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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种掩膜板清洗装置-CN201921168514.2有效
发明人：孙荣兵 -专利权人：昆山维信诺科技有限公司
申请日： 2019-07-23 - 公布日： 2020-02-18 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本实用新型提供的一种掩膜板清洗装置，包括：载台，适于承载掩膜板；吹气管道，用于对所述载台吹气；喷水管道，用于对放置在所述载台上的所述掩膜板喷水；感应器，设置在所述载台上；控制器，与所述感应器电连接，用于在所述感应器感应到所述掩膜板放置在所述载台上时当掩膜板放置在载台上时，控制器控制吹气管道停止吹气，能够避免喷水管道在对掩膜板喷水清洗时，水进入吹气管道，从而避免吹气管道在吹气干燥的过程中有水从吹气管道中吹出，因此能够避免掩膜板上有水渍残留。
一种掩膜板清洗装置

[实用新型]一种载泥沉淀装置-CN202320990116.9有效
发明人：王薇赫;王沛才 -专利权人：吉林省奥莱特净水设备有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： B01D21/30 文献下载
摘要：本实用新型提供一种载泥沉淀装置，包括：沉淀池，所述沉淀池内设置有至少一组连续闭环载泥装置，连续闭环载泥装置包括：支架，从上至下设置在支架两侧的变向转辊，呈S形连续铺设在变向转辊上的循环载布、载膜或载板，以及驱动变向转辊的马达，循环载布、载膜或载板与所有变向转辊接触后共同形成循环输送带，马达通过变向转辊带动循环载布、载膜或载板沿垂直水流方向平移移动，变向转辊用于驱动并改变循环载布、载膜或载板每层的方向，上下两层所述循环载布、载膜或载板之间形成水平浅池；本实用新型的优点是：整个池子分隔为若干平流浅池，运行时沉泥面为水平面，沉淀面积利用率百分之百，小型平流沉淀池分布均匀，无死角死区。
一种沉淀装置

[发明专利]一种曝光设备、掩膜板及曝光方法-CN201010175938.9有效
发明人：郭建;周伟峰;明星;陈永;肖光辉 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2010-05-14 - 公布日： 2011-11-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光设备、掩膜板及曝光方法，涉及薄膜晶体管液晶显示器制造领域，能够利用一块掩膜板对两层光刻胶进行曝光，减少了制造成本，提高了生产效率。该设备包括：承载基板的载台；在载台上方，与载台平行地设有掩膜板；掩膜板与载台之间设有透镜装置；第一照明光源，射出的光线从掩膜板的上方垂直射到掩膜板的上表面，穿过掩膜板，经由透镜装置射到载台；在掩膜板的下表面上，掩膜板的光吸收区域中设有光反射区域；在透镜装置中设有光反射装置；第二照明光源，射出的光线通过透镜装置中的光反射装置被垂直地反射到掩膜板的下表面，被掩膜板下表面的光反射区域反射，经由透镜装置射到载台。
一种曝光设备掩膜板方法

[发明专利]成膜装置、成膜系统以及成膜方法-CN201910733755.5在审
发明人：品田正人;户岛宏至 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以倾斜成膜为基础而进行自由度较高的溅射成膜的成膜装置、成膜系统以及成膜方法。成膜装置具备：处理腔室；第1溅射粒子释放部和第2溅射粒子释放部，其分别具有在处理腔室的处理空间沿着互不相同的倾斜方向释放溅射粒子的靶；溅射粒子遮蔽板，其具有供溅射粒子穿过的穿过孔；基板支承部，其支承基板
装置系统以及方法

[发明专利]成膜方法、成膜系统以及成膜装置-CN201980041837.1在审
发明人：山口克昌;前川浩治;鲛岛崇;中岛滋 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： C23C16/06 文献下载
摘要：成膜方法包括以下工序：将形成有绝缘膜的基板配置于处理容器内，在减压气氛下向处理容器内重复供给含Ti气体、含Al气体以及反应气体来形成基底膜；以及通过金属材料在形成有基底膜的基板形成金属层。
方法系统以及装置

[发明专利]成膜装置、成膜单元和成膜方法-CN202080106929.6在审
发明人：饭塚贵嗣 -专利权人：饭塚贵嗣
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开内容的主题是提供被配置成改善涂覆形成在基底中的孔的内周表面的膜的粘附性的成膜装置、成膜单元和成膜方法。成膜装置(1)包括：待容纳基底(2)的室(3)；设置在室(3)中的支撑体(4)，所述支撑体(4)被配置成支撑具有在垂直方向上开放的基底(2)的孔(20)的基底(2)；和设置在室(3)中的蒸发源(5)，所述蒸发源
装置单元方法

[发明专利]成膜装置、成膜头和成膜方法-CN201080044833.8有效
发明人：小野裕司;林辉幸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-09-30 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：提供一种成膜装置，该成膜装置能够进行期望条件下的有机成膜材料和无机成膜材料的共蒸镀。该成膜装置具备：收纳被处理基板(G)的处理室；设置于处理室的外部的产生有机成膜材料的蒸气的蒸气产生部；有机成膜材料供给部(22)，其设置于处理室的内部，将在蒸气产生部产生的有机成膜材料的蒸气喷出；无机成膜材料供给部(24)，其设置于处理室的内部，喷出无机成膜材料的蒸气；和混合室(23)，其将从有机成膜材料供给部(22)喷出的有机成膜材料的蒸气与从无机成膜材料供给部(24)喷出的无机成膜材料的蒸气混合，混合室(23)具备使有机成膜材料和无机成膜材料的混合蒸气通过、向被处理基板(G)供给的开口部(23c)。
装置成膜头方法

[发明专利]成膜装置、成膜系统和成膜方法-CN200780029265.2无效
发明人：松林信次;茂山和基;户部康弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-08-08 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供成膜装置、成膜系统和成膜方法。该成膜系统能够避免在有机EL元件等的制造工序中所形成的各层的相互污染、而且所占空间也小、且具有高生产率。成膜装置(13)用于在基板上进行成膜，其中，在处理容器(30)的内部包括用于成膜第1层的第1成膜机构(35)和用于成膜第2层的第2成膜机构(36)。设置用于使处理容器(30)内减压的排气口(31)，并将第1成膜机构(35)配置在相比第2成膜机构(36)更靠近上述排气口(31)的位置上。第1成膜机构(35)例如利用蒸镀在基板上成膜第1层，第2成膜机构(36)例如利用溅射在基板上成膜第2层。
装置系统方法

[发明专利]成膜装置、成膜系统及成膜方法-CN200780029415.X无效
发明人：茂山和基;野泽俊久 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-08-08 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种能避免在有机EL元件等的制造工序中形成的各层的相互污染、且占地面积较小、生产率较高的成膜系统。一种在基板(G)上成膜的成膜装置(13)，在处理容器(30)的内部具有用于形成第1层的第1成膜机构(35)和用于形成第2层的第2成膜机构(36)，第1成膜机构(35)包括：配置于处理容器(30)的内部的、用于向基板供给成膜材料的蒸气的喷嘴(34)；配置在处理容器的外部的、用于产生成膜材料的蒸气的蒸气产生部(45)；将在蒸气产生部(45)产生的成膜材料的蒸气输送到喷嘴(34)的配管(46)。
装置系统方法

[发明专利]高密度载带-CN202211470698.4在审
发明人：汉斯-于尔根·芬克 -专利权人：安世有限公司
申请日： 2022-11-23 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： B65D73/02 文献下载
摘要：本公开涉及载带、组件和取放装置。该载带保持电子元件，并且载带缠绕在卷轴上。此外，本公开涉及容纳该载带并且对布置在载带中的电子元件进行取放的取放装置。根据本公开的一个方面的载带包括粘合膜，该粘合膜形成腔的底壁，在该腔的底壁中布置有多个电子元件。粘合膜的粘合剂配置成由于加热粘合剂和/或由于使用诸如可见光、红外光或紫外光等光照射粘合剂而基本释放对电子元件的附接，以允许使用取放装置从腔移除电子元件。
高密度

[发明专利]基板载置装置、成膜装置、基板载置方法、成膜方法和电子器件的制造方法-CN202010369462.6在审
发明人：石井博;太田明;镰野直幸 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2018-05-21 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明提供基板载置装置、成膜装置、基板载置方法、成膜方法和电子器件的制造方法，抑制将基板载置于载置体时的每个基板的偏差。基板载置装置具备：包括支承基板的周缘的多个支承件的支承部件；以及将基板载置在载置体之上的载置部件，其特征在于，所述多个支承件的一部分的支承件间的距离与其它的支承件间的距离不同。或者，基板载置装置具备：包括支承基板的周缘的多个支承件的支承部件；使所述多个支承件中的至少一部分与其它的支承件独立地移动的支承件移动部件；以及将基板载置在载置体之上的载置部件。
基板载置装置方法电子器件制造

[发明专利]基板载置装置、成膜装置、基板载置方法、成膜方法和电子器件的制造方法-CN201810485128.X有效
发明人：石井博;太田明;镰野直幸 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2018-05-21 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明提供基板载置装置、成膜装置、基板载置方法、成膜方法和电子器件的制造方法，抑制将基板载置于载置体时的每个基板的偏差。基板载置装置具备：包括支承基板的周缘的多个支承件的支承部件；以及将基板载置在载置体之上的载置部件，其特征在于，所述多个支承件的一部分的支承件间的距离与其它的支承件间的距离不同。或者，基板载置装置具备：包括支承基板的周缘的多个支承件的支承部件；使所述多个支承件中的至少一部分与其它的支承件独立地移动的支承件移动部件；以及将基板载置在载置体之上的载置部件。
基板载置装置方法电子器件制造

[发明专利]基板载置装置、成膜装置、基板载置方法、成膜方法和电子器件的制造方法-CN202010361030.0有效
发明人：石井博;太田明;镰野直幸 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2018-05-21 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明提供基板载置装置、成膜装置、基板载置方法、成膜方法和电子器件的制造方法，抑制将基板载置于载置体时的每个基板的偏差。基板载置装置具备：包括支承基板的周缘的多个支承件的支承部件；以及将基板载置在载置体之上的载置部件，其特征在于，所述多个支承件的一部分的支承件间的距离与其它的支承件间的距离不同。或者，基板载置装置具备：包括支承基板的周缘的多个支承件的支承部件；使所述多个支承件中的至少一部分与其它的支承件独立地移动的支承件移动部件；以及将基板载置在载置体之上的载置部件。
基板载置装置方法电子器件制造

[发明专利]成膜方法、成膜装置和存储介质-CN200780014788.X无效
发明人：佐久间隆;横山敦;池田太郎;波多野达夫;水泽宁 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-04-10 - 公布日： 2009-05-13 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供成膜方法、成膜装置和存储介质。将表面形成有凹部的被处理体(例如，半导体晶片(W)等)载置于设置在能够抽真空的处理容器(24)的内部的载置台(34)。而且，向载置台(34)供给偏置电力，通过该供给的偏置电力将上述金属离子引至载置在上述载置台(34)上的上述被处理体，由此，在包括上述凹部内的表面的上述被处理体的表面上形成薄膜。
方法装置存储介质

[实用新型]一种生物膜冷冻保存装置-CN201620781800.6有效
发明人：赵钦军;孙荟槟 -专利权人：北京汉氏联合生物技术股份有限公司
申请日： 2016-07-22 - 公布日： 2016-12-21 - 主分类号： A01N1/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种生物膜冷冻保存装置，包括冷冻袋、冷冻袋开口缝隙、载膜板、盖膜板、通孔，通孔设置在载膜板上；载膜板和盖膜板的板面相邻设置并同时设置在冷冻袋的内腔中；冷冻袋的四个边设置有热压塑封边框，热压塑封边框的一边设置有冷冻袋开口缝隙；利用固定载膜板与盖膜片能够很好的进行成型后的生物膜的固定，便于保存；通过盖膜片揭开手柄，能够很容易的把固定载膜板和盖膜片分离，方便人员进行生物膜的固定和取出工作；另外，固定好的生物膜可以放置在冷冻袋中并注入冷冻保护液并完成封装，将该冷冻袋装置置于液氮中冻存可以长期保持生物膜生物学活性，延长保存时间。
一种生物膜冷冻保存装置

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