“石井博”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果71个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]静电吸盘系统、成膜装置和方法、吸附方法-CN201910369386.6有效
发明人：柏仓一史;石井博 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供静电吸盘系统、成膜装置和方法、吸附方法及电子器件的制造方法，静电吸盘系统用于吸附第1被吸附体和隔着所述第1被吸附体吸附第2被吸附体，其特征在于，该静电吸盘系统包括：静电吸盘，具有多个吸附部；电压施加部，对所述多个吸附部施加电压；以及电压控制部，用于控制所述电压施加部对电压的施加，所述电压控制部控制所述电压施加部，使得用于吸附所述第2被吸附体的吸附电压从所述静电吸盘的所述多个吸附部中的第1吸附部起在至少一个方向上依次被施加。
静电吸盘系统装置方法吸附

[发明专利]成膜装置、基板吸附方法及电子器件的制造方法-CN202111113640.X有效
发明人： 石井博;上田利幸;冈本直次郎;唐泽拓郎 -专利权人：佳能特机株式会社;株式会社沙迪克
申请日： 2021-09-23 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种在抑制对蒸镀工艺的影响和吸附板的吸附力的降低的同时检测向吸附板吸附基板的吸附状态的成膜装置、基板吸附方法及电子器件的制造方法。成膜装置具备：吸附板，其吸附并保持基板；对准部件，其进行吸附于吸附板的基板与掩模的对准；成膜部件，其经由掩模在基板上成膜；以及检测部件，其设置于吸附板，检测与基板的接触。检测部件包括通过与基板接触而位移的触头。
装置吸附方法电子器件制造

[发明专利]吸附装置、位置调整方法及成膜方法-CN202310744709.1在审
发明人：柏仓一史;石井博;神野纮隆 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供吸附装置、位置调整方法及成膜方法。吸附装置的特征在于，包括：掩模支承单元，所述掩模支承单元用于支承掩模；静电吸盘，所述静电吸盘设置在所述掩模支承单元的一侧，用于吸附基板；以及调整部件，所述调整部件用于调整所述掩模支承单元与所述静电吸盘的相对位置，在以使所述掩模在朝向所述静电吸盘的方向上成为凸状的方式使朝向所述静电吸盘的方向上的力作用于所述掩模的状态下，所述调整部件调整所述掩模支承单元与所述静电吸盘的相对位置。
吸附装置位置调整方法

[发明专利]基板载置方法、电子设备的制造方法及基板载置装置-CN202111098152.6有效
发明人： 石井博;佐藤智之;铃木健太郎 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2017-06-23 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明提供一种基板载置方法、对准方法、成膜方法、电子设备的制造方法及基板载置装置，不仅能够使基板和掩模良好地紧贴，而且能够使基板稳定地移动，并且能够防止载置到掩模上时的基板的位置偏移。具有将基板(1)在用按压工具(8)推压到基板保持体(3)的状态下载置到掩模(2)上的基板载置工序，关于该基板载置工序中的通过按压工具(8)将基板(1)推压到基板保持体(3)，至少在基板(1)和掩模(2)的接触开始时，以按压工具(8)抵接到基板(1)的按压力进行推压，在所述基板载置工序之后，通过按压工具(8)，以比所述接触开始时强的按压力将基板(1)推压到基板保持体(3)。
基板载置方法电子设备制造装置

[发明专利]成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法-CN202011518651.1有效
发明人： 石井博;柏仓一史 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。更有效地进行基板从静电吸盘分离。一种成膜装置，经由掩模在基板上对成膜材料进行成膜，其中，所述成膜装置具备：第1基板支承部，其配置于腔室内，支承所述基板的第1边的周缘部；第2基板支承部，其配置于所述腔室内，支承所述基板的与所述第1边相向的第2边的周缘部；基板吸附部件，其配置于所述腔室内的所述第1基板支承部及第2基板支承部的上方，用于吸附所述基板；以及控制部，所述控制部在所述基板从所述基板吸附部件分离时，进行控制，以使所述第1基板支承部和所述第2基板支承部依次下降。
装置方法电子器件制造

[发明专利]成膜装置、成膜方法、及电子器件的制造方法-CN202310097954.8在审
发明人：山崎将大;石井博 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2023-02-06 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置、成膜方法、及电子器件的制造方法。抑制对基板的影响并使吸附板更可靠地吸附基板。经由掩模对基板进行成膜的成膜装置具备：腔室，所述腔室将内部保持为真空；吸附板，所述吸附板设置在所述腔室的内部，具有产生用于吸附所述基板的静电力的电极；电压控制机构，所述电压控制机构控制向所述电极施加的电压；以及检测机构，所述检测机构检测所述基板向所述吸附板的吸附状态，所述电压控制机构在用于使所述吸附板吸附所述基板的电压控制中，使向所述电极施加的电压从所述电压控制的开始时的初始电压增加，对应于通过所述检测机构检测到所述基板向所述吸附板吸附的情况而停止向所述电极施加的电压的增加。
装置方法电子器件制造

[发明专利]成膜装置、调整方法及电子器件的制造方法-CN202111118818.X有效
发明人： 石井博 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2021-09-24 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C23C14/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种成膜装置、调整方法及电子器件的制造方法，降低由腔室的内外气压差引起的应变带来的影响。一种成膜装置，所述成膜装置具备：腔室，所述腔室将内部保持为真空；基板支承部件，所述基板支承部件设置于所述腔室的内部，并支承基板的周缘部；掩模支承部件，所述掩模支承部件设置于所述腔室的内部，并支承掩模；以及对准部件，所述对准部件进行所述基板与所述掩模的对准，其中，所述成膜装置具备调整部件，所述调整部件在将所述腔室的内部保持为真空的状态下进行调整所述基板支承部件与所述掩模支承部件的相对倾斜的调整动作。
装置调整方法电子器件制造

[发明专利]吸附及对准方法、吸附系统、成膜方法及装置、电子器件的制造方法-CN201910478783.7有效
发明人：柏仓一史;石井博 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2019-06-04 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明涉及吸附及对准方法、吸附系统、成膜方法及装置、电子器件的制造方法。本发明的吸附及对准方法是使用静电吸盘的被吸附体的吸附及对准方法，包括：利用所述静电吸盘吸附第一被吸附体的阶段；调整第二被吸附体与被所述静电吸盘吸附的所述第一被吸附体之间的相对位置偏移的对准阶段；以及利用所述静电吸盘，隔着所述第一被吸附体吸附被调整了相对于所述第一被吸附体的相对位置偏移的所述第二被吸附体的阶段，所述对准阶段在利用所述静电吸盘进行所述第一被吸附体的吸附的中途开始。根据本发明，可以在更短时间内进入成膜工序，减少装置整体的工序时间。
吸附对准方法系统装置电子器件制造

[发明专利]静电吸盘系统、成膜装置和方法、吸附方法及电子器件的制造方法-CN201910278040.5有效
发明人：柏仓一史;石井博 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2019-04-09 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供静电吸盘系统、成膜装置和方法、吸附方法及电子器件的制造方法。静电吸盘系统用于吸附被吸附体，其特征在于，包括：静电吸盘，具有电极部和吸附所述被吸附体的吸附面；电位差施加部，对所述电极部施加电位差；磁力产生部，被配置在所述静电吸盘的所述吸附面的相反侧；以及驱动机构，使所述磁力产生部在包含与所述静电吸盘的所述吸附面平行的第1方向在内的方向上移动。
静电吸盘系统装置方法吸附电子器件制造

[发明专利]吸附装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法-CN201910889651.3有效
发明人：柏仓一史;石井博;神野纮隆 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供吸附装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法。吸附装置的特征在于，包括：被吸附体支承单元，用于支承被吸附体；静电吸盘，设置在被吸附体支承单元的一侧，用于吸附被吸附体；距离调整部件，用于调整被吸附体支承单元与静电吸盘的距离；以及控制部，用于控制对静电吸盘的电压施加以及距离调整部件对被吸附体支承单元与静电吸盘的距离的调整，控制部控制距离调整部件，以使静电吸盘与被吸附体支承单元之间的距离成为规定的间隔，并进行控制，以在被吸附体支承单元和静电吸盘被隔开规定的间隔的状态下，对静电吸盘施加用于在朝向静电吸盘的方向上吸引由被吸附体支承单元支承的被吸附体的电压。
吸附装置方法电子器件制造

[发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN202211553753.6在审
发明人：松本行生;石井博 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置以及成膜方法。能够应对基板的大型化。本发明的成膜装置的特征在于，包括在成膜装置内移动并具备电池的移动体，电池在成膜装置内的第一位置处被供电，并且在成膜装置内的第二位置处进行电力的供给。
装置以及方法

[发明专利]成膜装置、使用其的成膜方法及电子器件的制造方法-CN202011503085.7有效
发明人： 石井博;柏仓一史 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2020-12-18 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： C23C14/12 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置、使用其的成膜方法及电子器件的制造方法。更有效地抑制向静电吸盘吸附时的褶皱的产生。一种成膜装置，经由掩模在基板上对成膜材料进行成膜，其中，成膜装置包括：基板支承部，其配置于腔室内，支承所述基板的周缘部；基板吸附部件，其配置于所述腔室内的所述基板支承部的上方，用于吸附由所述基板支承部支承的所述基板；以及控制部，其控制所述基板支承部朝向所述基板吸附部件的升降，所述基板支承部包括支承所述基板的角的附近的第1支承部、第2支承部以及支承与第1支承部、第2支承部不同的部分的第3支承部，所述控制部对所述第1支承部至第3支承部独立地进行升降控制。
装置使用方法电子器件制造

[发明专利]静电吸盘系统、成膜装置、被吸附体分离方法、成膜方法及电子设备的制造方法-CN201910278043.9有效
发明人：柏仓一史;石井博 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2019-04-09 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明的静电吸盘系统的特征在于，包括：包含电极部的静电吸盘；用于向所述静电吸盘的所述电极部施加电压的电压施加部；及用于控制所述电压施加部进行的电压的施加的电压控制部，所述电压控制部控制所述电压施加部，以便对吸附有第一被吸附体和隔着所述第一被吸附体吸附有第二被吸附体的所述静电吸盘的电极部施加在所述第一被吸附体与所述第二被吸附体接触的状态下用于使所述第一被吸附体和所述第二吸附体从所述静电吸盘一起分离的电压。
静电吸盘系统装置吸附分离方法电子设备制造

[发明专利]静电吸盘系统、成膜装置、吸附方法及成膜方法-CN201910278037.3有效
发明人：柏仓一史;石井博 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2019-04-09 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及静电吸盘系统、成膜装置、吸附方法、成膜方法、以及电子器件的制造方法。静电吸盘系统用于吸附被吸附体，其特征在于，包括：静电吸盘，所述静电吸盘具有电极部和吸附所述被吸附体的吸附面，利用对所述电极部施加的电位差来吸附所述被吸附体；以及吸附辅助构件，在利用所述静电吸盘吸附所述被吸附体时，所述吸附辅助构件用于设定吸附起点并且对吸附进展方向进行引导。根据本发明，可以利用静电吸盘良好地吸附第一被吸附体和第二被吸附体双方而不会残留折皱。
静电吸盘系统装置吸附方法

[发明专利]静电吸盘、成膜装置、基板的吸附方法、成膜方法以及电子设备的制造方法-CN201811010072.9有效
发明人：柏仓一史;石井博;元矢秀和 -专利权人：佳能特机株式会社;株式会社沙迪克
申请日： 2018-08-31 - 公布日： 2023-05-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明的静电吸盘，包括具有电极部的静电吸盘板状件部，所述电极部包括交替配置有分别施加不同极性的电压的电极的部分，所述交替配置的部分的至少一部分，以与进行基板向所述静电吸盘板状件部的吸附的第一方向交叉的方式延伸。
静电吸盘装置吸附方法以及电子设备制造

1
2
3
4
5
下一页»
尾页
共 71 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top