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[发明专利]一种通用掩模版盒-CN201811041483.4在审
发明人：朱希进;尤春;刘维维;季书凤;杨长华;薛文卿;张月圆;刘浩;陈青;刘孝君 -专利权人：无锡中微掩模电子有限公司
申请日： 2018-09-07 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种通用掩模版盒，包括掩模版盒上合盖，掩模版盒上合盖一侧设有掩模版存放盒，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒之间通过两个软铰链连接，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒上均设有5009掩模版限板，5009掩模版限板分别设置于掩模版盒上合盖和掩模版存放盒的四边中心位置，每个设有两个限位杆，上的限位板之间设有5009掩模版限位槽，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒四周均设有6025掩模版限位板，5009掩模版限板内侧设有互为直角的倾斜面
掩模版掩模版盒合盖存放盒限板通用掩模版限位板四边中心位置绿色环保防尘防水雾倾斜面软铰链限位槽限位杆加工

[实用新型]一种通用掩模版盒-CN201821461009.2有效
发明人：朱希进;尤春;刘维维;季书凤;杨长华;薛文卿;张月圆;刘浩;陈青;刘孝君 -专利权人：无锡中微掩模电子有限公司
申请日： 2018-09-07 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种通用掩模版盒，包括掩模版盒上合盖，掩模版盒上合盖一侧设有掩模版存放盒，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒之间通过两个软铰链连接，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒上均设有5009掩模版限板，5009掩模版限板分别设置于掩模版盒上合盖和掩模版存放盒的四边中心位置，每个设有两个限位杆，上的限位板之间设有5009掩模版限位槽，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒四周均设有6025掩模版限位板，5009掩模版限板内侧设有互为直角的倾斜面
掩模版掩模版盒合盖存放盒本实用新型限板通用掩模版限位板四边中心位置绿色环保防尘防水雾倾斜面软铰链限位槽限位杆加工

[发明专利]一种制备蒸镀电极用的免光刻高精度掩模版的方法-CN201210559334.3无效
发明人：吴春艳;张梓晗;吴义良;吕鹏;罗林保;王莉;于永强;揭建胜 -专利权人：合肥工业大学
申请日： 2012-12-21 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：针对现有蒸镀电极用掩膜版或加工成本高或精度差的不足，本发明公开了蒸镀电极的免光刻高精度铜箔掩模版的制备方法，是在铜箔表面旋涂正性光刻胶，通过紫外曝光工艺，在铜箔上形成所需的电极图形，然后将此铜箔放入铜刻蚀液中，在光刻胶的保护下刻蚀出所光刻的图形，去胶即可完成铜箔掩模版的制备。该铜箔掩模版可直接用于蒸镀电极使用，免去了器件制备中的多步光刻工艺，避免了光刻过程可能对材料以及器件性能造成的不利影响。本发明制备方法简单易行，稳定可靠，可以应用到各种微纳米尺寸器件电极的制备。
一种制备电极光刻高精度模版方法

[发明专利]曝光方法和曝光装置-CN02154533.2无效
发明人：平柳德行 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2002-12-06 - 公布日： 2003-06-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种能容易地进行掩模交换和温度管理的曝光方法和曝光装置。在真空初缩掩模版库64上设有用于承载放置被搬运的初缩掩模版的多级初缩掩模版台68。在该初缩掩模版台68内形成液道68a。通过使温度调节用的水流过初缩掩模版台68的液道68a，可以对初缩掩模版台上的初缩掩模版进行温度调节。另一方面，在大气初缩掩模版库66上设有多级初缩掩模版台69。初缩掩模版容器67分别放置在各初缩掩模版台69上。在初缩掩模版容器67和各初缩掩模版上贴有条形码70。当搬运初缩掩模版时，通过读取贴在初缩掩模版上的条形码70，可以对所搬运的初缩掩模版进行确认。
曝光方法装置

[发明专利]一种5块掩模版IGBT芯片及其制造方法-CN201210305957.8有效
发明人：刘江;赵哿;高明超;金锐 -专利权人：中国电力科学研究院;国家电网公司
申请日： 2012-08-24 - 公布日： 2012-12-26 - 主分类号： H01L29/739 文献下载
摘要：本发明涉及一种5块掩模版IGBT芯片，由所述5块掩模版制造形成IGBT芯片；所述5块掩模版分别是孔掩模版、金属掩模版、钝化掩模版、有源区掩模版和多晶掩模版；所述孔掩模版、金属掩模版和钝化掩模版位于IGBT芯片互连及保护模块中；所述有源区掩模版和多晶掩模版位于与IGBT芯片互连及保护模块相反方向的模块中。本发明还涉及一种5块掩模版IGBT芯片的制造方法，本发明的方案极大降低IGBT芯片制造成本，为IGBT芯片制造指出了一条新颖的技术路线。实现容易，可行性强；与传统IGBT芯片制造方法（≥6块掩模版）相比，显著的降低成本。
一种模版 igbt 芯片及其制造方法

[发明专利]光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法-CN202010303264.X在审
发明人： L·麦克金;J·科布森;A·H·J·坎普赫尤斯 -专利权人：恩智浦美国有限公司
申请日： 2020-04-17 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法。用于集成电路装置图案化的光学控制模块、掩模版及包括光学控制模块和掩模版的方法。方法包括经由掩模版在半导体衬底的表面上曝光初始掩模版曝光场和后续掩模版曝光场。初始掩模版曝光场和后续掩模版曝光场在半导体衬底上图案化相应的阵列区域和边缘区域。初始掩模版曝光场与所述后续掩模版曝光场部分重叠，使得在初始掩模版曝光场的曝光期间图案化的初始光学控制模块(OCM)和在后续掩模版曝光场的曝光期间图案化的后续OCM都定位在单个控制模块管芯内。掩模版包括可以在方法期间使用或可以形成所述集成电路装置的掩模版。集成电路装置包括使用方法或掩模版形成的集成电路装置。
光学控制模块模版包括光控方法

[发明专利]掩模版传输系统-CN201310049274.5有效
发明人：程永锋;王邵玉 -专利权人：上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2013-02-07 - 公布日： 2014-08-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模版传输系统，用于将掩模版加载至掩模台或自掩模台卸载掩模版，其包括版库、机械手以及预对准装置。版库用于储存掩模版。机械手沿版库储存掩模版的方向取放掩模版，并沿掩模台加载掩模版的方向加载或卸载掩模版。预对准装置设置于机械手的传输路径上，以在机械手自版库取出掩模版后，对掩模版执行预对准，在预对准完成后，机械手将掩模版加载至掩模台。版库储存掩模版的方向与掩模台加载掩模版的方向相同，以实现机械手的直入直出。本发明公开的掩模版传输系统可实现机械手的直入直出，以避免圆弧运动，使得传输路径简化，以降低系统风险。
模版传输系统

[发明专利]中间掩模版保持器和中间掩模版的组件-CN201110274972.6有效
发明人： G·-J·希伦斯;B·L·W·M·范德文 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-10-26 - 公布日： 2012-02-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种中间掩模版和中间掩模版保持器的组件，其中中间掩模版保持器(1)的状态在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的，其中当中间掩模版保持器(1)处于阻止状态中时，中间掩模版保持器(1)用于至少以形状锁合方式沿至少一个方向(X，Y，Z)保持中间掩模版(MA)，当中间掩模版保持器(1)处于释放状态时，该中间掩模版保持器(1)用于释放中间掩模版(MA)。本发明还涉及一种系统，包括中间掩模版(MA)和中间掩模版保持器(201)的组件，以及至少一个检测器(250)，其中中间掩模版(MA)包括一个或多个标记(MRK)，其中中间掩模版保持器(201)和检测器(250)用于相对于彼此在运动学上对准，其中检测器(250)用于检测所述中间掩模版标记(MRK)，用以使中间掩模版(MA)相对于中间掩模版保持器(201)定位。
中间模版保持组件

[发明专利]中间掩模版保持器和中间掩模版的组件-CN200410087986.7有效
发明人： G·－J·希伦斯;B·L·W·M·范德文 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-10-26 - 公布日： 2005-09-28 - 主分类号： G03F1/16 文献下载
摘要：中间掩模版和中间掩模版保持器的组件，其中中间掩模版保持器(1)的状态在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的，其中当中间掩模版保持器(1)处于阻止状态中时，中间掩模版保持器(1)用于至少以形状锁合方式沿至少一个方向(X，Y，Z)保持中间掩模版(MA)，当中间掩模版保持器(1)处于释放状态时，该中间掩模版保持器(1)用于释放中间掩模版(MA)。本发明还涉及一种系统，包括中间掩模版(MA)和中间掩模版保持器(201)的组件，以及至少一个检测器(250)，其中中间掩模版(MA)包括一个或多个标记(MRK)，其中中间掩模版保持器(201)和检测器(250)用于相对于彼此在运动学上对准，其中检测器(250)用于检测所述中间掩模版标记(MRK)，用以使中间掩模版(MA)相对于中间掩模版保持器(201)定位。
中间模版保持组件

[发明专利]改善金属层工艺热点的OPC修正方法-CN201811323106.X在审
发明人：陈燕鹏;李林;于世瑞 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2018-11-08 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善金属层工艺热点的OPC修正方法，包括：S1，截取OPC修正无法匹配目标层或MEEF较大的工艺热点的版图；S2，调整pxOPC脚本参数，对所截取的版图运行pxOPC，得到掩模板层；S3，使用OPC模型对pxOPC得到的掩模板层进行仿真得到模拟图形层；S4，将模拟图形层替换后续生成掩模板的OPC修正过程中使用的弯曲目标层，或者对生成弯曲目标层的OPC参数进行调整，使生成的弯曲目标层与模拟图形层一致或接近；S5，使用OPC模型进行常规的OPC修正，生成最终的符合OPC要求的掩模板层。本发明将pxOPC的建议结果用于OPC修正过程中，不需要更改复杂的参数和缩短掩模板层的分段，可以简化OPC修正过程，确保得到的掩模板图形与OPC目标层更接近，便于掩模板制造和光刻工艺稳定性。
掩模板目标层模拟图形金属层工艺截取掩模板图形光刻工艺建议结果脚本参数匹配目标常规的分段替换制造

[发明专利]掩模板版图的修正方法及系统和掩模板-CN202211656410.2在审
发明人：姚逸云;王栋;袁伟 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩模板版图的修正方法及系统和掩模板，方法包括以下步骤：S1，获取版图的技术节点信息及工艺层次信息以确定需要在邻侧添加辅助图形的目标主图形；S2，计算目标主图形到与其相邻的主图形的距离并记录为初始距离值；计算目标主图形的宽度值；S3，根据目标主图形的宽度值和初始距离值在目标主图形的邻侧生成初始辅助图形；S4，计算目标主图形到与其相邻的图形的距离并记录为修正距离值；判断修正距离值是否满足优化条件；S5，当修正距离值满足优化条件时，调整辅助图形的数量值和/或调整辅助图形的宽度值，重复执行S4直至修正距离值不再满足优化条件；S6，对辅助图形进行过曝检查。该方法用于增大掩模板的光刻工艺窗口。
模板版图修正方法系统

[发明专利]对位标记和半导体结构的形成方法、组合掩膜版-CN201911066595.X在审
发明人：巫奉伦;王嘉鸿;夏忠平;黄建维 -专利权人：福建省晋华集成电路有限公司
申请日： 2019-11-04 - 公布日： 2020-09-08 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本发明提供了一种对位标记和半导体结构的形成方法、组合掩模版。通过组合使用第一掩模版和第二掩模版，以界定出对位标记的图形，从而使得所形成的对位标记的结构更为复杂且精度更高，进而基于该对位标记执行光刻工艺时，即有利于提高光刻工艺的对准精度，减小光刻工艺的对位偏差。
对位标记半导体结构形成方法组合掩膜版

[发明专利]OPC修正方法-CN201711097082.6有效
发明人：王丹;毛智彪;于世瑞 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2017-11-09 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： G06F30/398 文献下载
摘要：本发明公开了一种OPC修正方法，包括步骤：步骤一、对已知热点图形进行归纳和总结；步骤二、对已知热点图形的处理方法进行归纳和总结；步骤三、制定出已知热点图形和潜在热点图形的识别规则；步骤四、制定出已知热点图形和潜在热点图形进行预先处理的预处理规则；步骤五、对新设计的掩模板版图进行已知热点图形和潜在热点图形识别，将识别出的已知热点图形和潜在热点图形按照进行预处理，对预处理后的新设计的掩模板版图进行OPC修正。
opc 修正方法

[发明专利]掩模版厚度检测装置、存储机构、传输机构及光刻系统-CN201810251811.7有效
发明人：牛增欣;郑教增 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-03-26 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模版厚度检测装置、存储机构、传输机构及光刻系统。其中，掩模版厚度检测装置，包括：厚度检测传感器，包括激光发射与接收端，激光发射与接收端位于掩模版的一侧，沿掩模版的水平方向发射激光照射掩模版，并接收被反射回的激光；驱动部件，用于驱动掩模版或厚度检测传感器运动，以使二者在沿掩模版的厚度方向上相对运动；厚度计算单元，计算掩模版的厚度信息。本发明实施例提供的掩模版厚度检测装置，通过厚度检测传感器检测掩模版的厚度，并根据该厚度信息实时调整掩模版的工位交接距离，避免相邻掩模版之间发生碰撞而损坏掩模版或掩模版传输机构。
模版厚度检测装置存储机构传输光刻系统

[发明专利]掩模版的参数监控方法、装置及计算机可读存储介质-CN202211649560.0在审
发明人：耿明春 -专利权人：无锡迪思微电子有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：本申请提供了一种掩模版的参数监控方法、装置及计算机可读存储介质，该方法包括：首先，提供基准掩模版；然后，借助基准掩模版，获取相位角与掩模版尺寸之间的第一关系，获取透射率与掩模版尺寸之间的第二关系，掩模版尺寸至少包括掩模版关键尺寸；之后，提供待测掩模版，获取待测掩模版的掩模版尺寸实测变化值；最后，基于待测掩模版的掩模版尺寸实测变化值、第一关系以及第二关系，确定待测掩模版的相位角监控变化值和透射率监控变化值。仅需测量待测掩模版的掩模版尺寸实测变化值，避免使用较为昂贵的专用设备以及较为局限的方法，即可获得待测掩模版的相位角监控变化值和透射率监控变化值，参数监控的准确性高且成本较低。
模版参数监控方法装置计算机可读存储介质