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[实用新型]基板处理装置-CN202320236772.X有效
发明人：西山雄太;山本太郎;大薗启;土山正志;高木慎介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板处理装置，可适当地进行处理液容器的更换。基板处理装置具有：多个处理液容器(51)，其收容处理液；多个作为供给管的管(84)，其与多个处理液容器(51)分别连接；以及控制部，其控制多个供给管的移动。控制部控制供给管的上下方向上的移动，从而针对处理液容器(51)切换可供给处理液的状态和可更换的状态。
处理装置

[发明专利]基板处理装置和处理液容器更换方法-CN202310126520.6在审
发明人：西山雄太;山本太郎;大薗启;土山正志;高木慎介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置和处理液容器更换方法，可适当地进行处理液容器的更换。基板处理装置具有：多个处理液容器(51)，其收容处理液；多个作为供给管的管(84)，其与多个处理液容器(51)分别连接；以及控制部，其控制多个供给管的移动。控制部控制供给管的上下方向上的移动，从而针对处理液容器(51)切换可供给处理液的状态和可更换的状态。
处理装置容器更换方法

[发明专利]聚氨酯弹性纤维及含有其的布帛-CN202310110316.5在审
发明人：河原慎太朗;森孝正;山本太郎 -专利权人：旭化成株式会社
申请日： 2023-02-14 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： D01F6/94 文献下载
摘要：聚氨酯弹性纤维及含有其的布帛。[课题]提供抗菌性能和除臭性能优异，即使经过染色处理、洗涤，该抗菌性能也得到维持的聚氨酯弹性纤维。[解决手段]提供聚氨酯弹性纤维、以及含有该聚氨酯弹性纤维的布帛，该聚氨酯弹性纤维的特征在于，其含有含Ag化合物、与该含Ag化合物不同的含磷酸锆化合物、和聚氨酯聚合物，Zr元素相对于Ag元素的质量比为25以上且100以下。
聚氨酯弹性纤维含有布帛

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201710679783.4有效
发明人：福田昌弘;一之宫博;小畑耕一;山本太郎;田中公一朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-08-09 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种液处理装置和液处理方法。提供一种在向绕铅垂轴线旋转的晶圆供给清洗液而进行处理的液处理装置中抑制雾向晶圆的再次附着的技术。液处理装置设置有：引导构件(3)，其从水平地保持着的晶圆(W)的背面的周缘部朝向外侧下方形成有倾斜面(32)；包围构件(2)，其形成为包围晶圆(W)的圆筒状，其上缘部朝向内周侧向斜上方伸出，在其内表面侧的比水平地保持着的晶圆(W)的表面高度靠上方的位置在整周上形成有两根槽部(23)。若气流沿着包围构件(2)流动，则气流在槽部(23)中形成涡流，滞留在槽部(23)内，因此，能够捕捉雾，能够抑制雾向杯体(1)的外部流出。因而，能够抑制雾向晶圆(W)的附着。
处理装置方法

[发明专利]聚氨酯弹性丝卷装体-CN202211617270.8在审
发明人：齐藤瑛二;森下浩;山本太郎 -专利权人：旭化成株式会社
申请日： 2022-12-15 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B65H55/04 文献下载
摘要：[课题]提供不易产生尾端过渡时的断头的聚氨酯弹性丝卷装体。[解决手段]一种聚氨酯弹性丝卷装体，其为具有尾丝的、聚氨酯弹性丝卷绕于绕丝用筒管而成的聚氨酯弹性丝卷装体，从开始卷绕起100m以内的由任意的10m的丝形成的卷宽(W0)相对于最大卷宽(Wmax)之比(W0/Wmax)超过0.900且为1.00以下。
聚氨酯弹性丝卷装体

[发明专利]显影方法和显影装置-CN201911132271.1有效
发明人：吉原孝介;京田秀治;牟田行志;山本太郎;泷口靖史;福田昌弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-08-05 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。
显影方法装置

[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质-CN202110263205.9有效
发明人：泷口靖史;山本太郎;冈本芳树;保坂隼斗;小玉辉彦;久保明广;小篠龙人;有内雄司;木村慎佑 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供了基片处理装置、基片处理方法和存储介质。关于滑动部件在基片的背面滑动来进行处理，能够在面内进行均匀性高的处理且将由滑动部件的滑动产生的作用可靠地施加到基片。上述装置构成为包括：为了在基片的背面滑动来进行处理而绕铅直轴自转的滑动部件；和公转机构，其使自转中的该滑动部件绕铅直的公转轴以具有比该滑动部件的直径小的公转半径的方式公转。基片被保持于第一保持部时，滑动部件在所述基片的背面的中央部滑动，上述第一保持部水平地保持与基片的背面的中央部不重叠的区域。基片被保持于第二保持部时，滑动部件在旋转的基片的背面的周缘部滑动，上述第二保持部水平地保持基片的背面的中央部并使之绕铅直轴旋转。
处理装置方法存储介质

[发明专利]聚氨酯弹性纤维和其卷纱体-CN201880075388.8有效
发明人：后藤英之;佐藤均;山本太郎 -专利权人：旭化成株式会社
申请日： 2018-11-20 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： D01F6/94 文献下载
摘要：提供一种聚氨酯弹性纤维，其特征在于，其为属于复丝纱的聚氨酯弹性纤维，化合物A与化合物B缩合而成的酯或磷酸酯的含有率相对于该聚氨酯弹性纤维的重量为50ppm以上且5％以下，前述化合物A为碳数4以上且30以下的一元羧酸、碳数4以上且30以下的二元羧酸、碳数4以上且30以下的三元羧酸、或磷酸中的任一种，前述化合物B为碳数1以上且30以下的一元醇、分子量3000以下的二元醇、或分子量3000以下的三元醇中的任一种。
聚氨酯弹性纤维卷纱体

[实用新型]基板处理装置-CN202122834483.3有效
发明人：渡边刚史;土山正志;榎木田卓;山本太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-11-18 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板处理装置，其提高基板处理装置的生产率。装置构成为包括：载体模块；第1处理模块，其由互相层叠的第1下侧处理模块、第1上侧处理模块构成；第2处理模块，其由互相层叠的第2下侧处理模块、第2上侧处理模块构成；中继模块，其包括升降输送机构；以及旁路输送机构，其在作为所述上侧处理模块和下侧处理模块中的一者的旁路输送通路形成模块设于每个第1处理模块、第2处理模块，以与该旁路输送通路形成模块的主输送机构一起形成前进路径或返回路径的方式进行动作，在该旁路输送通路形成模块，该旁路输送机构使得能够利用第1处理模块的主输送机构和第2处理模块的主输送机构中的一者朝向下游侧的模块输送基板。
处理装置

[发明专利]聚氨酯弹性纤维、其绕纱体、及包含其的制品-CN201880065333.9有效
发明人：佐藤均;山本太郎 -专利权人：旭化成株式会社
申请日： 2018-10-15 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： D01F6/70 文献下载
摘要：提供在长期保管后也不发生表面处理剂的渗出、能防止包装材料的污染、进而不受保管期间影响而具有稳定的摩擦性能、滑移发生少且稳定的适合于收集构件的聚氨酯弹性纤维。本发明的聚氨酯弹性纤维的特征在于，其为包含复丝的聚氨酯弹性纤维，在该复丝的截面中，具有通过构成该复丝的单丝相互接触而划界的空隙部，在将该空隙部的面积与构成该复丝的全部单丝的截面积合计所得的面积设为总截面积时，由下述式求出的截面空隙面积率为15％以上且60％以下：截面空隙面积率(％)＝100×空隙部的面积/总截面积。
聚氨酯弹性纤维绕纱体包含制品

[实用新型]基板处理装置-CN202122805970.7有效
发明人：渡边刚史;土山正志;榎木田卓;山本太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-11-16 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板处理装置，其能够抑制基板处理装置的占地面积。基板处理装置包括：载体模块，其载置收纳基板的载体；一个处理模块，自载体模块向一个处理模块输送基；另一处理模块，其与一个处理模块重叠并且自另一处理模块向载体模块输送基板；升降移载机构，其具备沿横向延伸的轴和与基板相对并进行支承的支承面，使轴和支承部在用于相对于第1处理模块输送机构交接基板的位置和用于相对于第2处理模块交接基板的位置之间升降；以及转动机构，其使支承部绕轴转动，以当升降移载部位于第1区域和第2区域时使支承面成为第1朝向，当升降移载部在第1区域与第2区域之间升降时使支承面成为相对于水平面的倾斜度大于第1朝向的第2朝向。
处理装置

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202111357630.0在审
发明人：渡边刚史;土山正志;榎木田卓;山本太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-11-16 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。抑制基板处理装置的占地面积。基板处理装置包括：载体模块，其载置收纳基板的载体；一个处理模块，自载体模块向一个处理模块输送基；另一处理模块，其与一个处理模块重叠并且自另一处理模块向载体模块输送基板；升降移载机构，其具备沿横向延伸的轴和与基板相对并进行支承的支承面，使轴和支承部在用于相对于第1处理模块输送机构交接基板的位置和用于相对于第2处理模块交接基板的位置之间升降；以及转动机构，其使支承部绕轴转动，以当升降移载部位于第1区域和第2区域时使支承面成为第1朝向，当升降移载部在第1区域与第2区域之间升降时使支承面成为相对于水平面的倾斜度大于第1朝向的第2朝向。
处理装置方法

[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质-CN202111347980.9在审
发明人：渡边刚史;土山正志;榎木田卓;山本太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-11-15 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供其能够提高基片处理装置中的吞吐量并且抑制专用占地面积的基片处理装置、基片处理方法和存储介质。装置构成为包括：设置在承载器区块的承载器载置部的俯视时左右之一侧的一处理区块和另一处理区块；具有设置于承载器区块的第1输送机构的基片的输送区域；载置部的层叠体，其将由第1输送机构、一处理区块的主输送机构、另一处理区块的主输送机构分别交接基片的第1载置部、第2载置部、第3载置部彼此在纵向上重叠地构成，并设置在俯视时第1输送机构的前后之一侧；以及第2输送机构，其以俯视时与第1输送机构一起从前后夹着层叠体的方式设置于输送区域，用于在第1载置部与第2载置部之间、第1载置部与第3载置部之间分别输送基片。
处理装置方法存储介质

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202111371565.7在审
发明人：渡边刚史;土山正志;榎木田卓;山本太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-11-18 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提高基板处理装置的生产率。装置构成为包括：载体模块；第1处理模块，其由互相层叠的第1下侧处理模块、第1上侧处理模块构成；第2处理模块，其由互相层叠的第2下侧处理模块、第2上侧处理模块构成；中继模块，其包括升降输送机构；以及旁路输送机构，其在作为所述上侧处理模块和下侧处理模块中的一者的旁路输送通路形成模块设于每个第1处理模块、第2处理模块，以与该旁路输送通路形成模块的主输送机构一起形成前进路径或返回路径的方式进行动作，在该旁路输送通路形成模块，该旁路输送机构使得能够利用第1处理模块的主输送机构和第2处理模块的主输送机构中的一者朝向下游侧的模块输送基板。
处理装置方法

[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质-CN201711229358.1有效
发明人：泷口靖史;山本太郎;冈本芳树;保坂隼斗;小玉辉彦;久保明广;小篠龙人;有内雄司;木村慎佑 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供了基片处理装置、基片处理方法和存储介质。关于滑动部件在基片的背面滑动来进行处理，能够在面内进行均匀性高的处理且将由滑动部件的滑动产生的作用可靠地施加到基片。上述装置构成为包括：为了在基片的背面滑动来进行处理而绕铅直轴自转的滑动部件；和公转机构，其使自转中的该滑动部件绕铅直的公转轴以具有比该滑动部件的直径小的公转半径的方式公转。基片被保持于第一保持部时，滑动部件在所述基片的背面的中央部滑动，上述第一保持部水平地保持与基片的背面的中央部不重叠的区域。基片被保持于第二保持部时，滑动部件在旋转的基片的背面的周缘部滑动，上述第二保持部水平地保持基片的背面的中央部并使之绕铅直轴旋转。
处理装置方法存储介质

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