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[发明专利]基片处理装置和基片处理装置的控制方法-CN202110429611.8在审
发明人：田中一光;李黎夫;辻本宏;寺泽淳 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-04-21 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供基片处理装置和基片处理装置的控制方法，在等离子体处理装置中，能够相对于吸引用的高频电功率调整以高功率对等离子体供给等离子体产生用的高频电功率的时刻。基片处理装置包括：载置基片的基片载置台；第一高频电源，其对上述基片载置台供给第一频率的第一高频电功率；阻抗变换器，其将从上述第一高频电源观察到的负载侧的阻抗变换为所设定的设定阻抗；第二高频电源，其对上述基片载置台供给比上述第一频率低的第二频率的第二高频电功率；和控制部，其控制上述阻抗变换器的上述设定阻抗，上述控制部根据基片处理来设定上述设定阻抗。
处理装置控制方法

[发明专利]基片冷却装置和基片冷却方法-CN201910949161.8在审
发明人：三坂晋一朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-10-08 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种对加热处理后的基片进行冷却的基片冷却装置和基片冷却方法。所述基片冷却装置包括：具有冷却机构的冷却载置部；和支承部件，其能够直接接受加热处理后的基片，并支承接受到的该基片，使其在所述冷却载置部之上升降。由此，能够抑制因加热处理后的基片的冷却而引起的翘曲的增大，并且使基片的冷却所需的时间适当化。
冷却装置方法

[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质-CN202111347980.9在审
发明人：渡边刚史;土山正志;榎木田卓;山本太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-11-15 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供其能够提高基片处理装置中的吞吐量并且抑制专用占地面积的基片处理装置、基片处理方法和存储介质。装置构成为包括：设置在承载器区块的承载器载置部的俯视时左右之一侧的一处理区块和另一处理区块；具有设置于承载器区块的第1输送机构的基片的输送区域；载置部的层叠体，其将由第1输送机构、一处理区块的主输送机构、另一处理区块的主输送机构分别交接基片的第1载置部、第2载置部、第3载置部彼此在纵向上重叠地构成，并设置在俯视时第1输送机构的前后之一侧；以及第2输送机构，其以俯视时与第1输送机构一起从前后夹着层叠体的方式设置于输送区域，用于在第1载置部与第2载置部之间、第1载置部与第3载置部之间分别输送基片。
处理装置方法存储介质

[实用新型]一种磁控溅射过程中稳定传输基片载具的装置-CN201920585963.0有效
发明人：李贵成;钟莉霞;梅小艳;廖精巧;李红有;杨子龙 -专利权人：泸州金能移动能源科技有限公司
申请日： 2019-04-26 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射过程中稳定传输基片载具的装置，包括：腔体、设在腔体底部的传动机构、滚动设置在传动机构上的载具、设在载具一侧的永磁体、设在载具一侧且与永磁体不同侧的靶材；所述载具包括：载物板、设在载物板上的侧滑轨、固定在腔体顶部且与所述侧滑轨配合的若干个第一传动轮；通过采用该装置，避免了载物板因移动中左右晃动，实现所述载具的稳定传输，从而避免基片上沉积的膜厚度明显变化不均匀，不影响基片的正常生产效率的同时，提高了基片的生产质量，增强了生产效益。
载具载物板稳定传输侧滑轨永磁体腔体本实用新型磁控溅射腔体顶部生产效率影响基片左右晃动不均匀靶材动轮沉积滚动生产移动配合

[发明专利]基片处理装置-CN201910992484.5在审
发明人：斋藤道茂;金子彰太;山边周平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-10-18 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种基片处理装置。基片处理装置包括：处理容器；载置台，其配置在上述处理容器的内部，能够载置基片；配置在上述处理容器与上述载置台之间的形成阳极的部件，上述部件具有供热交换介质流动的流路。
处理装置

[发明专利]载置台和基片处理装置-CN201980058555.2在审
发明人：柏崎真克;石田寿文;佐佐木良;加藤武宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-09-11 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明载置台包括：基片载置部件，其具有载置被处理基片的载置面；支承基片载置部件的支承部件；致冷剂流路，其在支承部件的内部沿载置面形成，在与配置于载置面侧的顶面相反一侧的底面设置有致冷剂的导入口；以及隔热部件
载置台处理装置

[实用新型]一种用于贴膜设备的载具和贴膜设备-CN202221925946.5有效
发明人：孟伟;齐海官;张诚;刘园园 -专利权人：北京飞宇微电子电路有限责任公司
申请日： 2022-07-25 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B65B33/02 文献下载
摘要：本申请提供了一种用于贴膜设备的载具和贴膜设备，其中，该用于贴膜设备的载具，用于对待切割基片进行固定，包括至少一个载具本体和防划膜，其中：载具本体上设有阵列布置的多个固定槽，固定槽的水平截面形状与待切割基片的形状相匹配；防划膜设置在固定槽的底部，以与待切割基片设有电路的底面接触。通过本申请实施例提供的用于贴膜设备的载具和贴膜设备，可以在机械切割过程中无需手工掰片处理，避免了基片出现崩边、隐裂等情况的出现，保证了切割后基片品质符合产品要求。
一种用于设备

[发明专利]一种异质结太阳能电池载板-CN201410057327.2有效
发明人：吴科俊;陈金元;刘传生 -专利权人：上海理想万里晖薄膜设备有限公司;理想能源设备(上海)有限公司
申请日： 2014-02-20 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明提供了一种异质结太阳能电池载板，所述异质结太阳能电池载板包括顶面以及自顶面凹陷的用以收容并平置基片的凹槽，所述基片设有位于所述凹槽内的上表面，所述载板顶面与基片上表面之间的高度差为0~0.35mm如此设置，有助于基片获得更加均匀的等离子体分布，提高整个基片内膜层的工艺均匀性，从而提高薄膜质量，进而提升异质结太阳能电池性能。
一种异质结太阳能电池

[实用新型]基片寻边装置和光刻系统-CN202020862719.7有效
发明人：李华;汪光文;王晓军;王殿辉 -专利权人：上海探跃半导体设备有限公司
申请日： 2020-05-21 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一基片寻边装置和光刻系统，该基片寻边装置基于NIKON I8光刻机进行改进，该基片寻边装置包括：载片台，用于承载基片；反射式传感器，固定于所述载片台的承载面侧；所述反射式传感器用于探测所述载片台上是否存在基片本实用新型实施例提供的基片寻边装置，在NIKON I8光刻机的基础上，改对射式寻边为反射式寻边，以实现对透明衬底和非透明衬底的有效寻边。
基片寻边装置光刻系统

[实用新型]一种适用于小尺寸基片的光刻用真空基片夹具-CN201920524111.0有效
发明人：闫青芝;曲迪;陈墨;白国人;靳春艳 -专利权人：天津华慧芯科技集团有限公司
申请日： 2019-04-17 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种适用于小尺寸基片的光刻用真空基片夹具，涉及半导体制备技术领域，该真空基片夹具包括真空载物台；载物台内设有N组真空吸附结构；每个真空吸附结构下端连接有抽真空结构；每组真空吸附结构包括沿载物台厚度方向设置的M个第一真空孔，第一真空孔为通孔；相邻的第一真空孔之间通过设在载物台内部的真空槽相连通；还包括设在载物台上可拆卸的辅助装置；该辅助装置上设有与第一真空孔连通的第二真空孔；基片覆盖在第二真空孔之上；辅助装置上端与基片紧密贴合，辅助装置下端与载物台紧密贴合。该夹具不仅便于调整基片位置、而且能够一机多用，提高夹具利用率、降低成本。
真空孔载物台辅助装置真空吸附结构夹具基片夹具紧密贴合下端半导体制备本实用新型抽真空结构尺寸基片基片位置可拆卸的一机多用真空槽上端光刻通孔载物连通覆盖

[发明专利]一种用于等离子体处理装置的载片台-CN201110456419.4有效
发明人：陶铮;凯文·佩尔斯;松尾裕史 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2011-12-30 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： H01J37/04 文献下载
摘要：本发明提供了载片台及包括该载片台的等离子体处理机台，其中，所述基片位于所述载片台上方，所述载片台包括：第一电极，其与具有第一频率的射频电源连接，用于产生等离子体，其中设置有一个或多个真空空洞；静电吸盘，其位于所述第一电极上方，用于夹持基片。本发明能够提高基片制程均一性。
一种用于等离子体处理装置载片台

[发明专利]载置台装置和基片处理装置-CN202110727345.7在审
发明人： M·韦尔巴斯;津田荣之辅;朝仓贤太朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供载置台装置和基片处理装置，能够抑制载置台中的供升降销升降的销孔的周围、升降销成为低温部位，而载置面的温度在面内变得不均匀的情况，其中，载置台具有能够载置基片的载置面。载置台装置包括：载置台，其具有销孔，并且具有能够载置基片的载置面；能够在上述销孔中升降的升降销；和使上述升降销升降的升降机，上述载置台在其内部具有加热上述载置台的第1加热部，上述升降销在其内部或者周围具有加热上述升降销的第
载置台装置处理

[发明专利]载气系统以及基片载物台到装载埠的联接-CN200780041428.9无效
发明人： F·威廉;B·丹尼尔 -专利权人：布鲁克斯自动化公司
申请日： 2007-09-14 - 公布日： 2009-12-09 - 主分类号： B65H1/24 文献下载
摘要：对基片载物台加压的方法包含对一种腔室加压以及通过从腔室向载物台释放气体在载物台内维持一种压力的方法。这种腔室与载物台以及/或者载物台内的基片晶舟是一个单位构造。
系统以及基片载物台到装载联接

[发明专利]减压干燥装置和溶剂收集部件的制造方法-CN202010376827.8在审
发明人：及川纯史;林辉幸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-05-07 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供一种使基片上的溶液在减压状态下干燥的减压干燥装置，其包括：用于收纳所述基片的容器；设置在所述容器内的用于载置所述基片的载置台；和溶剂收集部件，其以与载置在所述载置台上的所述基片相对的方式设置在所述容器内，用于暂时收集从该基片气化了的所述溶液中的溶剂，所述溶剂收集部件具有多个溶剂收集单元部件，该溶剂收集单元部件具有多个开口且形成为平板状，所述溶剂收集部件通过使所述多个溶剂收集单元部件各自的俯视时的侧端彼此接合而构成根据本发明，即使是大型的基片也能够使溶剂的干燥状态在面内均匀。
减压干燥装置溶剂收集部件制造方法

[发明专利]一种探测温度的系统和方法及设有该系统的MOCVD设备-CN201410323157.8有效
发明人：泷口治久;陈利平 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2014-07-08 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本发明公开了一种探测温度的系统和方法及设有该系统的MOCVD设备，所述温度探测系统包括一激光发生装置和一光电探测装置，所述光电探测装置连接一计算控制单元，本发明采用所述激光发生装置发射激光，提高了入射到反应腔内基片和基片载置台表面的入射光强度，根据光的反射原理，反射进入光电探测装置的激光强度提高，使得光电探测装置能够探测到足够强的反射光强度，以实现对基片或基片载置台的反射率计算，避免了反射光强度过低或探测不到反射光强度造成无法计算基片或基片载置台反射率，进而无法计算基片和基片承载盘温度。
光电探测装置探测反射光激光发生装置载置台激光计算控制单元温度探测系统反射率计算基片承载盘载置台表面反射原理反射率反应腔入射光入射反射发射