掩膜版版图中包扩多条有源区图形和多条密封环图形；所述有源区图形与掩膜版版图的水平方向平行；所述密封环图形与掩膜版版图的水平方向呈一夹角；若干条有源区图形构成一组，共形成多组有源区图形；每组有源区图形与临近的对准标记对应，并且同一组有源区图形中每条有源区图形靠近密封环图形一侧的边缘沿掩膜版版图的竖直方向齐平。与现有技术相比，通过本发明提供的掩膜版版图及采用该版图制成的掩膜版，在集成电路制造过程中，能够获得更好的工艺窗口。
集成电路掩膜版版图图形修正方法及其

[发明专利]掩膜版异物清除方法及掩膜版异物清除装置-CN201510341886.0有效
发明人：胡友元 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2015-06-18 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及半导体元器件制造技术，尤其涉及掩膜版异物清除方法，包括：提供一具有开孔的掩膜版，其中所述掩膜版具有第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面；将所述掩膜版置于一预定位置；控制第一镭射模块清除所述第一表面的异物及所述开孔中的异物通过第一镭射模块和第二镭射模块对掩膜版的第一表面和第二表面、开孔分别进行镭射处理，去除掩膜版上的异物。采用此种方式，能够对掩膜版第二表面的异物进行去除，提高AMOLED产品的成品率。
掩膜版异物清除方法装置

[发明专利]光栅器件掩膜版及制造方法-CN202010989082.2有效
发明人：陈宏;王卉;曹子贵;杨辉 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：本发明提供一种光栅器件掩膜版及制造方法，所述光栅器件掩膜版包括：单元掩膜版和对准标记掩膜版，所述单元掩膜版包括多个单元图形和多个切割道图形，多个所述切割道图形分别形成于多个所述单元图形周围，以隔离多个所述单元图形所述对准标记掩膜版包括多个对准标记图形，所述对准标记图形对准所述切割道图形，并与所述单元图形相间隔。在光栅器件的制造方法中，采用所述光栅器件掩膜版，定义半导体衬底的单元区和切割道，并形成位于所述切割道内的对准标记；然后，通过所述对准标记，沿所述切割道对半导体衬底执行划片工艺，以形成多个器件单元，由此，
光栅器件掩膜版制造方法

[实用新型]一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备-CN202320789496.X有效
发明人：魏晖 -专利权人：合肥清溢光电有限公司
申请日： 2023-04-11 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，包括与待显影蚀刻掩膜版尺寸相适应的显影蚀刻腔，显影蚀刻腔顶部设置有腔口，腔口上设置有腔盖；显影蚀刻腔内设置有若干喷嘴和用于放置待显影蚀刻掩膜版的升降托台，喷嘴后部连接有显影液罐、蚀刻液罐和纯水罐，喷嘴前端均朝向置于升降托台上的待显影蚀刻掩膜版；升降托台上升由腔口位置伸出，完成待显影蚀刻掩膜版上下料；本实用新型的小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，专用于小尺寸测试掩膜版的显影蚀刻生产
一种尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备

[发明专利]闪存器件的掩膜版及制造方法-CN202010986500.2在审
发明人：陈宏 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： H01L27/11521 文献下载
摘要：本发明提供一种闪存器件的掩膜版及制造方法，所述闪存器件的掩膜版包括有源区掩膜版和浮栅掩膜版，所述有源区掩膜版包括：存储掩膜版区和外围掩膜版区，所述存储掩膜版区和所述外围掩膜版区的交界处设有一第一有源区图形，在闪存器件的制造方法中，通过所述有源区掩膜版，可以在所述存储区和所述外围区的交界处定义第一有源区，在刻蚀外围区的介质层、控制栅层、浮栅层和浮栅氧化层时，由于所述存储区和所述外围区的交界处定义有第一有源区
闪存器件掩膜版制造方法

[发明专利]一种用于柔性薄膜衬底接触式光刻的真空贴附装置-CN201810996408.7有效
发明人：高国涵;范斌;李志炜;雷柏平;边疆;刘鑫 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2018-08-29 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于柔性薄膜衬底接触式光刻的真空贴附装置，包括真空泵、机架、挡板阀、支撑台限位器、真空腔体、掩膜支撑台、放气阀、真空计、顶压机构、密封门开合机构、密封门、薄膜支架、柔性薄膜、密封垫、光刻掩膜版其中掩膜支撑台可承载光刻掩膜版与待贴附的薄膜移动进出真空腔体，光刻掩膜版与柔性薄膜分离并间隔密封垫，支撑台限位器将掩膜支撑台定位，密封门关闭，真空泵与真空计控制真空度，顶压机构作用使薄膜支架下降，实现柔性薄膜与掩膜版表面的密封垫紧密接触形成密闭空间，放气阀在密闭空间以外破坏真空引入压差，使该密闭空间压缩实现柔性薄膜与掩膜版表面紧密贴附，取出掩膜支撑台将掩膜版与柔性薄膜作为整体以待曝光。
一种用于柔性薄膜衬底接触光刻真空装置

[发明专利]掩膜版、检测遮光板移动精度的方法-CN202310470712.9在审
发明人：严峰;郑海昌 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版、检测遮光板移动精度的方法，提供带有特定图形的掩膜版，利用掩膜版对基片进行刻蚀形成标准片；移动两个第一遮光件和两个第二遮光件靠近中心区域，以分别对相应检测图形区域的部分进行遮挡；沿第一方向移动掩膜版，并利用掩膜版对标准片进行曝光，以得到测试片；以及根据测试片上每个套刻图形组中出现的曝光图形的图形单元的数量，判断相应遮光板的移动精度，可有效避免现有技术中的人为目检的主观判断因素，实现实时有效监控光刻机遮光板的移动精度
掩膜版检测遮光板移动精度方法

[发明专利]曝光工艺及装置-CN201110238077.9无效
发明人：隆清德 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2011-08-18 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于曝光技术领域，公开了一种曝光工艺，将涂布有光刻胶的基板竖直设置，曝光用掩膜版与所述基板平行，使曝光机的光线照射方向垂直于所述掩膜版对所述光刻胶进行曝光。本发明还公开了一种曝光装置，包括固定被曝光基板的基板载台和固定掩膜版的掩膜版载台，所述基板载台竖直设置，所述掩膜版载台能够由水平面翻转至与所述基板载台平行。
曝光工艺装置

[实用新型]一种用于掩膜版的烘烤夹具及烘烤系统-CN202020978977.1有效
发明人：林伟;郑宇辰;林超 -专利权人：成都路维光电有限公司
申请日： 2020-06-02 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于掩膜版的烘烤夹具，包括壳体，壳体内设置有与掩膜版尺寸匹配的通槽，通槽内设置有用于支撑掩膜版的衬台；壳体背面设置有定位槽；本实用新型还公开了一种烘烤系统，包括加载机、加热机和传送机，加热机包括加热板和布置在加热板上可伸缩的顶柱，还包括用于掩膜版的烘烤夹具，所述烘烤夹具布置在加热板上；本实用新型的烘烤系统实现了高世代涂布系统对不同尺寸的掩膜版的光阻加热功能，扩大了可生产产品种类，提高了设备的通用性
一种用于掩膜版烘烤夹具系统

[实用新型]一种掩膜板拼接精度检测装置-CN202321022226.2有效
发明人：郑卫东;李付英 -专利权人：深圳市柯宝原科技有限公司
申请日： 2023-05-04 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜板拼接精度检测装置，包括第一安装板、移动杆和第一螺纹杆，所述第一安装板的顶部安装有第二安装板，所述第二安装板的背面贯穿活动安装有移动杆，所述移动杆的一端安装有显微镜，所述第二安装板的背面对称贯穿活动安装有第一移动板本实用新型将两块拼接的掩膜版放置在两个第一移动板上方，转动第四螺纹杆带动橡胶垫对掩膜版进行下压固定，利用显微镜对掩膜版拼接处进行显微观察，从而判断掩膜版的拼接精度，通过前后移动移动杆能够带动显微镜前后移动，从而能够对掩膜版的不同位置进行显微观察，通过前后移动第一移动板能够带动掩膜版进行前后移动，从而可以将拼接不好的掩膜版进行调节，使掩膜版拼接的更加精准。
一种掩膜板拼接精度检测装置

[发明专利]一种掩膜版框架-CN201911047145.6在审
发明人：姜正文;李文星 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明属于OLED制备技术领域，公开了一种掩膜版框架。该掩膜版框架包括框架本体，框架本体包括多根首尾依次相连的边框，边框上设置有弧形的矫正结构，矫正结构沿所在的边框的长度方向延伸设置，矫正结构能够为框架本体提供预应力形变以矫正掩膜版形变，从而改善修正掩膜版上已经出现的内缩或外扩的变形现象，以提高像素位置精度，减少掩膜版报废数量，节约成本；还能够通过矫正结构调节预防掩膜版形变，保证产品质量。
掩膜版矫正边框框架本体形变长度方向延伸制备技术领域变形现象结构调节像素位置依次相连内缩外扩首尾报废修正节约预防保证

[发明专利]掩膜版的调整方法及制作方法-CN202111566041.3在审
发明人：孙琳;李露露 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司
申请日： 2021-12-20 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及掩膜版技术领域，公开了一种掩膜版的调整方法及制作方法。通过确定掩膜版的框架的实际形变量与理论形变量的差异值，对理论反作用力的大小进行调整，得到目标反作用力并应用于制作掩膜版。其中，理论反作用力的调整幅度匹配该差异值，使得目标反作用力能够尽可能抵消掩膜单元施加于框架的拉力，进而缓解掩膜版上的掩膜开口的偏位情况，有利于提高所制作像素的像素位置精度。
掩膜版调整方法制作方法

[发明专利]一种基板承载装置及其使用方法-CN201810144017.2在审
发明人：盛科;方兴 -专利权人：南京中电熊猫液晶显示科技有限公司;南京中电熊猫平板显示科技有限公司;南京华东电子信息科技股份有限公司
申请日： 2018-02-12 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板承载装置，包括：承载基板的托盘、设置在托盘上的悬浮掩膜版以及自锁装置，悬浮掩膜版的一侧通过铰链与托盘连接，悬浮掩膜版的另一侧通过自锁装置将基板固定于托盘和悬浮掩膜版之间，悬浮掩膜版与托盘连接处设有气缸衔接机构本发明还公开了一种使用该基板承载装置进行溅镀加工的方法，通过基板承载装置的托盘上设置有悬浮掩膜版，悬浮掩膜版随着玻璃基板一起移动，往来于大气和真空环境，当检测到溅镀膜厚不均的情况发生时，可以直接在大气环境下进行更换，从而不需要对溅镀机台进行破真空的操作，解决了悬浮掩膜版不能及时更换的问题，保证了镀膜均一性，从而提升了产品的质量，并且保证了生产效率。
掩膜版托盘悬浮基板承载装置自锁装置镀膜溅镀机台玻璃基板承载基板大气环境基板固定生产效率衔接机构真空环境均一性破真空铰链气缸保证检测移动加工