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[发明专利]基板载置用托盘-CN201280003000.6有效
发明人：郑灌镐;尹晟曦;金世领;金好淑 -专利权人：高美科株式会社
申请日： 2012-07-13 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：基板载置用托盘，可以包括：主体、引导部等。所述主体可以具有具备了载置基板的第一面的平板结构，并且可以由碳‑碳复合材料构成。所述引导部，可以引导所述基板向着所述主体，从而使所述基板载置于各自规定的位置。在太阳能电池基板上形成薄膜时，所述基板载置用托盘可以实施为，在等离子氛围下的高温工序中也可以稳定地维持物理特性，并且可以形成为载置更多数量的基板的大面积。
基板载置用托盘

[实用新型]自动上料装置-CN201822258110.4有效
发明人：吉征雷 -专利权人：成都集佳科技有限公司
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： B65G47/91 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种自动上料装置，包括安装台和设置在所述安装台上的基板载具、抓取装置、料盒载具、推动机构以及输送装置，所述基板载具用于装载陶瓷基板，所述抓取装置用于将所述陶瓷基板运送至第三预定位置，所述料盒载具用于装载料盒，所述推动机构用于将所述料盒内的基板装载夹具推送至所述输送装置上，所述输送装置将所述基板装载夹具运送至所述第三预定位置，在所述第三预定位置，所述陶瓷基板装夹到所述基板装载夹具上。本实用新型提供的自动上料装置能够实现陶瓷基板和基板装载夹具的自动装夹，实现自动上料，使送料效率更高。并且自动上料还能够避免人工操作对陶瓷基板的损坏，提供高产品的合格率。
陶瓷基板夹具基板装载料盒输送装置预定位置自动上料装置本实用新型基板载具推动机构抓取装置自动上料载具装载运送人工操作自动装夹安装台高产品送料推送装夹合格率

[发明专利]减压干燥装置-CN200810146138.7有效
发明人：奥田大辅 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2008-08-06 - 公布日： 2009-02-11 - 主分类号： F26B9/06 文献下载
摘要：本发明提供一种能够通过抑制腔盖部的焊接部分的剥离等的产生来抑制生产不合格基板的减压干燥装置。所述减压干燥装置具备相对于基板载置部可相对地接触分离的腔盖部，通过在由该基板载置部和腔盖部形成的基板收纳部内，收纳有涂敷了涂敷液的基板的状态下使上述基板收纳部内减压，从而使上述涂敷液干燥，上述腔盖部与上述基板载置部面对，并且具有具备4个边缘部的四边形状，在与基板载置部侧相反一侧的外表面上，以在与相邻边缘部交叉的方向上延伸的方式焊接加强肋。
减压干燥装置

[发明专利]基板载具及其硒化制程系统-CN201210121515.8无效
发明人：李适维;林清儒;锺青源;林明弘;黄伟民;邱振海 -专利权人：绿阳光电股份有限公司
申请日： 2012-04-24 - 公布日： 2013-09-18 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板载具用来运载多个背电极基板至一炉腔内，每一背电极基板上形成有一前趋物层，所述炉腔用来提供一制程气体以与所述前趋物层反应形成一光电转换层在每一背电极基板上，所述基板载具包括一耐热金属架体及一第一保护层所述耐热金属架体具有多个承载槽，用来承载所述多个背电极基板。所述第一保护层形成在所述耐热金属架体上，用来防止所述耐热金属架体发生化学反应。透过基板载具具有耐热金属架体并在耐热金属架体上形成保护层的设计，所述基板载具可具有抗高温及抗特定气体反应腐蚀的特性。
基板载具及其硒化制程系统

[实用新型]一种SMT贴片冷却缓存机-CN201820877097.8有效
发明人：姜辉 -专利权人：深圳市永信达科技有限公司
申请日： 2018-06-07 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种SMT贴片冷却缓存机，包括机器内腔、位于机器内腔可升降的缓存架、升降系统以及水平传送轨道，所述缓存架用于提供缓存PCB基板或者PCB基板载具的空间，所述升降系统为缓存架的升降提供导向与动力，所述水平传送轨道与SMT流水线连接，用于接收流来的PCB基板或者PCB基板载具，所述机器对侧开设有进口与出口，所述机器另一对侧开设有进风口与出风口，所述进风口安装有静音风幕机，工作时对机器内腔持续吹风通过本SMT冷却缓存机将PCB基板或者PCB基板载具缓存于冷却机中持续持续接受风冷，并通过控制机器的风速与冷却时间达到使PCB基板或者PCB基板载具完全冷却的效果。
冷却载具缓存机缓存架内腔缓存升降系统水平传送进风口本实用新型控制机器出风口风幕机可升降冷却机轨道流水线吹风风冷风速静音升降进口出口

[实用新型]一种基板涂胶装置-CN201620691622.8有效
发明人：赵磊;关锋;谢超智;周舶来;朱大华;崔志洋 -专利权人：京东方（河北）移动显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-07-04 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： B05C1/16 文献下载
摘要：本实用新型涉及显示技术领域，公开一种基板涂胶装置。包括基板载台，还包括至少一个可相对于基板载台移动的涂胶单元，其中，每个涂胶单元包括连接架和沿背离涂胶单元的涂胶行程方向上在连接架上依次设置的涂胶机构和刮胶机构；涂胶机构包括用于容置胶材的容胶腔和与容胶腔连通的至少一个出胶口，涂胶机构用于在涂胶单元的涂胶行程中将容胶腔内由出胶口流出的胶材涂覆于基板；刮胶机构包括至少一个刮板，刮胶机构用于在涂胶单元的涂胶行程中通过刮板将涂胶机构涂覆于基板上的一部分胶材刮除。该基板涂胶装置采用涂覆方式在基板的侧边设置胶材，不易造成基板的上下表面污染，降低了在基板表面形成残胶的风险，提高了显示面板的生产良率。
一种涂胶装置

[发明专利]在铜铟镓硒化合物工艺中增强的硒供给-CN201410123286.2有效
发明人：吕维伦;吴志力;严文材 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2014-03-28 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于在基板上沉积硒的系统，其包括基板载具，该基板载具包括主体、保持基板的装置、以及形成在主体中用于将一流量的硒蒸汽导向至基板上的多个硒蒸汽排出口。硒供应容器将硒蒸汽提供至硒蒸汽排出口。至少一个温度传感器连接至基板载具，用于感测基板温度。热源被设置为加热基板。控制器连接至温度传感器和热源。本发明还公开了在铜铟镓硒化合物工艺中增强的硒供给。
铜铟镓硒化合物工艺增强供给

[发明专利]物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法-CN201610282686.7有效
发明人：青木保夫;滨田智秀;白数广;户口学 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-08-17 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： G03F7/22 文献下载
摘要：于基板(P)下方配置有对基板(P)下面喷出空气的多个空气悬浮单元(50)，并且基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。进一步地，基板(P)被定点载台(40)从下方以非接触方式保持被曝光部位，该被曝光部位的面位置被精确调整。是以，能以高精度对基板(P)进行曝光，且能使基板载台装置(PST)的构成简单化。
基板非接触方式曝光部位对基板物体处理装置基板载台空气悬浮曝光装置元件制造曝光面位置喷出载台支承配置

[发明专利]物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法-CN201610282679.7有效
发明人：青木保夫;滨田智秀;白数广;户口学 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-08-17 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：于基板(P)下方配置有对基板(P)下面喷出空气的多个空气悬浮单元(50)，并且基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。进一步地，基板(P)被定点载台(40)从下方以非接触方式保持被曝光部位，该被曝光部位的面位置被精确调整。是以，能以高精度对基板(P)进行曝光，且能使基板载台装置(PST)的构成简单化。
物体处理装置曝光方法以及元件制造

[发明专利]物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法-CN201610282687.1有效
发明人：青木保夫;滨田智秀;白数广;户口学 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-08-17 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：于基板(P)下方配置有对基板(P)下面喷出空气的多个空气悬浮单元(50)，并且基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。进一步地，基板(P)被定点载台(40)从下方以非接触方式保持被曝光部位，该被曝光部位的面位置被精确调整。是以，能以高精度对基板(P)进行曝光，且能使基板载台装置(PST)的构成简单化。
物体处理装置曝光方法以及元件制造

[发明专利]物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法-CN201080036901.6有效
发明人：青木保夫;滨田智秀;白数广;户口学 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-08-17 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：于基板(P)下方配置有对基板(P)下面喷出空气的多个空气悬浮单元(50)，并且基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。进一步地，基板(P)被定点载台(40)从下方以非接触方式保持被曝光部位，该被曝光部位的面位置被精确调整。是以，能以高精度对基板(P)进行曝光，且能使基板载台装置(PST)的构成简单化。
物体处理装置曝光方法以及元件制造

[发明专利]基板处理装置-CN201210101409.3有效
发明人：菅原荣一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-03-31 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置，其能够使由于进行设置于真空处理室中的基板载置台的表面部的状态确认、该表面部的更换所导致的真空处理的停止时间变短，并且能够高精度地管理上述表面部的状态。该基板处理装置包括：搬送基板的常压气氛的常压搬送室；与该常压搬送室经由负载锁定室连接的真空处理室；设置于上述真空处理室，具有主体部和相对于该主体部自由装卸的表面部的基板载置台；设置于上述负载锁定室或常压搬送室，用于收纳上述表面部的保管部；和从常压搬送室经由负载锁定室向真空处理室搬送基板，且在上述保管部与上述真空处理室的主体部之间搬送上述表面部的搬送机构。
处理装置

[发明专利]基板温度控制装置用载置台-CN200880124293.7有效
发明人：板东贤一;佐佐木淳 -专利权人：株式会社小松制作所
申请日： 2008-12-15 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种基板温度控制装置用载置台，相比以往能够减少对基板进行加热或冷却时产生的过渡性温度分布的扩展。该基板温度控制装置用载置台是在控制基板温度的基板温度控制装置中用于将具有规定直径的基板载置于规定位置的载置台，包括：板片，其在与基板对置的第一面中包括与基板的端缘对应的位置的区域形成有低于中心部的台阶部
温度控制装置用载置台

[发明专利]微影投影设备-CN201910676800.8在审
发明人：吴旻政;廖启宏 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-07-25 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及一种微影投影设备，本公开实施例提供一种提供具有不同波长的多个光源的微影投影设备中的基板测量装置。在一些实施例中，微影投影设备包括基板测量系统，设置靠近于基板载台，基板测量系统包括：发射器，包括多个光源，配置以提供多束光束，所述多束光束中的至少一些光束中的每一者具有不同的波长，以及至少一个光纤，其中所述至少一个光纤的部分中的每一者配置以使所述多束光束中的对应的一者通过；以及接收器，定位以收集从发射器发出的光以及从设置在基板载台上的基板反射的光。
基板投影设备微影发射器测量系统波长光源光纤接收器测量装置基板载台配置反射

[发明专利]等离子体处理装置-CN201010526569.3无效
发明人：田中诚治;古屋敦城 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-10-28 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种能够对被处理基板进行均匀的等离子体处理的等离子体处理装置。等离子体处理装置具有：腔室(2)；在腔室内载置有基板(G)的、发挥下部电极功能的基板载置台(3)；与基板载置台(3)相对设置、施加有高频电力的上部电极(15)；向腔室(2)内导入处理气体的喷淋头(5)；
等离子体处理装置