专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]发光基板及显示装置-CN202180002797.7在审
  • 徐文结;何敏;谢晓冬;庞斌;桑华煜;张新秀;赵雪;王静 - 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方瑞晟科技有限公司
  • 2021-09-29 - 2023-08-01 - H01L27/15
  • 一种发光基板(100)及显示装置。发光基板(100)包括发光区(110)和边框区(160)。发光基板(100)包括衬底(10)、位于衬底(10)上的多个发光单元(102)和多条信号线(30)。发光单元(102)位于发光区(110),包括驱动电路(103)及至少一个发光元件(104)。多个发光单元(102)沿第一方向(D1)布置成M行且沿与第一方向(D1)交叉的第二方向(D2)布置成N列。多条信号线(30)包括沿第一方向(D1)延伸的N条目标信号线(31);边框区(160)包括发光基板(100)位于第一列发光单元(101)外侧的区域、位于第N列发光单元(101)外侧的区域和位于第一行发光单元外侧的区域。第一列发光单元(101)和/或第N列发光单元(101)的目标信号线(31)包括顺次连接的第一延伸段(311)、连接段(312)及第二延伸段(313),第一延伸段(311)与驱动电路(103)相连且位于边框区(160),第一延伸段(311)、连接段(312)及第二延伸段(313)围合形成容纳区,包围至少两组发光单元(102)。
  • 发光显示装置
  • [发明专利]一种掩模板及晶圆的制备方法-CN202310224234.3有效
  • 罗文澜;张新秀;王迎 - 合肥晶合集成电路股份有限公司
  • 2023-03-10 - 2023-07-07 - G03F1/42
  • 本发明提供一种掩模板及晶圆的制备方法,掩模板包括主体区域、第一边界区域和第二边界区域,第一边界区域和第二边界区域平行且正对设置在主体区域的两侧,第一边界区域包括平行设置的第一对准切割道和第二对准切割道,且第一对准切割道靠近主体区域设置,第一对准切割道用于晶圆量产阶段沿第一方向作为相邻曝光场的对准切割道,第二对准切割道用于晶圆测试阶段沿第一方向作为相邻曝光场的对准切割道,第一方向与第一边界区域的延伸方向相互垂直,使得同一个掩模板可以同时应用于晶圆制备时的测试阶段和量产阶段,即掩模板可以在测试阶段和量产阶段共用,降低了晶圆的制造成本,还在量产阶段可以提高芯片的出产率。
  • 一种模板制备方法

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