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[发明专利]拼接式掩膜版及其制造方法-CN201910231370.9在审
发明人：范元骏 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2019-03-26 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种拼接式掩膜版，包括多个所述标记设置在掩膜版外框和掩膜版内框之间，所述重复器件单元掩膜版和非重复器件单元掩膜版并列排布在掩膜版内框内，该掩膜版的每种重复器件单元掩膜版仅保留一个，所述重复器件单元掩膜版和非重复器件单元掩膜版之间设有遮光带本发明还公开了一种所述拼接式掩膜版的制造方法。本发明每一种半导体器件重复单元的掩膜板只保留一个，将其他半导体器件重复单元掩膜板去除，重新组合排列，去除了大部分导体器件重复单元能实现将拼接式掩模版外框的长、宽均小于光刻机所能支持像场范围。采用本发明仅制作一张掩膜版便可以实现大面积拼接式芯片完全曝光，极大的减少了生产成本。
掩膜版拼接式重复器件半导体器件器件单元非重复掩膜板内框外框标记设置并列排布导体器件重新组合光刻机掩模版遮光带保留去除像场生产成本制造芯片曝光制作

[实用新型]版架、腐蚀机及显影设备-CN202121682948.1有效
发明人：伏道椿 -专利权人：无锡迪思微电子有限公司
申请日： 2021-07-22 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： G03F1/64 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种版架、腐蚀机及显影设备，版架包括底架和支撑架，支撑架设置在底架上并用于支撑掩膜版；支撑架具有用于被掩膜版覆盖的预设支撑面；沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，预设支撑面逐渐远离掩膜版，这样可以减小支撑架的预设支撑面和掩膜版之间的接触面积，甚至可以使支撑架和掩膜版之间为线接触，进而减少掩膜版和版架之间的摩擦现象，以降低对掩模版造成划伤的风险，解决了现有技术中的版架容易对掩膜版造成划伤的问题。
版架腐蚀显影设备

[发明专利]掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法-CN201610354130.4有效
发明人：张小华;刘少华;刘振宇;闫冬;崔富毅 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2016-05-25 - 公布日： 2020-02-18 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：一种掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法。该掩膜版管理系统包括：掩膜版投入模块，其被配置来提供至少一个掩膜版组，每个所述掩膜版组包括一个卡匣和放置在所述卡匣内的多个掩膜版；掩膜版检测和处理模块，其被配置来检测所述掩膜版组中的多个掩膜版，并根据检测结果对需要处理的掩膜版进行对应的掩膜版处理；掩膜版分类模块，其被配置来将经过处理并合格的掩膜版重新调整到所述掩膜版所属的掩膜版组的卡匣中。该掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法可进行精细化的管控，有利于提高生产效率。
掩膜版管理系统以及使用方法

[发明专利]一种手动光刻机的预对准方法及预对准装置-CN201711269784.8在审
发明人：王金翠;苏建;徐现刚;肖成峰;郑兆河 -专利权人：山东华光光电子股份有限公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种手动光刻机的预对准方法及预对准装置，属于手动光刻机设备领域，装置包括掩膜版架和承片台；掩膜版架上设有掩膜版卡槽，掩膜版卡槽与掩膜版尺寸相同，将掩膜版放置在掩膜版卡槽里面；掩膜版卡槽中部中空两个卡槽的位置可以保证掩膜版上面的对位标记和芯片上面的对位标记基本重合，减小光刻过程中每次放置芯片的偏差，减小光刻过程中芯片图形与光刻版图形的精对准需要的时间，起到了比较好的预对准的作用，提高光刻机的曝光生产效率
掩膜版光刻机卡槽芯片放置槽预对准芯片预对准装置对位标记光刻过程对准边减小光刻版图形卡槽中部设备领域生产效率相邻直角芯片放置承片台精对准曝光区圆弧边直角边中空区中芯片重合承片大边小边中空投影曝光保证

[发明专利]一种具有分离式网框的张网机及其张网加工方法-CN202211482797.4在审
发明人：蔡宗宏 -专利权人：黄石全洋光电科技有限公司
申请日： 2022-11-24 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及金属掩膜版技术领域，尤其是一种具有分离式网框的张网机及其张网加工方法，包括金属掩膜版网框，其特征是：所述金属掩膜版网框的上表面两端等距设有若干凹槽，若干所述凹槽内设有分离式网框，所述金属掩膜版网框的上表面若干设有金属掩膜版，多个所述分离式网框的上表面均对应设有金属掩膜版，所述金属掩膜版网框的外部四周均设有夹持组件，所述金属掩膜版网框的上方设有点焊组件及CCD相机。本发明具有分离式网框的张网机机通过将多个金属掩膜版的拼接与内置隐藏式分离式网框张网对位后进行镭射点焊，可以有效进行不同大规格金属掩膜版产品的制作，结构布局更加合理。
一种具有分离式网框张网机及其加工方法

[发明专利]一种光刻机掩膜版的智能存取方法-CN202111515215.3在审
发明人：牛立久;张雪奎;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： A47B81/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机掩膜版的智能存取方法，包括以下步骤：S1、提供一个智能存取装置；S2、将各种规格的掩膜版放置在对应的掩膜版盒中；S3、将各掩膜版盒放入到对应的收纳盒中，其对应关系通过操作面板进行存储；S4、抽气风机启动；S5、从操作面板中输入所要取出掩膜版的规格；S6、电控柜驱动顶推机构移动到收纳盒的后方；S7、顶推机构动作将该收纳盒推出；S8、取出该收纳盒中的掩膜版盒并关闭收纳盒。该智能存取方法能够更好更迅速的存取掩膜版，避免灰尘的附着，避免掩膜版放错。
一种光刻机掩膜版智能存取方法

[实用新型]一种掩膜版倒边磨边机的掩膜版支撑平台装置-CN200920166835.9无效
发明人：林宜龙;田亮;张松岭;林建昌;周冠彬;唐召来 -专利权人：格兰达技术(深圳)有限公司
申请日： 2009-07-20 - 公布日： 2010-04-21 - 主分类号： B24B9/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜版倒边磨边机的掩膜版支撑平台装置，属于对掩膜版进行倒边和磨边加工的领域；包括掩膜版支撑板，和对放置在所述掩膜版支撑板上的掩膜版进行调整定位的定位调整组件；所述定位调整组件包括一定位调整挡边，所述定位调整挡边的左端安装有左定位块，定位调整挡边上设置有可在其上滑动的右定位块，所述右定位块通过一锁紧手柄进行锁紧定位；本实用新型所述掩膜版支撑平台装置可在倒边装置和磨边装置对掩膜版进行倒边和磨边加工过程中支撑掩模版
一种掩膜版倒边磨边掩膜版支撑平台装置

[实用新型]一种双层掩膜版组件和蒸镀装置-CN201720578925.3有效
发明人：赵蓉;金龙 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-05-23 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种双层掩膜版组件和蒸镀装置，涉及显示技术领域，用于使第一掩膜版和第二掩膜版之间可以紧密贴合。该组件包括第一掩膜版、第一掩膜版框架、第二掩膜版和第二掩膜版框架；其中，第一掩膜版固定在所述第一掩膜版框架上，在第一掩膜框架固定第一掩膜版的表面上、且未被第一掩膜版覆盖的区域内设置有第一卡接部；第二掩膜版固定在第二掩膜版框架上，在第二掩膜框架固定第二掩膜版的表面上、且未被第二掩膜版覆盖的区域内设置有第二卡接部；第一掩膜框架固定第一掩膜版的表面与第二掩膜框架固定第二掩膜版的表面相对设置，且第一卡接部与第二卡接部卡合，以便第一掩膜版和第二掩膜版相贴合本实用新型用于掩膜版组件的制造。
一种双层掩膜版组件装置

[实用新型]黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台-CN200320112204.1无效
发明人：钟福来;赵艳岐;季来运;陈勤文;陈月云 -专利权人：海泰超导通讯科技（天津）有限公司
申请日： 2003-11-14 - 公布日： 2004-11-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台，包括机座、中心工作台、中心工作台角度调整机构三部分，其特征在于在中心工作台上包括掩膜版调整定位机构。本实用新型的优越性在于：本案可调节型掩膜版吸附台结构充分考虑了掩膜版吸附台的通用性，它可以适用于多种规格尺寸大小的掩膜版进行曝光工作，解决了传统掩膜版吸附台缺乏通用性的问题。
黄光微影设备曝光调节型掩膜版吸附

[发明专利]一种掩膜版及镜头照明均一性的检测方法-CN201811460063.X在审
发明人：任琳晓;蔡亮 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2018-11-30 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜版，所述掩膜版包括：基版，所述基版上具有以阵列形式排布的多个掩膜图形，多个所述掩膜图形的形状相同，所述基版上的所述掩膜图形的数量分布的比较多，可表征整个光刻机镜头面内照明分布趋势。本发明还提供了一种镜头照明均一性的检测方法，首先，通过所述掩膜版在晶片上的光刻胶层形成与所述掩膜图形对应的量测图形，然后，对所述量测图形的线宽尺寸进行测量，最后，根据所述量测图形的线宽尺寸的大小得到所述镜头的照明均一性，这样可以间接一次性实时地检测光刻机镜头的不同位置的光强度差异，实时有效监控光刻机曝光性能稳定性，确保了产品品质安全。
掩膜图形掩膜版照明均一性基版量测镜头线宽光刻机镜头光强度差异产品品质分布趋势光刻胶层曝光性能数量分布有效监控阵列形式光刻机检测光一次性检测晶片刻机排布测量安全

[发明专利]一种半色调掩膜版的制作方法-CN202310428811.0在审
发明人：熊启龙;徐兵 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2023-04-20 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种半色调掩膜版的制作方法，光刻机在半色调掩膜版上刻写第一层图形和对位Mark，并记录第一层图形初始位置；半色调掩膜版再次安装至光刻机内，光刻机再次获取半色调掩膜版上刻写的第一层图形和对位Mark；将第一层图形和对位Mark信号发送至光刻机Mark识别系统，获得安装半色调掩膜版上第一层图形的偏转位置，将偏转位置与初始位置进行比较，获得再次上料的半色调掩膜版上第一层图形相对初始位置的偏转角度β；将第二层图形区进行旋转β角度，获得第二层刻写图形区；依据获得的第二次刻写图形待加工半色调掩膜版上刻写第二层图形；本发明半色调掩膜版的制作方法，提高了半色调掩膜版第二次蚀刻图形蚀刻精度以及与第一层图形的套合精度。
一种色调掩膜版制作方法

[发明专利]一种镀膜装置-CN201710249337.X有效
发明人：孙中元;薛金祥;刘文祺 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2017-04-17 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种镀膜装置，该镀膜装置包括：成膜辊，成膜辊的外周面上包括一预定区域，柔性基板的当前待镀膜部位能够卷绕在预定区域处；靶材，靶材设置在成膜辊一侧，并与成膜辊的预定区域位置对应；掩膜版，设置在靶材与成膜辊之间，掩膜版为曲面掩膜版，其曲面曲度与成膜辊的预定区域处的曲面曲度相同，掩膜版上设有第二对位标记；复眼摄像机，用于获取掩模版的第二对位标记及柔性基板的第一对位标记的位置信息；以及，控制机构，用于根据复眼摄像机获取的所述位置信息，控制掩膜版移动，以将掩膜版与柔性基板进行对位。本发明所提供的镀膜装置可直接利用曲面掩膜版在柔性基板上沉积图形化的薄膜。
一种镀膜装置

[实用新型]掩膜框架，掩膜框架和掩膜版组件-CN201721221479.7有效
发明人：李雪萍;黄立为;杨凡;辛燕霞 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-09-21 - 公布日： 2018-03-20 - 主分类号： G03F1/64 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜框架，掩膜框架和掩膜版组件。所述掩膜框架用于与掩膜版焊接的位置具有凹陷部，所述凹陷部用于在所述掩膜框架和掩膜版焊接时堆放焊接熔融物。掩膜框架和掩膜版组件，包括掩膜框架和掩膜版；所述掩膜框架用于与掩膜版焊接的位置具有凹陷部，所述凹陷部用于在所述掩膜框架和掩膜版焊接时堆放焊接熔融物；所述掩膜版与所述掩膜框架紧贴，且所述掩膜版的焊接位置与所述掩膜版框架的凹陷部至少部分重合；在所述掩膜版的焊接位置处焊接，所述焊接熔融物形成的焊点位于所述凹陷部及所述掩膜版焊接形成的孔内，且所述掩膜版和所述掩膜版焊接在一起。本实用新型解决了现有的掩膜框架无法控制焊接熔融物流动方向的技术问题。
框架掩膜版组件

[实用新型]一种小尺寸掩膜版居中性测量检查装置-CN201920125558.0有效
发明人：林伟;刘玉闯 -专利权人：成都路维光电有限公司
申请日： 2019-01-24 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了小尺寸掩膜版居中性测量检查装置，包括设于光刻机平台上的定位件和三组传感器，所述定位件上设有L型直角卡槽与掩膜版的直角边适配接触，其中一组传感器用于测量掩膜版的直角顶点位置信息，另外两组传感器分别用于测量掩膜版在沿本实用新型适用于掩膜版制作技术领域，尤其涉及大尺寸光刻机制作小尺寸掩膜版上，扩大大尺寸光刻机的应用范围，在大尺寸光刻机上设计一种小板居中性检查装置，检查小尺寸掩膜版的位置和居中性，有效避免居中性偏移现象
掩膜版检查装置测量本实用新型组传感器定位件光刻机直角边光刻卡槽移动位置信息偏移现象直角顶点传感器两组适配小板延伸应用制作检查

[发明专利]一种声表面波滤波器的前道晶圆光刻方法-CN201811450864.8在审
发明人：掌庆冠;王绍安;张莉;李壮;韦鹏 -专利权人：无锡市好达电子有限公司
申请日： 2018-11-30 - 公布日： 2019-05-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：该方法包括制作水平掩膜版和垂直掩膜版，所述水平掩膜版上仅包括垂直线条，所述垂直掩膜版上仅包括水平线条，所述水平掩膜版上的垂直线条和所述垂直掩膜版上的水平线条共同构成光刻图形；利用所述水平掩膜版对晶圆曝光，利用所述垂直掩膜版对经过一次曝光的晶圆进行二次曝光；或，利用所述垂直掩膜版对晶圆曝光，利用所述水平掩膜版对经过一次曝光的晶圆进行二次曝光；解决了光刻曝光过程中无法同时满足水平方向和垂直方向都具有高分辨率的问题；达到了令光刻机无论在水平方向还是垂直方向都可以达到最优分辨率的效果。
掩膜版晶圆垂直声表面波滤波器垂直线条二次曝光水平线条一次曝光光刻曝光过程高分辨率光刻图形曝光分辨率光刻机制作制造