专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]涂胶装置-CN202022697916.0有效
  • 诸嘉豪 - 无锡迪思微电子有限公司
  • 2020-11-19 - 2021-10-15 - B05C11/00
  • 本申请提供了一种涂胶装置,该涂胶装置包括甩干,甩干包括甩干本体和架,架位于甩干本体的表面上,架用于固定。该涂胶装置,包括甩干,甩干包括甩干本体和架,架位于甩干本体的表面上,架用于固定。相比现有技术中的涂胶装置仅为可控制转速和运行时间的直流电机,只具有甩干功能,本申请的涂胶装置在具备甩干功能的同时,通过将放置在架上,来固定,可以使得表面的光刻胶在甩干过程中变得较为均匀,保证光刻胶能较为均匀地覆盖,避免了现有的涂胶装置无法使得均匀涂布光刻胶的问题,保证了的涂布光刻胶的效果较好。
  • 涂胶装置
  • [实用新型]一种用的曝光补偿装置-CN201922098140.8有效
  • 叶小龙;王栋 - 深圳市龙图光电有限公司
  • 2019-11-29 - 2020-05-26 - G03F7/20
  • 本申请公开了一种用的曝光补偿装置,包括承载板,承载板的一侧具有接触平面,用于与光刻平台接触,承载板的另一侧具有承载面,承载面为斜面,用于承载斜面,并垫高斜面厚度较薄的一侧,以使斜面远离承载板的一侧与光刻平台平行对进行曝光时,光刻镜头需要与保持恒定的距离,以保证曝光后的图形质量,曝光斜面时,光刻镜头从斜面厚度较大的一侧运动到厚度较小的一侧时,光刻镜头与的距离不断变大,导致曝光后的图形质量异常因此,在曝光斜面时,将斜面放置到承载板上,使得斜面上表面平行于光刻平台。
  • 一种掩膜版用曝光补偿装置
  • [发明专利]-CN201510014250.5有效
  • 张建国;夏静远 - 深圳清溢光电股份有限公司
  • 2015-01-12 - 2015-04-29 - B32B37/10
  • 本发明属于贴设备领域,尤其涉及一种贴,旨在解决现有贴定位机构与夹具难以适应不同尺寸规格的的技术问题。将用于安装蒙的蒙夹具安装在平台上,框架上沿X轴方向滑动安装两个竖直臂同时沿Z轴方向滑动安装两个水平臂,竖直臂与水平臂可夹紧,蒙相面对设置,第一动力组件将安装有蒙的夹具组件推向压边组件保证相对两边上的压制效果,两个压杆间距可调,适应不同尺寸规格的,克服了在对不同尺寸规格的进行贴付蒙时需要更换对应的定位机构与夹具的麻烦,节省了制作多套定位机构与夹具的成本。
  • 贴膜机
  • [发明专利]的清洁装置-CN202110115470.2在审
  • 赵晗 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-01-28 - 2021-04-30 - G03F1/82
  • 本申请公开了一种的清洁装置,包括:观察摄像,对表面拍照,以获取上异物的位置信息;氮气喷嘴,位于表面的下方,根据异物的位置信息对表面的异物进行吹扫;以及抽气装置,位于表面的下方,从吹扫的异物处抽取氮气喷嘴喷出的氮气以去除表面的异物并排出;控制单元,用于当观察摄像拍摄到上存在异物时,控制氮气喷嘴向表面喷出氮气以及控制抽气装置从表面抽取氮气。本申请采用定位清洁的方式,其吹扫范围更精确,在保持氮气喷嘴风压不变的前提下,减小了受吹扫影响的面积,并且采用抽气装置提升去除表面的异物的成功率,进而提升了的可靠性。
  • 掩膜版清洁装置
  • [实用新型]压边组件及具有该压边组件的贴-CN201520018485.7有效
  • 张建国;夏静远 - 深圳清溢光电股份有限公司
  • 2015-01-12 - 2015-08-12 - B32B37/10
  • 本实用新型属于贴配件领域,尤其涉及一种压边组件及具有该压边组件的贴,旨在解决现有贴中的夹具难以适配不同尺寸规格的技术问题。两个压杆在蒙贴合过程中与背离蒙的一侧相抵,实现蒙的其中一对边的贴合,第一驱动组件驱动旋转板转动,从而带动安装在旋转板上第二驱动组件与压杆转动,以实现蒙的另外一对边的贴合两个第二驱动组件分别驱动两个压杆沿旋转板的长度方向移动,让两个压杆间距可调,从而适应不同尺寸规格,克服了在对不同尺寸规格的进行贴付蒙时需要更换对应的夹具的麻烦,节省了制作多套夹具的成本
  • 组件具有贴膜机
  • [实用新型]夹具组件及具有该夹具组件的贴-CN201520019257.1有效
  • 张建国;夏静远 - 深圳清溢光电股份有限公司
  • 2015-01-12 - 2015-09-09 - B25B11/00
  • 本实用新型属于贴配件领域,尤其涉及一种夹具组件及具有该夹具组件的贴,旨在解决现有贴中的定位机构难以适应不同尺寸规格的及现有蒙夹具与定位机构占用较大空间的技术问题。将用于安装蒙的蒙夹具安装在平台上,平台沿Y轴方向滑动安装在框架的缺口内,框架上沿X轴方向滑动安装两个竖直臂同时沿Z轴方向滑动安装两个水平臂,竖直臂与水平臂可夹紧,蒙相面对设置保证压制,从而适应不同尺寸规格的,克服了在对不同尺寸规格的进行贴付蒙时需要更换对应的定位机构的麻烦,节省了制作多套定位机构的成本。
  • 夹具组件具有贴膜机
  • [发明专利]一种检查精度校准样片-CN202310428810.6在审
  • 熊启龙;宋恺 - 深圳清溢光电股份有限公司
  • 2023-04-20 - 2023-08-29 - G03F1/84
  • 本发明公开了一种检查精度校准样片,包括基片,基片上设置有位置校准区域和精度校准区域;精度校准区域内设置有对比图形单元和缺陷图形单元;对比图形单元内呈横纵排列状设置有若干样片对比图形,对比图形单元内同一行中样片对比图形一致,仅尺寸增减;缺陷图形单元内呈横纵排列状设置有若干样片缺陷图形,缺陷图形单元内同一行中样片缺陷图形一致,仅尺寸增减;对比图形单元和缺陷图形单元内同一行、列位置的样片对比图形和样片缺陷图形一致,且尺寸相同,仅样片缺陷图形内增设缺陷特征;本发明的检查精度校准样片,解决背景技术中提出的满足对检查精度的校准和缺陷的全检查。
  • 一种掩膜版检查精度校准样片
  • [实用新型]一种自动对准移动掩模光刻-CN202120084852.9有效
  • 陈杰相 - 陈杰相
  • 2021-01-13 - 2021-12-24 - G03F7/20
  • 本实用新型涉及光刻技术领域,且公开了一种自动对准移动掩模光刻,包括基台、硅片台、支撑柱、滑台、成像光刻透镜、滑轨、移动承载台、紧固把手、紫光透镜、紫光光源和,所述基台的上表面活动安装有硅片台,所述基台上表面的两侧均连接有支撑柱,所述支撑柱的上端安装有滑台,所述滑台的中部位置开设有成像孔,所述滑台的两侧开设有滑轨。该自动对准移动掩模光刻,通过在滑台上设置有活动安装的移动承载台,整体通过简单便捷的安装操作,使多个均可稳定可靠的固定在凹槽内,使自动对准到方便进行光刻操作的位置,提升了光刻的工作效率
  • 一种自动对准移动光刻
  • [发明专利]去胶方法、制作方法及-CN202110326898.1在审
  • 黄国勇;司继伟;杜武兵 - 深圳市路维光电股份有限公司
  • 2021-03-26 - 2021-07-27 - G03F1/82
  • 本申请公开了一种去胶方法、制作方法及,属于制作技术领域。去胶方法,包括:对半成品进行曝光,使半成品上的残留光阻层进行光耦合反应;将进行光耦合反应后的半成品与显影液进行反应,去除半成品上的残留光阻层。本申请的去胶方法,对半成品进行曝光,使半成品易于与显影液反应,摒弃了用H2SO4与H2O2混合进行脱的方法,不会对造成损伤,延长了的使用寿命,并且人员操作安全;不需使用自动清洗进行费时费力的清洗,工序耗时短
  • 掩膜版脱膜去胶方法制作方法掩膜版
  • [发明专利]一种的上装置-CN202110947574.X有效
  • 张伟明;谭超华;李胜 - 合肥清溢光电有限公司
  • 2021-08-18 - 2023-05-09 - G03F1/68
  • 本发明公开了一种的上装置,包括一呈倾斜状的支撑主体,支撑主体上设置有下支撑组件、左支撑组件和右支撑组件,下支撑组件、左支撑组件和右支撑组件形成一倾斜支撑面,板置于倾斜支撑面上且板中心与倾斜支撑面的中心重合,实现对板支撑;本发明的上装置,应用于采用六轴机器人进行自动化运输的生产线中,通过本上装置将安装固定的姿态放置在固定的位置,避免了光刻自带的load或AGV进行上时的复杂的定位操作与控制,以低成本的方法和装置实现不同尺寸高精度上的功能,确保生产的定位精度,减少光刻的定位调整时间,提高的生产效率和产品品质。
  • 一种掩膜版装置
  • [发明专利]一种检查检查区域坐标设置方法-CN202210205006.7在审
  • 王亚腾;熊启龙 - 合肥清溢光电有限公司
  • 2022-03-02 - 2022-05-31 - G03F1/84
  • 本发明涉及检查,具体涉及一种检查检查区域坐标设置方法,获取待检查需要设置图形点位的坐标信息,并对图形点位中参考点的坐标信息进行处理;待检查进入检查后,寻找设置的参考点,并记录相应的实际点位坐标信息;根据参考点的坐标信息与相应的实际点位坐标信息计算补偿值,基于补偿值计算所有图形点位的实际点位坐标信息;将所有图形点位的实际点位坐标信息录入检查;本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的的寻点设置需要耗费大量时间的缺陷
  • 一种掩膜版检查区域坐标设置方法
  • [实用新型]光刻冷却系统-CN201921518216.1有效
  • 骆建钢;徐晓敏 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2019-09-12 - 2020-06-16 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种光刻冷却系统,所述光刻包括曝光光源、光学镜头、承载台,光学镜头位于承载台的上方,所述系统包括:氮气冷却装置,其包括供气端、输气管和喷气管,氮气源和喷气管通过所述输气管连接,喷气管设在光学镜头的周侧且在竖直方向上位于光学镜头和承载台之间,所述喷气管形成有多个喷气孔;水冷装置,其包括供水端、输水管和水冷管,冷水源和水冷管通过输水管连接,水冷管铺设在承载台上且位于承载台之间本实用新型利用氮气和水对进行冷却,利用减少的形变,改善产品的废品率。
  • 光刻掩膜版冷却系统
  • [发明专利]一种检测台接触面污染的方法-CN201711127716.8有效
  • 金乐群;王彩虹;廖剑锋 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2017-11-15 - 2020-05-01 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种检测台接触面污染的方法,包括:S1:提供和晶圆,所述安放在光刻台上与所述晶圆对准;S2:收集的对准补偿参数的参考值;S3:多次重复步骤S1和S2,从而收集到多个对准补偿参数的参考值,根据收集到的多个对准补偿参数的参考值设置对准补偿参数的上限值和下限值;S4:重复步骤S1,收集此次对准的对准补偿参数值,如果所述对准补偿参数值超出其上限值或下限值,则光刻停止工作并清洗台或者;如果所述对准补偿参数在其上限值与下限值之间,则光刻继续进行工作。本发明所提供的检测台接触面污染的方法,可以实时监控台接触面的情况。
  • 一种检测掩膜版掩膜台接触面污染方法

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