“休斯微科光罩仪器股份有限公司”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于清洁基材局部区域的装置和方法-CN201780082382.9有效
发明人：大卫·达堤洛;伍威·戴兹;马丁·萨玛约亚 -专利权人： 休斯微科光罩仪器股份有限公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：一种用于清洁基材(尤其是光掩模)的局部区域的装置及方法。装置具有：清洁头，具有在待清洁的基材区域上方且紧密接近于其而配置的下部表面，下部表面具有在其中形成的中心开口、包围中心开口的第一环形凹槽及配置于第一环形凹槽与中心开口之间的至少一第二凹槽，第一环形凹槽以流体方式连接至允许连接至外部供应源的第一端口，第二环形凹槽以流体方式连接至允许连接至外部供应源的第二端口；供带机构，向清洁头的下部表面中的中心开口供应研磨带，使得研磨带的一部分自中心开口突出；液体介质管道，具有在中心开口处或附近处向研磨带的背侧供应液体的出口。
用于清洁基材局部区域装置方法

[发明专利]用于将暴露于紫外线辐射的液体介质涂布至基板上的装置-CN201880015184.5有效
发明人：彼特·德瑞斯;伍威·戴兹;彼特·格拉比茲 -专利权人： 休斯微科光罩仪器股份有限公司
申请日： 2018-03-01 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： B08B3/10 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于将暴露于紫外线(UV)辐射的液体介质涂布至基板上的装置。装置具有以下：壳体，具有细长腔室、具有朝腔室打开的至少一个进入口及具有位在与至少一个进入口相对的在腔室的长度上延伸的至少一个缝状排出口；管件，在纵向方向上延伸穿过腔室且对UV辐射至少部分透明，管件布置于腔室中，使得在管件与腔室的壁之间形成流动空间；以及在管件中的至少一个UV辐射源，经配置以在流动空间的方向上并穿过排出口自壳体发射UV辐射，以在液体中产生自由基并将自由基送至基板的表面。本公开的装置可在装置的处理区域上使处理均匀化。
用于暴露紫外线辐射液体介质涂布至基板上装置

[发明专利]处理头、处理系统以及处理基板的局部表面区域的方法-CN201880062859.1有效
发明人：伍威·戴兹;马丁·萨玛约亚 -专利权人： 休斯微科光罩仪器股份有限公司
申请日： 2018-12-03 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种处理基板的表面区域的处理头，其包括壳体、排放开口、辐射式加热器、等离子源以及出口开口。壳体具有主表面，主表面被配置成邻近欲被处理的基板的表面区域设置且面对基板的表面区域。排放开口位于壳体的主表面中，且能够经由至少部分地形成于壳体中的排放气体路径连接至排放装置。辐射式加热器设置于壳体中，以经由主表面中的辐射开口发出热量辐射。等离子源设置于壳体中，以经由主表面中的等离子离开开口发出等离子射流。出口开口位于壳体的主表面中，且能够经由至少部分地形成于壳体中的气体路径连接至气体源。排放开口的中心、辐射开口的中心、等离子离开开口的中心及出口开口的中心沿主表面的第一方向以上述次序排列。
处理系统以及局部表面区域方法

[发明专利]固持器、清洁光掩模的方法以及开关固持器的装置-CN201780081883.5有效
发明人：杰士·克鲁伯格;亚当·贝沙;伍威·戴兹 -专利权人： 休斯微科光罩仪器股份有限公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种固持或保护光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模的侧边免受清洁媒介影响的固持器、清洁此类光掩模的方法以及开关固持器的装置。固持器具有：基座，具有至少三个支撑组件，设置在距离基座的底部一距离处，以固持及保持所述光掩模或具有防尘薄膜的光掩模，且具有具上部侧与下部侧的密封框，其中下部侧可安放于基座上，且其中密封框具有中心开口，其经设定大小使得中心开口可以间隔的方式容纳光掩模。周围弹性密封组件设置于密封框上，以与密封框的上部侧呈角度从中心开口的内周围延伸至中心开口，其中，在空载状态下，密封组件具有小于光掩模的外周围的内周围，且在负载状态下，密封组件周向性地在侧边缘处接触容纳于中心开口中的光掩模。
固持器清洁光掩模方法以及开关装置

[发明专利]清洗衬底的方法与装置以及计算机程序产品-CN201980011961.3在审
发明人：伍威·戴兹;哈比·希奇里;李成国;大卫·达堤洛;马丁·萨玛约亚 -专利权人： 休斯微科光罩仪器股份有限公司
申请日： 2019-02-01 - 公布日： 2020-09-18 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：阐述一种清洗衬底的方法及装置，所述衬底的至少一个表面上具有待被移除的残余物。所述方法包括：利用激光扫描所述表面的上面具有所述残余物的至少一个区域，藉此对所述表面及所述残余物进行加热；对所述加热进行控制以使得所述残余物的一部分首先液化，使得所述残余物的液化部分开始朝向所述残余物的固体部分流动，藉此与所述残余物的所述固体部分形成半月形物并部分累积于所述固体部分的顶部上，因此产生的较厚的残余物层吸收更多的热量以分解或汽化。
清洗衬底方法装置以及计算机程序产品