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[发明专利]光掩模缺陷定位方法及消除方法-CN202210758520.3在审
发明人：张健澄 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明提供了一种光掩模缺陷定位方法及消除方法。所述光掩模缺陷定位方法包括获取目标光掩模中刻蚀掩模层中电子图像，所述目标光掩模包括透明衬底层和若干个设置在所述透明衬底层上的刻蚀掩模层，所述刻蚀掩膜层存在缺陷；根据所述电子图像获取所述电子图像中的图像缺陷位置；根据所述图像缺陷位置确定所述刻蚀掩模层中的实际缺陷位置，根据所述实际缺陷位置在所述透明衬底层表面进行刻蚀沉积处理以形成若干个定位点。本发明能够提高光掩膜缺陷修补的准确率和效率，降低重复修补的情况。
光掩模缺陷定位方法消除

[发明专利]光学三维造型方法及装置-CN200480026047.X有效
发明人：上野高邦 -专利权人：纳博特斯克株式会社
申请日： 2004-09-10 - 公布日： 2006-10-18 - 主分类号： B29C67/00 文献下载
摘要：一种方法和装置包括使用可以连续改变掩模图像的平面绘制掩模；相对于光硬化树脂组合物的表面连续移动平面绘制掩模，并且通过平面绘制掩模使光硬化树脂组合物的表面被光照射，同时根据将要形成的光硬化树脂层的横截面轮廓图案并且与平面绘制掩模的运动同步地连续改变平面绘制掩模的掩模图像，由此形成具有预定横截面轮廓图案的光硬化树脂层；以及进行光学造型操作以使得光硬化树脂层中相邻绘制区域之间的边界区域在最终获得的立体造型三维物体中不显眼。
光学三维造型方法装置

[发明专利]制造光掩模组的方法和制造半导体器件的方法-CN202010687745.5在审
发明人：安兴培;朴商五;丁成坤 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2020-07-16 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： G03F1/70 文献下载
摘要：一种制造光掩模组的方法包括：准备掩模布局，所述掩模布局包括在第一区域中彼此间隔开的多个第一布局图案，其中，所述多个第一布局图案中的彼此相邻的三个第一布局图案的中心点之间的距离分别具有不同的值；将成对的第一布局图案进行分组，其中，在所述成对的第一布局图案中彼此相邻的两个第一布局图案的中心点之间的距离不具有所述不同的值中的最小值，并将所述掩模布局划分为至少两个掩模布局图案；以及形成包括至少两个光掩模的光掩模组，每个所述光掩模包括与被划分为所述至少两个掩模布局的所述掩模布局中的对应掩模布局中所包括的所述第一布局图案对应的掩模图案
制造模组方法半导体器件

[发明专利]光掩模检测方法与在线即时光掩模检测方法-CN200710128382.6有效
发明人：杨忠彦;张明哲 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2007-07-10 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种光掩模检测方法，适用于具有图案区与空白区的光掩模。首先，提供晶片，此晶片是以上述光掩模进行光刻工艺。晶片上有多个曝光区，每一曝光区中有元件图案区，其中每一元件图案区被切割道区包围。且每一元件图案区对应于光掩模的图案区，而切割道区对应于光掩模的空白区。然后，将切割道区划分成多个虚拟图案区。接着，将虚拟图案区进行两两重叠比较步骤，当虚拟图案区至少其中之一与其他虚拟图案区不完全相叠合，则不完全叠合的虚拟图案区相对应的光掩模上的部分空白区具有光掩模黑影。
光掩模检测方法在线时光

[发明专利]光掩模充气柜结构-CN200710143559.X无效
发明人：廖莉雯 -专利权人：廖莉雯
申请日： 2007-08-09 - 公布日： 2009-02-11 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明涉及一种光掩模充气柜结构，尤指一种使得光掩模移转容器内部保持较佳洁净度的充气柜结构，其包含有一中空的柜体，且柜体内设有至少一供光掩模的移转容器定位放置的循环单元，该循环单元具有至少一充气元件与至少一排气元件，其中充气元件可选择性对密合的移转容器内部注入干净气体，而排气元件可将密合的移转容器内部的气体排出，使得该移转容器内部的气体形成进、出的流动状态，而能长时间维持移转容器内相邻光掩模环境的洁净度，以减少光掩模与光掩模护膜表面产生微粒附着与雾化等现象，进而提升储存光掩模的洁净度。
光掩模充气结构

[实用新型]光掩模充气柜结构-CN200720127316.2无效
发明人：廖莉雯 -专利权人：廖莉雯
申请日： 2007-08-10 - 公布日： 2008-10-15 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种光掩模充气柜结构，尤指一种使得光掩模移转容器内部保持较佳洁净度的充气柜结构，其包含有一中空的柜体，且柜体内设有至少一供光掩模的移转容器定位放置的循环单元，该循环单元具有至少一充气元件与至少一排气元件，其中充气元件可选择性对密合的移转容器内部注入干净气体，而排气元件可将密合的移转容器内部的气体排出，使得该移转容器内部的气体形成进、出的流动状态，而能长时间维持移转容器内相邻光掩模环境的洁净度，以减少光掩模与光掩模护膜表面产生微粒附着与雾化等现象，进而提升储存光掩模的洁净度。
光掩模充气结构

[发明专利]一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法-CN202010741764.1有效
发明人：徐飞;邬治国;沈健 -专利权人：常州瑞择微电子科技有限公司
申请日： 2020-07-29 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开一种光掩模边缘和侧面光刻胶的去除装置及方法，涉及光掩模技术领域，包括依次设置于光掩模边缘的第一喷头和第二喷头，第一喷头和第二喷头沿光掩模边缘线性移动；第一喷头上设置有第一去胶溶剂喷嘴和第一真空吸入口，第一去胶溶剂喷嘴垂直设置于光掩模的侧面上部，第一真空吸入口垂直设置于光掩模的背面边缘；第二去胶溶剂喷嘴垂直设置于光掩模的正面边缘，第二真空吸入口垂直设置于光掩模的侧面；第一去胶溶剂喷嘴和第二去胶溶剂喷嘴均通过进液管连接有供液组件本发明同时清洗光掩模侧面残留光刻胶和边缘光刻胶，且在清洗过程中不会影响到其他区域的光刻胶。
一种光掩模边缘侧面光刻去除装置方法

[发明专利]曝光方法及曝光装置-CN201080056557.7有效
发明人：梶山康一;新井敏成 -专利权人：株式会社V技术
申请日： 2010-11-29 - 公布日： 2012-09-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种曝光方法，将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，并同时在沿着该被曝光体的搬运方向以规定间隔配置的第一及第二曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案，该曝光方法具有：将与各曝光图案对应的第一及第二掩模图案组沿着被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成光掩模，在基于光掩模的第一掩模图案组的对被曝光体的第一曝光区域的曝光结束时，使光掩模移动规定距离而从第一掩模图案组切换成第二掩模图案组的阶段；通过第二掩模图案组执行对被曝光体的第二曝光区域的曝光的阶段，其中，控制光掩模的移动速度，以使第一及第二掩模图案组的切换时的被曝光体的移动距离比光掩模的移动距离长。
曝光方法装置

[发明专利]光掩模基板以及光掩模制作方法-CN201310245718.2有效
发明人：吉川博树;稻月判臣;冈崎智;原口崇;佐贺匡;小岛洋介;千叶和明;福岛佑一 -专利权人：信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社
申请日： 2007-03-09 - 公布日： 2013-09-25 - 主分类号： G03F1/60 文献下载
摘要：一种光掩模基板以及光掩模制作方法。该光掩模基板包括透明衬底、沉积在衬底上并包含易于氟干法蚀刻的金属或金属化合物的光屏蔽膜、以及沉积在该光屏蔽膜上并包含耐氟干法蚀刻的另一金属或金属化合物的蚀刻掩模膜。当对光屏蔽膜进行干法蚀刻以形成图案时，由图案密度的依赖性所引起的图案尺寸的变化减少了，从而以高精确度制造出光掩模。
光掩模基板以及光掩模制作方法

[发明专利]光掩模基板以及光掩模制作方法-CN201310245719.7有效
发明人：吉川博树;稻月判臣;冈崎智;原口崇;佐贺匡;小岛洋介;千叶和明;福岛佑一 -专利权人：信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社
申请日： 2007-03-09 - 公布日： 2013-09-25 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：一种光掩模基板以及光掩模制作方法。该光掩模基板包括透明衬底、沉积在衬底上并包含易于氟干法蚀刻的金属或金属化合物的光屏蔽膜、以及沉积在该光屏蔽膜上并包含耐氟干法蚀刻的另一金属或金属化合物的蚀刻掩模膜。当对光屏蔽膜进行干法蚀刻以形成图案时，由图案密度的依赖性所引起的图案尺寸的变化减少了，从而以高精确度制造出光掩模。
光掩模基板以及光掩模制作方法

[发明专利]光掩模基板以及光掩模制作方法-CN201110383933.X有效
发明人：吉川博树;稻月判臣;冈崎智;原口崇;佐贺匡;小岛洋介;千叶和明;福岛佑一 -专利权人：信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社
申请日： 2007-03-09 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：一种光掩模基板以及光掩模制作方法。该光掩模基板包括透明衬底、沉积在衬底上并包含易于氟干法蚀刻的金属或金属化合物的光屏蔽膜、以及沉积在该光屏蔽膜上并包含耐氟干法蚀刻的另一金属或金属化合物的蚀刻掩模膜。当对光屏蔽膜进行干法蚀刻以形成图案时，由图案密度的依赖性所引起的图案尺寸的变化减少了，从而以高精确度制造出光掩模。
光掩模基板以及光掩模制作方法

[发明专利]布局图形的检查方法-CN201310398625.3有效
发明人：王辉;李天慧 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2013-09-04 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种布局图形的检查方法，包括：提供目标图形和光学透镜系统，以及根据目标图形和光学透镜系统设计的原始光掩模图形；获取所述原始光掩模图形和光学透镜参数，根据光学透镜系统参数对所述原始光掩模图形进行第一模型化，获得与所述原始光掩模图形上的各点相对应的空间光强；获取光刻参数，根据光刻参数对所述空间光强进行第二模型化，获得与所述原始光掩模图形上的各点相对应的光刻光强；逐一比较所述原始光掩模图形上的各点的空间光强和光刻光强，获取两者的区别值，当所述区别值大于第一预定值时，则对所述原始光掩模图形上的该点进行标记。提高了找到的潜在的缺陷点的准确率，因此，可得到较为准确的初步符合要求的设计光掩模图形。
掩模图形原始光光刻光学透镜系统光强布局图形目标图形空间光模型化光学透镜参数光掩模图形所述空间预定值时潜在的缺陷点准确率检查

[发明专利]固持器、清洁光掩模的方法以及开关固持器的装置-CN201780081883.5有效
发明人：杰士·克鲁伯格;亚当·贝沙;伍威·戴兹 -专利权人：休斯微科光罩仪器股份有限公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种固持或保护光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模的侧边免受清洁媒介影响的固持器、清洁此类光掩模的方法以及开关固持器的装置。固持器具有：基座，具有至少三个支撑组件，设置在距离基座的底部一距离处，以固持及保持所述光掩模或具有防尘薄膜的光掩模，且具有具上部侧与下部侧的密封框，其中下部侧可安放于基座上，且其中密封框具有中心开口，其经设定大小使得中心开口可以间隔的方式容纳光掩模周围弹性密封组件设置于密封框上，以与密封框的上部侧呈角度从中心开口的内周围延伸至中心开口，其中，在空载状态下，密封组件具有小于光掩模的外周围的内周围，且在负载状态下，密封组件周向性地在侧边缘处接触容纳于中心开口中的光掩模
固持器清洁光掩模方法以及开关装置

[发明专利]光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法-CN201911179769.3在审
发明人：田边胜;浅川敬司;安森顺一;石原重德;花冈修 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2019-11-27 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供在通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时能够缩短过蚀刻时间、可以形成具有良好的截面形状的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案，图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，图案形成用薄膜具有柱状结构
光掩模坯料制造方法显示装置

[发明专利]光掩模修复方法及其系统-CN202210220006.4在审
发明人：张浩铭;庄景智;李效丞 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-03-08 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明实施例涉及一种光掩模修复方法及其系统。一种光掩模修复的方法包含：提供光掩模，其中所述光掩模包含多层堆叠、光吸收层、抗反射涂层和光吸收层。所述方法进一步包含：接收有关光掩模的信息；根据所述信息确定偏压；基于偏压确定电子束写入器系统的扫描配方；电子束写入器系统以扫描配方对抗反射涂层与光吸收层中的至少一者执行修复操作。
光掩模修复方法及其系统

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