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[发明专利]一种掩膜版、控制器以及利用掩膜版进行动态打码的方法-CN201611251922.5在审
发明人：王威 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2016-12-30 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜版、控制器以及利用掩膜版进行动态打码的方法，所述掩膜版包括掩膜版主体；以及设置在所述掩膜版主体上的透明显示屏，用于根据接收的控制信号显示动态图案；其中，偏振光依次经过所述透明显示屏和所述掩膜版主体后所述控制器与所述掩膜版的透明显示屏电性连接，用于生成控制信号并向所述透明显示屏发送所述控制信号。所述利用掩膜版进行动态打码的方法，包括向所述掩膜版的透明显示屏输入控制信号，使得透明显示屏显示动态图案；使偏振光依次透过所述透明显示屏和所述掩膜版的掩膜版主体，从而在目标物体上形成所需的动态图案。采用本发明克服了现有掩膜版只能形成静态图案的缺陷。
一种掩膜版控制器以及利用进行动态方法

[发明专利]掩膜版组件及曝光方法、显示面板、显示装置-CN202310033060.2在审
发明人：陈俊铭;蔡汉龙 -专利权人：业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;业成光电（无锡）有限公司;英特盛科技股份有限公司
申请日： 2023-01-10 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜版组件及曝光方法、显示面板、显示装置。掩膜版组件，包括第一掩膜版以及第二掩膜版，所述第一掩膜版包括第一掩膜版本体以及位于所述第一掩膜版本体上的第一图案，所述第一图案呈网格状排布，所述第二掩膜版包括第二掩膜版本体以及位于所述第二掩膜版本体上的第二图案，所述第二图案与所述第一图案相同，所述第一掩膜版还包括设置在所述第一图案一侧边的多个第一拼接部，每个所述第一拼接部与侧边的每个网格最外部的相邻两边连接，所述第一拼接部的至少一部分位于与其连接的所述网格的外侧本申请的掩膜版组件有利于提高发生错位拼接时网格搭接的成功率，进而利于提高产品良率。
掩膜版组件曝光方法显示面板显示装置

[发明专利]一种应用于单像素成像技术的卷轴式掩膜版装置-CN202310520914.X在审
发明人：冯云鹏;李学燕;程灏波;王丹;李伯仕;李宇杰 -专利权人：河北工程大学;深圳市三孚北理新材料科学研究有限公司;北京理工大学深圳研究院
申请日： 2023-05-10 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种应用于单像素成像技术的卷轴式掩膜版装置。所述卷轴式掩膜版为一块下边缘打孔的垂直于水平面放置的长条形可水平方向移动的掩膜版；所述掩膜版上覆盖有掩膜图案，由透光区和不透光区构成；所述单像素成像系统结构包括成像透镜、卷轴式掩膜版、单像素探测器、数模转换器本发明的卷轴式掩膜版造价成本低，调制速度较快，精度较高。
一种应用于像素成像技术卷轴式掩膜版装置

[发明专利]掩膜框架、支撑板、掩膜框架组件及掩膜版组件-CN201811151116.X有效
发明人：吕文旭;唐富强 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2018-09-29 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜框架、支撑板、掩膜框架组件及掩膜版组件，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的掩膜框架由于其与掩膜版连接不稳定而减少掩膜版的使用寿命的问题。本发明的一种掩膜框架具有第一开口和凸起，凸起设于掩膜框架用于与支撑板接触的表面上，且凸起用于与支撑板的第二开口卡合，并供掩膜版固定连接其顶面。
框架支撑组件掩膜版

[发明专利]掩膜版以及曝光方法-CN201810266147.3在审
发明人：赵鹏;徐猛;张党柱;郭甜;古哲安 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-03-28 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：一种掩膜版以及曝光方法，所述掩膜版包括：基板，所述基板的表面具有掩膜图案；保护膜支架，所述保护膜支架固定连接于所述基板的表面；保护膜，固定于所述保护膜支架；其中，所述保护膜支架、保护膜和基板围成掩膜版腔室，所述掩膜版腔室中充有非氧化性气体。本发明方案可以延长掩膜版的使用周期，降低生产成本且提高产品质量。
掩膜版保护膜支架基板保护膜腔室非氧化性气体使用周期掩膜图案曝光

[发明专利]一种新型掩膜版-CN201910900774.2在审
发明人：兰沈凯;吴杰明;李岩;范俊;郭启好 -专利权人：信利(仁寿)高端显示科技有限公司
申请日： 2019-09-23 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型掩膜版，包括掩膜版本体，所述掩膜版本体的下表面设有遮光层形成遮光区，所述掩膜版本体的下表面还形成有透光区，所述掩膜版的的下方还设有曝光基板，所述曝光基板对应掩膜版的透光区形成曝光区，所述掩膜版本体的下表面、对应透光区还向内开设有凹槽，所述凹槽的内表面包括与掩膜版本体的下表面平行的第一表面以及与第一表面两端连接的两个内凹曲面，所述内凹曲面使边缘的偏折光束发生全反射，可以使得曝光基板的曝光区不会增大，提高曝光机的加工精度，可以生产更高分辨率、高开口率的产品。
掩膜版下表面曝光基板透光区第一表面内凹曲面曝光区光束发生全反射高分辨率开口率内表面曝光机遮光层遮光区内开偏折平行加工生产

[实用新型]一种新型掩膜版-CN201921584273.X有效
发明人：兰沈凯;吴杰明;李岩;范俊;郭启好 -专利权人：信利（仁寿）高端显示科技有限公司
申请日： 2019-09-23 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型掩膜版，包括掩膜版本体，所述掩膜版本体的下表面设有遮光层形成遮光区，所述掩膜版本体的下表面还形成有透光区，所述掩膜版的的下方还设有曝光基板，所述曝光基板对应掩膜版的透光区形成曝光区，所述掩膜版本体的下表面、对应透光区还向内开设有凹槽，所述凹槽的内表面包括与掩膜版本体的下表面平行的第一表面以及与第一表面两端连接的两个内凹曲面，所述内凹曲面使边缘的偏折光束发生全反射，可以使得曝光基板的曝光区不会增大，提高曝光机的加工精度，可以生产更高分辨率、高开口率的产品。
一种新型掩膜版

[发明专利]掩膜版及采用该掩膜版的掩膜装置-CN201811511453.5有效
发明人：叶剑 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-12-11 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版及采用该掩膜版的掩膜装置，本发明的优点在于，将现有的掩膜版两端的缓冲区也设置为有效蒸镀区，利用该区域制作像素密度较低的Mini显示面板，使得该区域在作为掩膜版的变形缓冲区的同时，还作为低像素密度的显示面板的开口的有效区，可以有效提高掩膜版的利用效率。
掩膜版采用装置

[发明专利]掩膜版-CN201910822447.X有效
发明人：杜帅;冯宏庆;郑勇;丁文彪 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-08-30 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜版。该掩膜版包括掩膜图案区以及位于掩膜图案区四周的非掩膜图案区；掩膜图案区与非掩膜图案区的分界为非直线型几何图形，几何图形向掩膜图案区凹陷；非掩膜图案区内设置有固定区，固定区用于固定掩膜版，几何图形位于固定区的相对面
掩膜版

[发明专利]掩膜版-CN202010102990.5有效
发明人：潘旭;张帅;古春笑;杨斌;杨硕 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2020-02-19 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜版。该掩膜版包括掩膜版框架、至少一条掩膜条和至少一个第一弹性连接部；至少一个第一弹性连接部固定于掩膜版框架上，并与一掩膜条第一方向的一个端部连接，弹性连接部对掩膜条具有第一拉力，第一拉力对掩膜条产生的形变在掩膜条的弹性形变范围内，且第一拉力的方向为掩膜条第一方向的端部指向第一弹性连接部的方向。掩膜条第一方向的一个端部通过第一弹性连接部固定于掩膜版框架上，使第一弹性连接部对掩膜条具有第一拉力，从而可以降低掩膜条因重力引起的掩膜条的下垂，提高蒸镀时掩膜版与待蒸镀基板的贴合度，进而提高了掩膜版的蒸镀精度
掩膜版

[发明专利]掩膜装置及掩膜系统-CN201510308594.7在审
发明人：曾杰;李安石 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2015-06-08 - 公布日： 2015-09-02 - 主分类号： G03F1/50 文献下载
摘要：本发明实施例公开一种掩膜装置及掩膜系统。掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于滚筒掩膜版内的光源组件。滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，光源组件的外表上设置有光源。在光源的照射下，滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案。本发明在不需要制作大面积掩膜板的情况下，可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案，从而节省成本。
装置系统

[发明专利]一种掩膜版、掩膜版的使用方法及封框胶固化方法-CN202211270641.X在审
发明人：王洋清;杨雪鑫;张千;岳彬;童俊海;庄珍珍;李福顺;周晖;黄骏;陈芸;林忱 -专利权人：福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜版、掩膜版的使用方法及封框胶固化方法，解决了现有UV Mask不能满足多尺寸的要求，增加了开发成本的问题。掩膜版包括：遮光区和开设于所述遮光区的多个透光区；多个透光区由掩膜版的中心向边缘间隔排布；多个透光区为以所述掩膜版的中心为中心的具有不同尺寸的环状区域。掩膜版的使用方法包括：曝光时，分别遮住掩膜版的遮光区和部分透光区，留有目标透光区的第一区域不被遮挡；遮住掩膜版的遮光区和部分透光区，留有目标透光区的第二区域不被遮挡；遮住掩膜版的遮光区和部分透光区，留有目标透光区的第三区域不被遮挡封框胶固化方法包括透过掩膜版对封框胶进行曝光。
一种掩膜版使用方法封框胶固化方法

[实用新型]光掩膜版用涂胶卡盘-CN201520500799.0有效
发明人：张诚;李伟;李翼;颜春李;徐根;周学文 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光掩膜版用涂胶卡盘，包括卡盘本体，卡盘本体上设有用于卡持待涂胶的光掩膜版的第一凹槽，第一凹槽呈与光掩膜版相适应的环形，第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件采用本实用新型的光掩膜版用涂胶卡盘时，由于第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件，故当光掩膜版装设于第一凹槽内时，由于摩擦件与光掩膜版底部的静摩擦力，从而使当卡盘具有较高的速度和加速度时，光掩膜版与卡盘之间不会出现沿轴线方向的相对移动，从而提高环形光掩膜版涂覆光刻胶的均匀性。
光掩膜版用涂胶卡盘

[发明专利]一种高精度掩膜版架抬升机构-CN202310165926.5在审
发明人：毛善高;芦刚;李伯汉;邢莹 -专利权人：三河建华高科有限责任公司
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种高精度掩膜版架抬升机构，包括版架及版架锁紧系统，所述版架及版架锁紧系统的下方安装有气动抬升及微分调节系统，所述版架及版架锁紧系统包括版架支撑架、掩膜版架、大帽螺钉和锁紧气缸，所述版架支撑架的下表面一体成型有导向座，所述版架支撑架的上表面安装有掩膜版架，所述掩膜版架共设置四个，所述版架支撑架的前端面和右端面对称安装有四个锁紧气缸。本发明锁紧气缸的杆体同时顶出实现掩膜版架定位锁死于版架支撑架指定位置，使用抬升气缸完成气动抬升动作，使得导向座在导轨滑块机构完成导向抬升运动，在手动微分头作用下，实现掩膜版达到指定间隙的微分动作，将掩膜版于基片分离到指定的间距
一种高精度掩膜版架抬升机构

[发明专利]一种掩膜张网焊接设备-CN202110172509.4有效
发明人：孙启峰;张洪博;黄正隆 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2021-02-08 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： B23K26/21 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种掩膜张网焊接设备，该焊接设备包括：框架，用于承载掩膜版，掩膜版包括相对的第一侧和第二侧以及相对的第三侧和第四侧；夹持拉伸装置，用于夹紧掩膜版的第一侧和第二侧，并带动掩膜版的第一侧和第二侧相向或相背运动；柔性圧触装置，柔性压触装置包括柔性压杆组件，且柔性压杆组件在第一方向、第二方向和第三方向均具备自由度，用于贴合掩膜版以将其第三侧和第四侧与框架压紧，第一方向平行于掩膜版的第一侧，第二方向平行于掩膜版的第三侧，第三方向垂直于掩膜版；激光器，用于将掩膜版焊接在框架上。本发明实施例中，掩膜版被柔性圧触装置圧触在框架上再焊接，可提高焊接过程中掩膜拉应力稳定性，提高焊接质量。
一种掩膜张网焊接设备