专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体设备-CN201680057899.8有效
  • 高桥直树 - 罗姆股份有限公司
  • 2016-09-27 - 2022-04-01 - H01L21/822
  • 半导体设备100具有垂直结构的功率晶体管N1和用于检测该功率晶体管N1的异常发热的温度检测元件10a。功率晶体管N1包括:形成在半导体基板200的第一主表面侧(前表面侧)上的第一电极208、形成在半导体基板200的第二主表面侧(背面侧)的第二电极209、以及不均匀地设置在第一电极208上的焊盘210a‑
  • 半导体设备
  • [发明专利]半导体设备-CN202110251125.1有效
  • 乔建东 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2021-03-08 - 2022-07-22 - C30B23/00
  • 本申请公开一种半导体设备,包括:腔体,所述腔体的顶部设置有第一测温窗;红外测温传感器,位于所述腔体外,所述红外测温传感器的测温端朝向所述第一测温窗;测温转盘,位于所述腔体内且与所述腔体顶部固定设置,且所述测温转盘具有至少两个第二测温窗上述半导体设备能够实现对腔体内部的长时间温度监测。
  • 半导体设备
  • [发明专利]半导体设备-CN202010976897.7有效
  • 郭宏瑞;李冰 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2020-09-17 - 2022-10-21 - C23C14/56
  • 本发明公开一种半导体设备,包括反应腔室、冷泵和盖板组件;冷泵设置于反应腔室的腔室壁外侧,反应腔室的腔室壁上开设有第一通孔,冷泵通过第一通孔与反应腔室相连通;盖板组件包括驱动机构和与驱动机构相连的盖板,驱动机构的部分固定设置于腔室壁外侧上述方案能够解决调节反应腔室工艺压力所花费的时间较长,造成半导体设备的加工效率较差的问题。
  • 半导体设备
  • [发明专利]半导体设备-CN200810088549.5无效
  • 上田尚宏 - 株式会社理光
  • 2008-03-28 - 2008-10-01 - H01L29/78
  • 一种不造成由于形成厚栅绝缘膜而导致的问题、且具有在高耐压器件中能适用的MOS晶体管的半导体设备。漏区域具备含有N-漏区域(3d)和N+漏区域(11d)的二重扩散结构。在栅绝缘膜(7)和N+源区域(11s)之间的半导体基板(1)的表面配置场绝缘膜(15)。第一栅电极(9)的漏区域侧的端部配置在场绝缘膜(15)上。
  • 半导体设备

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