“辅助图形”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果1138719个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种辅助图形的添加方法-CN201611259536.0有效
发明人：胡红梅 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2016-12-30 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种辅助图形的添加方法，包括：提供一OPC目标图形，根据辅助图形基准规则，选取其中只能加入一根辅助图形部分的规则,建立辅助图形额外规则；把目标图形整体进行放大，使目标图形的所有边向外扩展A距离；基于辅助图形额外规则，将该辅助图形额外规则中相应目标图形之间的距离值减去2A；并且，基于A距离，将辅助图形额外规则中因目标图形整体放大而受到影响的其他参数进行相应调整；运行辅助图形额外规则，生成第一辅助图形；以第一辅助图形作为新增的参考图形，对目标图形执行辅助图形基准规则，生成第二辅助图形；将第一辅助图形，第二辅助图形和其它已有辅助图形叠加构成最终的辅助图形。
辅助图形目标图形基准规则放大减去叠加参考

[发明专利]光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法-CN201811050984.9在审
发明人：徐一建;梁凤云;侯士权;王婷;倪凌云 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2018-12-25 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法，光学邻近修正方法包括：提供初始光刻掩膜图形，初始光刻掩膜图形包括若干主图形；基于静电易发生判断规则，从若干主图形中获取主图形组，主图形组包括相邻的至少两个主图形；在主图形组中相邻的主图形之间设置辅助图形，辅助图形包括辅助主图形和位于辅助主图形两侧的辅助连接图形，辅助连接图形连接辅助主图形和主图形；对若干主图形和辅助图形进行OPC修正，使主图形形成主修正图形，使辅助图形形成辅助修正图形，辅助修正图形包括对应所述辅助主图形的辅助修正主图形和对应所述辅助连接图形的辅助修正连接图形。所述光学邻近修正方法避免相邻主修正图形的相对尖脚处发生图形缺角或桥接损毁的现象。
主图形光学邻近修正辅助图形修正辅助连接初始光刻掩膜掩膜版连接图形判断规则图形连接静电尖脚桥接缺角损毁制作

[发明专利]光学邻近修正方法和装置-CN202310625840.6在审
发明人：陈世言 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：该方法包括：在原始图形中分别利用第一光学辅助图形形成方式和第二光学辅助图形形成方式形成第一光学辅助图形和第二光学辅助图形；确定在原始图形中存在异常光学辅助图形，异常光学辅助图形是由第一光学辅助图形和第二光学辅助图形形成的，异常光学辅助图形是指能够在基板上形成曝光图形的光学辅助图形；对异常光学辅助图形处理，获得包括目标光学辅助图形和原始图形的目标图形，目标光学辅助图形是指不会在基板上形成曝光图形的光学辅助图形。本公开实施例的方法能够提高所需目标图形的准确性。
光学邻近修正方法装置

[发明专利]一种提高掩模辅助图形一致性方法、装置及计算机设备-CN202211652843.0在审
发明人：季鹏飞;丁明 -专利权人：深圳晶源信息技术有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明涉及集成电路设计领域，特别涉及一种提高掩模辅助图形一致性方法、装置及计算机设备。本发明提供的一种提高掩模版图辅助图形一致性方法，包括以下步骤：获取初始掩模版图上的辅助图形；基于预设第一约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行回退；若能回退，则基于预设第二约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行删除；若能删除，则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第一权重；若不能删除，则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第二权重；基于第一权重和第二权重计算获得所有辅助图形的优先级，并基于优先级依次处理辅助图形以获得一致性较好的辅助图形解决了辅助图形在清理后一致性差的问题。
一种提高辅助图形一致性方法装置计算机设备

[发明专利]光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法-CN202011185018.5有效
发明人：魏来;罗招龙;李可玉;朱安康;林建佑 -专利权人：南京晶驱集成电路有限公司
申请日： 2020-10-30 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法，其中所述光强阈值的获取方法包括：在测试光罩上设置测试图形组，所述测试图形包括主图形以及辅助图形，所述测试图形组中的测试图形内的主图形宽度逐渐增大或者减小；利用所述测试光罩进行晶圆的光刻；筛选出辅助图形被显影的测试图形和与其相邻的辅助图形未被显影的测试图形；对筛选出的辅助图形被显影的测试图形和辅助图形未被显影的测试图形进行模拟，以获取两个测试图形内的辅助图形处的最大光强值；将所述辅助图形未被显影的所述测试图形内的辅助图形处的最大光强值设置为光强阈值。将得到的光强阈值设置为OPC模型的阈值，能够提升对辅助图形显影情况检测的准确性。
阈值获取方法以及辅助图形显影情况检测

[发明专利]图形对称性处理方法、图形对称性处理系统及计算机介质-CN202211562391.7在审
发明人：王成瑾;高世嘉 -专利权人：深圳晶源信息技术有限公司
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G06T7/68 文献下载
摘要：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种图形对称性处理方法、图形对称性处理系统及计算机介质，本发明的图形对称性处理方法包括以下步骤：获取需要光刻的主图形和对应的辅助图形；依据预设方式在主图形外放置辅助图形；基于预设辅助图形的遍历规则获取优化依赖关系；执行辅助图形遍历规则并基于优化依赖关系的结果对辅助图形进行优化处理；对优化后的辅助图形进行解决冲突处理，得到包括主图形的需求曝光图形。通过制定单独的辅助图形遍历规则，使得辅助图形在进行遍历时，不再仅仅依照初始优化顺序优化，在保证对称及完整性的情况下对辅助图形进行优化，进而提高了曝光图形的对称性。
图形对称性处理方法系统计算机介质

[发明专利]一种建立辅助图形曝光模型的方法-CN201811591848.0在审
发明人：卢意飞 -专利权人：上海微阱电子科技有限公司
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种建立辅助图形曝光模型的方法，包括以下步骤：步骤S01：设计测试图形，所述测试图形包含标准图形和辅助图形；步骤S02：收集在线线宽量测数据及辅助图形曝光数据；步骤S03：建立测试图形版图与线宽量测数据及辅助图形曝光数据之间的对应文件；步骤S04：基于机器学习进行辅助图形曝光模型拟合运算，建立辅助图形曝光模型；步骤S05：输出辅助图形曝光模型，进行OPC图形修正与验证。本发明可以获得准确性更高的辅助图形曝光模型。
辅助图形曝光模型测试图形量测数据曝光数据线宽标准图形对应文件基于机器设计测试图形修正拟合运算验证输出学习

[发明专利]次分辨率辅助图形校正方法-CN200910045706.9有效
发明人：李承赫 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-01-23 - 公布日： 2010-07-28 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种次分辨率辅助图形校正方法，包括：设置辅助图形，确定辅助图形参数的初始值；移动主图形的边缘，并计算主图形的边缘放置误差，获得对应于所述辅助图形参数的所述主图形边缘放置误差的最小值；根据主图形边缘放置误差的所述最小值，计算主图形边缘的图案参数，获得与所述主图形边缘图案参数最大值所对应的辅助图形参数；重复主图形边缘放置误差和主图形图案参数的计算步骤，对辅助图形参数进行更新，直至确定辅助图形，使对应的主图形的边缘放置误差为零以及具有最大的图案参数本发明有机地结合了辅助图形的产生、优化以及主图形的光学近邻校正，简化了掩模图形的校正过程，节省了大量的人力和物力。
分辨率辅助图形校正方法

[发明专利]版图优化方法-CN201911193288.8有效
发明人：宋康;陈翰;张辰明 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2019-11-28 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明提供了一种版图优化方法，包括：加入多个亚分辨率辅助图形形成版图图形；将版图图形拆分成多个区域；获得每个亚分辨率辅助图形的坐标信息；建立亚分辨率辅助图形的坐标信息与多个方向上的光强度的分布曲线；得到每个亚分辨率辅助图形的宽度，同时获得每个亚分辨率辅助图形的主导因子；得到亚分辨率辅助图形的宽度的最优尺寸；以最优尺寸的宽度对应的亚分辨率辅助图形作为参考，将其他亚分辨率辅助图形的宽度进行扩大或缩小动作，得到优化后的亚分辨率辅助图形；将多个区域的优化后的亚分辨率辅助图形进行拼接；筛选尺寸小于设定值的优化后的亚分辨率辅助图形，得到优化后的版图图形。优化了亚分辨率辅助图形，最终优化了版图图形。
版图优化方法

[发明专利]一种辅助图形的优化方法-CN201811591822.6在审
发明人：卢意飞 -专利权人：上海微阱电子科技有限公司
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2019-03-08 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种辅助图形的优化方法，包括以下步骤：步骤S01：建立OPC模型；步骤S02：选择用于辅助图形优化的测试图形；步骤S03：基于规则、模型和反向光刻计算方法，进行辅助图形的添加；步骤S04：根据测试图形的工艺窗口数据，选择辅助图形方案；步骤S05：简化辅助图形方案；步骤S06：获得优化的辅助图形添加规则。利用本发明对辅助图形方案进行优化，通过优选的测试图形，拟合运算得到较佳的辅助图形添加方案，并应用到OPC解决方案中，既节约了时间，又提高了辅助图形对主图形工艺窗口的有效提升。
辅助图形测试图形优化工艺窗口主图形光刻拟合优选运算节约应用

[发明专利]一种光刻辅助图形的设计方法-CN201710928912.9有效
发明人：陈志刚;刘隽瀚 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2017-10-09 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： G03F1/76 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻辅助图形的设计方法，包括以下步骤：S01：在掩模板基体中形成光刻辅助图形，所述光刻辅助图形的上表面和掩模版基体的上表面齐平；S02：在上述掩模板基体含有光刻辅助图形的一侧形成工艺图形，所述工艺图形的位置与光刻辅助图形在垂直方向上不重合。本发明提供的一种光刻辅助图形的设计方法，将光刻辅助图形和工艺图形设置在不同的平面上，从而避免光刻辅助图形和工艺图形位于同一聚焦平面，减少产生鬼影的风险，并且能够更好地控制光刻辅助图形的尺寸，增强散射效果
一种光刻辅助图形设计方法

[发明专利]一种优化光学邻近效应修正中曝光辅助图形的方法-CN202010802375.5有效
发明人：付欣欣;于世瑞 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种优化OPC中曝光辅助图形的方法，主要包括：生成光阻模型，在待优化的曝光图形中增加曝光辅助图形，并对比增加前后的曝光图形的中心光强极值、对比度和曝光关键尺寸；若满足条件，则对比曝光辅助图形的中心光强极值和曝光图形的成像阈值，若满足条件，则输出曝光辅助图形的设置规则。通过对比增加曝光辅助图形前后的曝光图形的中心光强极值、对比度和曝光关键尺寸可以筛选出对曝光图形曝光有益的曝光辅助图形的设置规则；对比曝光辅助图形的中心光强极值和曝光图形的成像阈值可以确保曝光辅助图形不会成像通过简单的计算就可以将符合要求的曝光辅助图形规则提取出来，解决了现有技术中曝光辅助图形规则不易提取且计算量大的问题。
一种优化光学邻近效应修正曝光辅助图形方法

[发明专利]辅助图形的添加方法、添加装置、存储介质和处理器-CN201910413379.1有效
发明人：苏晓菁;韦亚一;张利斌 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本申请提供了一种辅助图形的添加方法、添加装置、存储介质和处理器。该添加方法包括：根据预制作图形确定测试图形，测试图形包括主体图形和辅助图形，辅助图形为通过模型计算法得到的；根据测试图形的至少部分提取辅助图形的添加规则。此方法获取的辅助图形的精度非常高，因此，包括该辅助图形的测试图形也非常准确，进而根据该测试图形提取的添加规则更加准确，使得后续利用这些添加规则在预制作图形中添加的辅助图形更加准确。且该方法得到了添加规则，后续可以利用添加规则在预制作图形中添加辅助图形，应用起来速度较快且方便简单，该方法满足了对量产对速度和精度的双重需求。
辅助图形添加方法装置存储介质处理器

[发明专利]改善光罩辅助图形extra printing的方法-CN202210936385.7在审
发明人：顾晓敏 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2022-08-05 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明提供一种改善光罩辅助图形extra printing的方法，包括分别获取间隔设置的第一、二目标图形的线宽与周期，第一、二目标图形中均由至少一个线图形组成，线宽为每个线图形的线宽，周期为第一和第二目标图形中，每两相邻线宽图形中点间的距离；在第一、二目标图形中间位置插入至少一个辅助图形；根据第一、二目标图形以及辅助图形得到曝光后图形，改变辅助图形线宽的值，至辅助图形在曝光后图形中不显示，并记录辅助图形线宽的最终设置值本发明基于经验的插入方法，在亚分辨率辅助图形规则确定之后，利用extra printing的预测图形进行验证可大大降低辅助图形extra printing出现的风险，加快项目的开发进度。
改善辅助图形 extra printing 方法

[发明专利]曝光方法-CN201310222163.X有效
发明人：倪百兵;曹轶宾 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2013-06-05 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光方法，所述曝光方法包括：提供待曝光图案，所述待曝光图案具有若干图形，且所述待曝光图案具有两种不同间距的所述图形；提供伪辅助图案，所述伪辅助图案包括若干数量的辅助图形，相邻辅助图形的间距相同；获取所述辅助图形的宽度和相邻辅助图形的间距；当所述相邻图形的间距大于或等于临界尺寸时，确定所述相邻图形之间的区域为填充区，所述填充区边缘的图形为孤立图形；在所述待曝光图案的填充区内填充所述辅助图案，形成伪待曝光图形；根据所述伪待曝光图形形成第一图形和第二图形，所述第一图形和第二图形分别作为双重图形化曝光的两套掩膜图形。所述曝光方法可以提高刻蚀图形的准确性。
曝光方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条