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[发明专利]铟柱制备装置、制备方法、系统、电子设备及存储介质-CN202310256799.X在审
发明人：庄春泉;龚君挺;刘大福;李雪 -专利权人：无锡中科德芯感知科技有限公司
申请日： 2023-03-16 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种铟柱制备装置、制备方法、系统、电子设备及存储介质，其中，铟柱制备装置的加热组件、工件台和深冷盘管设于腔体内；工件台与第一制冷模块连接；深冷盘管与第二制冷模块连接；腔体底部用于放置铟源材料；加热组件用于加热铟源材料；工件台用于放置镀有铟柱下金属的焦平面芯片；第一制冷模块用于将工件台降温至第一温度；第二制冷模块用于将深冷盘管降温至第二温度，以使深冷盘管吸附水汽。本发明分别通过第一制冷模块、第二制冷模块使深冷盘管的温度小于露点温度，工件台上放置的焦平面芯片的温度大于露点温度，深冷盘管吸附水汽，而焦平面芯片不吸附水汽，从而使得铟薄膜更牢固地粘附在焦平面芯片上。
制备装置方法系统电子设备存储介质

[发明专利]真空镀膜设备及其排气系统-CN202311139359.2在审
发明人：葛鹤龄;王怀民;程序雳;姜友松 -专利权人：安徽其芒光电科技有限公司
申请日： 2023-09-05 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请公开一种真空镀膜设备及其排气系统，排气系统包括：冷阱组件，包括具有沿轴向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体；安装冷阱组件的容纳腔室；冷阱主体位于容纳腔室内；沿轴向延伸的连通通道，连通于容纳腔室上游；连通通道有通入容纳腔室的端口；冷阱主体在端口所在平面上的垂直投影围绕在端口外侧；容纳腔室具有围绕在端口周侧的垂直于轴向的挡壁，冷阱主体被遮挡定位于挡壁背离连通通道的一侧；连通容纳腔室的排气管道，入口位于容纳腔室背离连通通道的一侧；入口在端口所在平面上的垂直投影位于端口的内侧；设置在排气管道上的阀体；连接于排气管道远离容纳腔室一端的第一泵组。本说明书所提供的真空镀膜设备及其排气系统，能提高排气效率。
真空镀膜设备及其排气系统

[实用新型]一种真空腔体内格栅车存储装置-CN202321192299.6有效
发明人：董亮;任鸿庆;张军国 -专利权人：沈阳慧宇真空技术有限公司
申请日： 2023-05-17 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开一种真空腔体内格栅车存储装置，包括上板、下板、立柱、支柱、连杆结构，立柱和支柱位于上板、下板之间，支柱两端和立柱两端分别与上板、下板连接，立柱、支柱将上板和下板之间分割成栅格框架，工装盘位于栅格框架上，还包括前活门和活门组件，前活门与连杆结构连接，连杆结构包括固定连杆、滑动连杆、挡块，挡块固定在上板上，滑动连杆与连接活节组件、挡块顺序连接。本实用新型采用可移动式格栅运输车，可以存储多个工装盘，是真空设备的重要组成部分，可以进行周转，有效利用抽一次真空完成多次镀膜，可有效提高镀膜磁控溅射、热蒸发等工序的工艺效率，具有占用空间小，操作方便的优点。
一种空腔体内格栅存储装置

[实用新型]冷却辊以及卷对卷镀膜机-CN202320927777.7有效
发明人：祁岭;刘钢;姜宏峰;李永强;姜春华 -专利权人：安迈特科技（北京）有限公司
申请日： 2023-04-23 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及缠绕式镀膜设备技术领域，具体涉及一种冷却辊以及卷对卷镀膜机。冷却辊包括空心金属辊体(1)、打底层(2)和橡胶层(3)；其中，所述打底层(2)设置在所述空心金属辊体(1)的外表面上，所述橡胶层(3)设置在所述打底层(2)上。本实用新型中提供的冷却辊，可以显著提高卷材与冷却辊辊面贴合性和冷却辊冷却效果，适合工业化推。
冷却以及镀膜

[实用新型]卷绕装置、真空镀膜系统及电池制造生产线-CN202322008682.8有效
发明人：罗军 -专利权人：宁德时代新能源科技股份有限公司
申请日： 2023-07-28 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请涉及一种卷绕装置、真空镀膜系统及电池制造生产线，第二卷绕组件向第一卷绕组件放卷待测镀膜基材，实现待测镀膜基材复卷的情况下，通过标记检测器能够检测待测镀膜基材异常位置的异常标记信息，并发送至控制器。控制器接收该异常标记信息，即可实现对待测镀膜基材的复卷验证。该方案，通过标记检测器检测异常标记信息的方式，实现待测镀膜基材的复卷验证，相对人工验证的方式，具有较高的复卷验证准确性。
卷绕装置真空镀膜系统电池制造生产线

[实用新型]一种光学镜片用镀膜机-CN202321370795.6有效
发明人：杨华江;高自祥;黄长姣;李二军;郭学伟;韩冬;李刚;崔亚东;赵莎莎;郭家中;司忆超 -专利权人：焦作市金峰光学科技有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及焊接设备领域，具体公开了一种光学镜片用镀膜机，主体机构、镀膜机构和上料机构，所述主体机构的顶端设置有镀膜机构，且镀膜机构的一侧连接有上料机构；有益效果为：主体机构可对镀膜机构进行稳定放置，同时便于使用者对此镀膜机进行摆放调节，可为光学镜片加工镀膜提供稳定的加工环境，通过镀膜机构可对光学镜片进行封闭式镀膜加工，减少灰尘进入的可能性，同时可对镜片镀膜时的稳定度进行提升，增强镜片加工的合格率和效率，通过上料机构可对需要镀膜的镜片进行稳定放置和自动传输至镀膜机构内进行加工，减少人工送料存在的精准度误差和效率较低的情况，可有效提升光学镜片的镀膜效率。
一种光学镜片镀膜

[发明专利]一种带材真空等离子体镀膜方法及装置-CN202110408149.3有效
发明人：杜顺锋 -专利权人：佛山市天定五金制品有限公司
申请日： 2021-04-15 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：一种带材真空等离子体镀膜方法及装置，包括真空镀膜室、设置在真空镀膜室内的收卷放卷装置，其特征在于收卷放卷装置包括设置在真空镀膜室内的两轴、移动小车、并排转动设置在移动小车上的两卷辊，两轴中的一个以上由动力带动转动，两轴的位于真空镀膜室内的端部设置有阴离合器构件，卷辊的对着阴离合器构件的端部设置有阳离合器构件，卷辊两端的轴上设置有轴承，对应卷辊的轴承的移动小车上设置有轴承支架。本发明与已有技术相比，具有能防止带板受到污染的、保证放卷时的线速度稳定的、能快速放进卷成卷状的金属带板的、省时省力的、生产效率高的优点。
一种真空等离子体镀膜方法装置

[发明专利]离子束辅助沉积镀膜装置及镀膜方法-CN202310935263.0在审
发明人：朱佳敏;陈思侃;高中赫;李鸿;曹森;陈永春;陈晓琦;孙树博;林晓辉;柏培 -专利权人：上海超导科技股份有限公司
申请日： 2023-07-27 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供了一种离子束辅助沉积镀膜装置，包括：源系统：包括至少一组镀膜系统和至少一组刻蚀系统，镀膜系统包括离子源、蒸发源、激光源或电子束，刻蚀系统包括离子源；真空系统：提供真空环境；走带系统：对带材进行收放卷；控制系统：在控制系统的作用下，所述走带系统进行收放卷，所述镀膜系统对处于真空环境内的带材进行镀膜和/或所述刻蚀系统对处于真空环境内的带材进行刻蚀。通过对前几道走带同时进行镀膜和刻蚀，且刻蚀速度大于镀膜速度，使净沉积速度很低，但由于高的刻蚀速度，在此沉积的氧化镁会形成极优的织构度，保证同根带材两端的织构度差别＜10％，最终制备的超导带材，两端的临界电流差别小于10％，进而提高了镀膜效果。
离子束辅助沉积镀膜装置方法

[发明专利]卷对卷磁控溅射镀膜装置-CN202310938679.8在审
发明人：朱佳敏;高中赫;陈思侃;曹森;袁海波;陈黔;林晓辉;柏培;吴超;陆亚明;李怀珍;程浩宇 -专利权人：上海超导科技股份有限公司
申请日： 2023-07-27 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供了一种卷对卷磁控溅射镀膜装置，包括靶系统：用于在基底上镀制所需求的膜层；真空系统：用于提供真空环境；走带系统：对带材进行收放卷，包括多道连续走带；控制系统：控制走带系统进行收放卷，靶系统在处于真空环境内的多道走带基底上镀制所需求的膜层。通过采用中频溅射结合磁控阴极的结构，使磁控阴极磁场变大、溅射速率变快，能够有效地提高磁控溅射镀膜速度，且系统发射低，可以实现去除对带材降温的水冷板，以及支撑水冷板的支架，一方面能够除水冷板导致的带材卷边的情况发生，另一方面，避免了镀制过程中存在的电弧放电、打火问题，有助于提高带材的生产速度和生产质量。
磁控溅射镀膜装置

[发明专利]一种磁控溅射与电子束复合型镀膜装置-CN202311180204.3在审
发明人：朱国朝 -专利权人：纳狮新材料有限公司杭州分公司;东莞瀚晶纳米材料有限公司
申请日： 2023-09-13 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控溅射与电子束复合型镀膜装置，属于真空镀膜设备技术领域，包括真空腔体，其内部设有传送组件、蒸发室和镀膜组件；蒸发室设于真空腔体的底部，配置有可转动的靶材基座，用于放置目标靶材；镀膜组件包括磁控溅射机构和电子枪，磁控溅射机构设于真空腔体的中部，用于在柔性基膜的表面形成金属薄膜；电子枪与靶材基座相对设置，用于轰击目标靶材使之挥发并沉积在金属薄膜的表面。本发明结构简单，设备成本低，采用电子束镀膜与磁控溅射技术相配合，提高了柔性基膜的耐温性，降低柔性基膜的应力，并能降低加工工艺中产生的热量，镀膜效率更高，良率更高。
一种磁控溅射电子束复合型镀膜装置

[发明专利]保持镀膜腔真空度稳定的方法、装置以及可读存储介质-CN202210457199.5有效
发明人：陈培绍;吴标平;李日天;彭中业 -专利权人：中山凯旋真空科技股份有限公司
申请日： 2022-04-27 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种保持镀膜腔真空度稳定的方法，应用于真空镀膜生产线，其包括：位于所述镀膜腔室前侧的所述基材往所述镀膜腔室移动的过程中、所述第一真空门阀打开之前，往所述前过渡腔室充入与所述镀膜腔室类型相同的工艺气体，并控制所述前过渡腔室的真空度，使得所述基材到达所述前过渡腔室的后端时或到达所述前过渡腔室的后端之前，所述前过渡腔室的真空度相对于所述镀膜腔室的真空度在预定偏差范围之内；类似的，所述第二真空门阀打开之前，参照上述过程进行。本发明还公开了可以实现上述方法的装置以及可读存储介质。通过上述的方法可以保持镀膜腔室的稳定，有利于兼顾镀膜的效率以及质量。
保持镀膜真空稳定方法装置以及可读存储介质

[发明专利]用于导引柔性基板的滚轴装置、用于传送柔性基板的滚轴装置的用途、真空处理设备及处理柔性基板的方法-CN201880094642.9有效
发明人：尼尔·莫里森;尤韦·赫尔曼斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-06-14 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：描述了一种用于导引柔性基板(10)的滚轴装置(100)。滚轴装置(100)包括支撑表面(110)，支撑表面(110)用于接触柔性基板(10)，支撑表面(110)具有涂层(120)，涂层(120)包括负电性聚合物。此外，描述了一种包括滚轴装置(100)的用于处理柔性基板的真空处理设备，及一种在真空处理设备中处理柔性基板的方法。
用于导引柔性滚轴装置传送用途真空处理设备方法

[发明专利]双面镀制超导带材保护层的设备-CN202310927717.X有效
发明人：陈思侃;林晓辉;高中赫;朱佳敏;柏培;袁海波;李俊;卞云杰;周飞;丁逸珺 -专利权人：上海超导科技股份有限公司
申请日： 2023-07-27 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供了一种双面镀制超导带材保护层的设备，涉及超导材料加工设备技术领域，包括靶系统：提供溅射源；真空系统：提供真空环境；走带系统：对带材进行收放卷，包括多道连续的正面走带和多道连续的背面走带；控制系统：在控制系统的控制下，所述走带系统进行收放卷，所述溅射源对位于真空环境内的多道连续的正面走带和多道连续的背面走带镀制保护层。通过将带材绕设走带系统中的多个带轮组上的带轮，无需扭转形成多道连续的正面走带和多道连续的背面走带，溅射源同时对多道连续的正面走带和多道连续的背面走带进行镀制，有助于提高带材双面镀制的质量和效率。
双面超导保护层设备

[实用新型]一种真空等离子机纠偏系统的传动机构-CN202320795731.4有效
发明人：李志强;廖文晗;赵义党 -专利权人：珠海恒格微电子装备有限公司
申请日： 2023-04-11 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及真空等离子处理设备技术领域，尤其涉及一种真空等离子机纠偏系统的传动机构，本实用新型采用第一套筒的一端固定连接移动座，另一端安装丝杆螺母，转动驱动源驱使转动丝杆转动，从而驱使丝杆螺母带动第一套筒/移动座直线运动，并且将第二套筒套接在第一套筒上，隔绝丝杆螺母和丝杆直接暴露在真空腔室内，从而避免腐蚀性物质直接粘附到丝杆螺母/丝杆上，可以有效延长丝杆螺母和丝杆的使用寿命，降低设备停机维护/更换的周期，保证生产产能。
一种真空等离子纠偏系统传动机构

[实用新型]卷绕真空镀膜机用卷绕辊系布局新结构-CN202320789925.3有效
发明人：张伟;张惠东 -专利权人：青州市邦朋真空科技有限公司
申请日： 2023-04-11 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及卷绕真空镀膜机用卷绕辊系布局新结构。其技术方案包括：底座、支撑架和真空箱，底座的顶部通过支撑架转动安装有放卷筒，放卷筒的外侧缠绕有膜料，支撑架一侧的底座顶部固定安装有真空箱，真空箱的一侧固定连接有与膜料对应的等离子处理器，真空箱的顶部固定安装有固定架。本实用新型通过设置有刮板与密封辊之间的相互配合，可以对膜料表面吸附的灰尘进行刮除，使镀膜后不易出现残次品，能够提高真空箱的真空效果，通过在第一支撑辊与输送管之间的相互配合，可以将膜料进行拉直操作，避免膜料发生向下弯曲的情况，可以对膜料进行降温操作，避免造成卷收时粘附在一起的情况。
卷绕真空镀膜布局结构

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