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[发明专利]掩膜版-CN201911290041.8在审
发明人：曹杰 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-12-16 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版，其包括至少一组掩膜版组，掩膜版组包括第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和至少一个中间子掩膜版；第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和中间子掩膜版的长相同，存在至少两组不同的倍数，使得中间子掩膜版的宽与之相乘后，与第一边缘子掩膜版的宽和第二边缘子掩膜版的宽相加之和，分别与两个不同尺寸的显示面板的长度相同；中间子掩膜版的长所对应的两条边上均设置有半掩膜区，第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版的长所对应的一条边上设置有半掩膜区，半掩膜区的尺寸相同。本发明将掩膜版设置为多个小尺寸的子掩膜版，通过子掩膜版平移，实现大尺寸显示面板的图案化，缓解了现有技术存在制作高成本大尺寸掩膜版的问题。
掩膜版

[发明专利]控制掩膜版脱气雾状缺陷的方法-CN201610585192.6在审
发明人：李德建;陈力钧;朱骏 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2016-07-22 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明提供了一种控制掩膜版脱气雾状缺陷的方法，包括：第一步骤：在掩膜版存储机中布置紫外曝光单元；第二步骤：将掩膜版放置在紫外曝光单元密闭腔室中；第三步骤：利用紫外曝光单元对掩膜版进行照射。
控制掩膜版脱气雾状缺陷方法

[发明专利]掩膜版的处理系统-CN201811321294.2有效
发明人：陈林 -专利权人：成都中电熊猫显示科技有限公司
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版的处理系统，该系统包括：紫外线垂直配向UV2A露光装置、掩膜版检查装置、处理装置；掩膜版检查装置分别与UV2A露光装置、处理装置连接；UV2A露光装置，用于获取待选掩膜版；掩膜版检查装置，用于对待选掩膜版进行检查，获取多个目标掩膜版；处理装置，获取每个目标掩膜版的划痕检查结果，并根据每个目标掩膜版的划痕检查结果，对每个目标掩膜版进行处理。本发明提供的掩膜版的处理系统能够主动获取具有划痕的多个目标掩膜版，并根据目标掩膜版的划痕检查结果对掩膜版进行处理，提高了处理效率。
掩膜版处理系统

[实用新型]一种曝光机-CN201721282428.5有效
发明人：张康;渠谦;卢兵;徐钟国;房晓梅 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-09-30 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光机，包括光源，掩膜版，以及位于光源和掩膜版之间的光强调节器；其中，光强调节器，用于调节光源射向掩膜版上不同位置处的光线的光强。本实用新型实施例提供的上述曝光机，通过设置光强调节器，可以调节射向掩膜版上不同位置处的光线的光强，即可以根据实际需要调整不同位置处的曝光量，使形成的图案的线条更加均匀，而且无需重复制作掩膜版，节约成本。
一种曝光

[实用新型]立式曝光机高精度自动间隙调整系统-CN202221999130.7有效
发明人：刘凌益 -专利权人：无锡旭电科技有限公司
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种立式曝光机高精度自动间隙调整系统，包括顶板、底板、侧板、X轴平移组件、X轴伺服马达、X轴平移平台、左侧Y轴、Z轴动力驱动平移组件、左侧曝光平台、左侧Y轴操作用平移组件、左侧掩膜版平台、左侧掩膜版、右侧Y轴、Z轴动力驱动平移组件、右侧曝光平台、右侧Y轴操作用平移组件、右侧掩膜版平台、右侧掩膜版与间隙测量传感器。本实用新型采用立式安装左右两侧的玻璃掩膜版，减少因重力导致的玻璃掩膜版变形；本实用新型中，每台X轴伺服马达独立控制，能根据对应的间隙测量传感器的测量数据进行调整，使左侧掩膜版与右侧掩膜版之间的间隙精度更高
立式曝光高精度自动间隙调整系统

[发明专利]曝光机-CN202011546676.2在审
发明人：刘波 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光机，涉及半导体集成电路制造技术，用于解决曝光后晶圆良率低的问题。该曝光机包括机台、遮挡装置以及驱动装置；机台设置有凹陷部，凹陷部具有顶部敞口，凹陷部内设置有基座和放置台，放置台可升降的设置在基座上，放置台用于承载掩膜版载具，掩膜版载具内装载有掩膜版，掩膜版载具能够从顶部敞口置于放置台上；机台上还设置有驱动装置和可活动的遮挡装置，驱动装置与遮挡装置连接，遮挡装置处于初始位置时，遮挡装置遮挡顶部敞口，当掩膜版载具需要从顶部敞口置于放置台上时，驱动装置打开遮挡装置，并暴露出顶部敞口，以使掩膜版载具能够从顶部敞口置于放置台上本发明的曝光机可以使得晶圆曝光后的良率提升。
曝光

[实用新型]立式曝光机的高精度曝光平台-CN202221996945.X有效
发明人：刘凌益 -专利权人：无锡旭电科技有限公司
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种立式曝光机的高精度曝光平台，包括顶板、底板、侧板、X轴平移组件、X轴平移平台、左侧Y轴、Z轴动力驱动平移组件、左侧曝光平台、左侧Y轴操作用平移组件、左侧掩膜版平台、左侧掩膜版、气囊密封板、右侧Y轴、Z轴动力驱动平移组件、右侧曝光平台、右侧Y轴操作用平移组件、右侧掩膜版平台、右侧掩膜版、可充放气气囊与抽真空接口。本实用新型采用立式安装掩膜版，安装简单且掩膜版变形小；产品由上向下传送，可以有效的减少灰尘对产品产生的不良。
立式曝光高精度平台

[发明专利]一种多参考点高精度掩膜版贴片装置-CN202211157642.3在审
发明人：张津 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明涉及掩膜版刻划技术领域，提出了一种多参考点高精度掩膜版贴片装置，包括机架，设于机架上的第一调整组件、支柱和第一推顶件，设于第一调整组件上的摄像机，设于支柱顶端的第二调整组件，设于第二调整组件上的压板，设于第一推顶件顶端的支撑台，设于支撑台上的第三调整组件，第三调整组件位于掩膜版的下方，掩膜版位于压板和第二调整组件之间，贴片位于第三调整组件和掩膜版之间，压板和掩膜版实现在XZ方向的移动和绕Y轴的转动，贴片借助第三调整组件实现XYZ方向的微调，摄像机为两个且用于定位掩膜版的位置，贴片借助第三调整组件贴合在掩膜版上。
一种参考高精度掩膜版贴片装置

[发明专利]光掩膜版的射频识别管理系统及方法-CN201910227024.3在审
发明人：游聪敏;高丁山 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2019-03-22 - 公布日： 2020-10-20 - 主分类号： G06K7/14 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩膜版的射频识别管理系统及方法，所述系统包括：光掩膜版，在其上设置有光掩膜版信息标记；光掩膜版传送盒，在其上设置有光掩膜版传送盒信息标记；信息读取装置，用于读取光掩膜版信息标记的信息和光掩膜版传送盒信息标记的信息；以及处理装置，用于比较所述光掩膜版信息标记所对应的型号和光掩膜版传送盒信息标记所对应的型号是否相同；若相同，则对所述光掩膜版继续执行后续操作，若不相同，则所述光掩膜版不能执行所述后续操作。上述系统可以在出货前、上机时和制程加工程序中对光掩膜版的型号进行验证，从而提高光掩膜版的存取效率，避免光掩膜版型号错误带来的各种问题。
光掩膜版射频识别管理系统方法

[发明专利]一种OLED曝光机-CN201810184341.7有效
发明人：李跃松;朱春晖;莫卫东;洪志华 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2018-03-07 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种OLED曝光机，包括从上往下沿光路设置的曝光光源、掩膜版平台、对位显微镜、设置在所述对位显微镜周围的投影镜头及底座，所述掩膜版平台与所述对位显微镜之间设置有激光探测器，所述掩膜版位置及所述基座上方位置均设置有干涉仪；其中，所述OLED曝光机的坐标精度采用如下方法进行调整，其中，所述掩膜版平台的坐标的补偿基于中性层原理。本方法能保证每次不同时间测量同一张掩膜版得到的测量结果是一致的。
一种 oled 曝光

[发明专利]一种用于光掩膜基版的平面度检测方法及系统-CN202211015469.3有效
发明人：杨伟;谢双军 -专利权人：中科卓芯半导体科技（苏州）有限公司
申请日： 2022-08-24 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于光掩膜基版的平面度检测方法及系统，涉及半导体检测领域，通过对摄像头和光掩膜基版之间的空间距离进行不断调整，使得采集到较为完整且清晰的光掩膜基版图像，同时基于该采集图像对应的摄像头位置，利用摄像头上固定的光源对光掩膜基版进行光照投射，从而对光掩膜基版的光照干涉条纹图像进行间距解析，使得根据间距解析结果对光掩膜基版进行平面度检测。解决了难以采集到清晰的干涉条纹，导致当摄像机拍摄出的干涉条纹不清晰或者不完整时，无法对光掩膜基版的平面度进行精准判断的技术问题。达到了基于较为清晰的干涉条纹，对光掩膜基版进行平面度的精准检测的技术效果。
一种用于光掩膜基版平面检测方法系统

[发明专利]一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件-CN201910244878.2有效
发明人：郑勇;杜帅;丁文彪 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件，涉及掩膜版领域，能够解决掩膜版在焊接时因激光能量不易控制而造成的焊接不良；该掩膜版包括掩膜图案区以及位于掩膜图案区四周的非掩膜图案区；掩膜图案区包括至少一个有效掩膜区；有效掩膜区中包括：多个蒸镀孔，以及位于蒸镀孔和蒸镀孔之间的遮挡条；掩膜版在非掩膜图案区内设置有焊接区；掩膜版在非掩膜图案区内至少在焊接区的厚度，大于掩膜版在有效掩膜区的遮挡条的厚度。
一种掩膜版及其制作方法组件

[发明专利]一种掩膜版、曝光设备和曝光方法-CN202211203997.1在审
发明人：杨堂;叶超;魏小丹;何宝生;刘沛;邓祖文 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种掩膜版、曝光设备和曝光方法。该掩膜版包括：有多个子掩膜图形组的第一掩膜子版和有多个透光区的第二掩膜子版。第二掩膜子版设置在第一掩膜子版的一侧，且能够相对第一掩膜子版移动。移动对位结构与第二掩膜子版连接，用于根据接收到的对位信号，控制第二掩膜子版移动，以使得在不同的曝光过程中透光区分别对应不同的子掩膜图形组。本申请实施例可以将多种掩膜版图形集成在一张掩膜版中，减少掩膜版使用数量，降低生产成本，同时减少生产时掩膜版的移动风险及其造成的产品工艺不良。
一种掩膜版曝光设备方法

[发明专利]掩膜版张网框架及掩膜版张网工艺-CN201810639566.7在审
发明人：孙朴;吕守华;王震 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2018-06-20 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： G03F1/64 文献下载
摘要：本发明公开一种掩膜版张网框架及掩膜版张网工艺，掩膜版张网框架包括框体和多根支撑筋。框体为具有开口的闭合框式结构，框体具有顶面。其中，支撑筋固定于框体的顶面，且支撑筋跨设于框体的开口。其中，掩膜版张网于掩膜版张网框架时，掩膜版边缘焊接于框体的顶面，掩膜版的位于开口的部分由支撑筋支撑。本发明通过在采用“支撑筋固定在框体顶面并筋跨设于框体开口”的设计，使得“掩膜版张网于掩膜版张网框架时，掩膜版边缘焊接在框体的顶面，且掩膜版的位于开口的部分由支撑筋支撑”。据此，本发明提出的掩膜版张网框架能够使掩膜版张网后，由支撑筋提供充分的支撑效果，并使掩膜版获得较佳的平坦度。
掩膜版张网支撑筋框体顶面开口掩膜版边缘跨设焊接支撑闭合框式框体顶面框体开口平坦度

[实用新型]一种掩膜版支撑结构及掩膜版清洗支撑组件-CN202321275788.8有效
发明人：叶小稳 -专利权人：合肥清溢光电有限公司
申请日： 2023-05-24 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本实用新型公开了掩膜版支撑结构及掩膜版清洗支撑组件，掩膜版支撑结构包括安装部和支撑部，支撑部与安装部固接且包括若干相离的支撑齿，支撑齿上向上的齿面为支撑面，支撑面呈倾斜状设置，被支撑的掩膜版边沿搭接在支撑面上，支撑面由掩膜版边沿向掩膜版中间位置向下倾斜；掩膜版支撑结构结构简单，支撑能力好，支撑时，与掩膜版的接触为线接触，有效的降低了掩膜版的接触面积，尽量避免在对掩膜版支撑时造成掩膜版污染；同时，若在清洗设备中对掩膜版进行中支撑时，与掩膜版接触面积小，游侠的避免水印产生，同时也降低了掩膜版上清洗死角。
一种掩膜版支撑结构清洗组件