[发明专利]半导体器件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 01110971.8 申请日: 2001-03-06
公开(公告)号: CN1312589A 公开(公告)日: 2001-09-12
发明(设计)人: 山崎舜平;小山润;须泽英臣;小野幸治;荒尾达也 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/786;H01L21/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王勇,梁永
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种高可靠性的半导体显示器件。半导体显示器件中的半导体层具有沟道形成区、LDD区、源区和漏区,LDD区与第一栅电极重叠,栅绝缘膜夹于其间。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种半导体显示器件包括:形成在绝缘表面上的半导体膜;与半导体膜接触的栅绝缘膜;与栅绝缘膜接触的第一栅电极;与第一栅电极接触的第二栅电极;其中半导体膜包括:沟道形成区,与沟道形成区接触的LDD区,与LDD区接触的源区和漏区,其中沿沟道纵向的第一栅电极的第一宽度宽于沿沟道纵向的第二栅电极的第二宽度,其中LDD区与第一栅电极重叠,栅绝缘膜夹于其间。
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