专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]GaN器件肖特基接触可靠性的评价方法-CN201410005400.1有效
  • 赵妙;刘新宇;郑英奎;李艳奎;欧阳思华 - 中国科学院微电子研究所
  • 2014-01-06 - 2017-03-22 - G01R31/26
  • 本发明公开了一种GaN器件肖特基接触可靠性的评价方法,包括采集待测GaN器件在不同温度下的电流‑电压特性曲线;根据待测GaN器件在不同温度下的电流‑电压特性曲线,获得待测GaN器件的串联电阻随温度的变化曲线及其肖特基势垒高度与理想因子之间的关系曲线;采集待测GaN器件在不同频率下的电容‑电压特性曲线;根据待测GaN器件在不同频率下的电容‑电压曲线,获得待测GaN器件的频散关系;根据待测GaN器件的串联电阻随温度的变化曲线、肖特基势垒高度与理想因子之间的关系曲线以及待测GaN器件的频散关系,对待测GaN器件肖特基接触的可靠性进行评价。该评价方法可以对GaN器件中肖特基的可靠性进行评价。
  • gan器件肖特基接触可靠性评价方法
  • [实用新型]整流半导体芯片封装结构-CN201320132795.2有效
  • 胡乃仁;杨小平;李国发;钟利强 - 苏州固锝电子股份有限公司
  • 2013-03-22 - 2013-08-07 - H01L23/488
  • 本实用新型公开一种整流半导体芯片封装结构,肖特基芯片由第一肖特基芯片和第二肖特基芯片组成;导电盘由散热区和盘引脚区组成,此盘引脚区由若干个相间排列的负极引脚组成,此负极引脚一端与散热区端面电连接,散热区位于第一肖特基芯片和第二肖特基芯片正下方且与第一肖特基芯片和第二肖特基芯片负极之间通过软焊料层电连接;第一导电焊盘和第二导电焊盘位于第一肖特基芯片和第二肖特基芯片另一侧,第一导电焊盘和第二导电焊盘各自均包括焊接区和引脚区,焊接区与引脚区的连接处具有一折弯部;金属线跨接于肖特基芯片的正极与导电焊盘的焊接区之间。本实用新型封装结构既有利于进一步缩小器件的体积,也减少器件中部件的数目,同时由于散热区和盘引脚区为一个整体,提高了电性能的稳定性。
  • 整流半导体芯片封装结构
  • [发明专利]一种锗NMOS器件及其制备方法-CN201110170991.4有效
  • 黄如;李志强;安霞;郭岳;张兴 - 北京大学
  • 2011-06-23 - 2011-10-26 - H01L29/78
  • 本发明提供一种锗NMOS器件结构及其制备方法。该方法在源、漏区与衬底之间淀积了二氧化锗(GeO2)和金属氧化物双层介质材料。本发明不但降低了锗肖特基NMOS源漏处电子的势垒高度,改善了锗肖特基晶体管的电流开关比,提升了锗肖特基NMOS晶体管的性能,而且制作工艺与硅CMOS技术完全兼容,保持了工艺简单的优势。相对于现有工艺制备方法,本发明结构及其制造方法简单、有效地提升锗肖特基NMOS晶体管的性能。
  • 一种nmos器件及其制备方法
  • [发明专利]肖特基整流芯片封装结构-CN201310093289.1无效
  • 胡乃仁;杨小平;李国发;钟利强 - 苏州固锝电子股份有限公司
  • 2013-03-22 - 2013-07-24 - H01L23/495
  • 本发明公开一种肖特基整流芯片封装结构,导电盘由散热区和盘引脚区组成,此盘引脚区由若干个相间排列的负极引脚组成,此负极引脚一端与散热区端面电连接,散热区位于第一肖特基芯片和第二肖特基芯片正下方且与第一肖特基芯片和第二肖特基芯片负极之间通过软焊料层电连接;第一导电焊盘和第二导电焊盘位于第一肖特基芯片和第二肖特基芯片另一侧,第一导电焊盘和第二导电焊盘各自均包括焊接区和引脚区,焊接区与引脚区的连接处具有一折弯部;金属线跨接于肖特基芯片的正极与导电焊盘的焊接区之间,金属线与肖特基整流芯片的焊接条至少为两条且相间排列。本发明既有利于进一步缩小器件的体积,有利于减少欧姆接触电阻,同时由于散热区和盘引脚区为一个整体,提高了电性能的稳定性。
  • 肖特基整流芯片封装结构
  • [实用新型]一种氮化镓肖特基二极管-CN202020289473.9有效
  • 范捷;万立宏;王绍荣 - 江苏丽隽功率半导体有限公司
  • 2020-03-10 - 2020-08-18 - H01L29/872
  • 本实用新型公开了一种氮化镓肖特基二极管,涉及半导体技术领域,该新型结构的氮化镓肖特基二极管包括衬底及其上的N+氮化镓外延层,N+氮化镓外延层上制作有呈间隔结构的N‑GaN外延层,N‑GaN外延层上制作有P‑GaN外延层,P‑GaN外延层上制作有介质层;阴极金属电极与N+氮化镓外延层形成欧姆接触,阳极金属电极与P‑GaN外延层形成肖特基接触;该新型结构的氮化镓肖特基二极管可以大幅降低漏电,提升器件耐压,同时在肖特基势垒引入了P‑GaN外延层,可以有效提升肖特基势垒高度。
  • 一种氮化镓基肖特基二极管
  • [发明专利]氧化镓半导体结构及其制备方法-CN201911283509.0有效
  • 龙世兵;周选择;徐光伟;熊文豪;赵晓龙;刘明 - 合肥中科微电子创新中心有限公司
  • 2019-12-13 - 2023-02-07 - H01L29/872
  • 本发明公开了一种氧化镓半导体结构及其制备方法,该氧化镓半导体结构包括:氧化镓外延层,具有多个沟道,该多个沟道形成于该氧化镓外延层上表面且相互间隔第一距离;多个低势垒肖特基电极,形成于所述多个沟道之间的氧化镓外延层上表面;以及高势垒肖特基电极,形成于所述氧化镓外延层上表面,且覆盖所述多个沟道及所述多个低势垒肖特基电极。该氧化镓半导体结构同时结合了高、低势垒的优势,具有较低的开启电压的同时可以维持较小的反向漏电流的优势,能够保证开态电阻不会有明显增大,甚至会有降低的效果,能够使得双势垒肖特基能够有效应的用于高温领域。
  • 氧化半导体结构及其制备方法

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