[发明专利]一种辅助图形的添加方法有效
| 申请号： | 201611259536.0 | 申请日： | 2016-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN106527040B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 胡红梅 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种辅助图形的添加方法，包括：提供一OPC目标图形，根据辅助图形基准规则，选取其中只能加入一根辅助图形部分的规则,建立辅助图形额外规则；把目标图形整体进行放大，使目标图形的所有边向外扩展A距离；基于辅助图形额外规则，将该辅助图形额外规则中相应目标图形之间的距离值减去2A；并且，基于A距离，将辅助图形额外规则中因目标图形整体放大而受到影响的其他参数进行相应调整；运行辅助图形额外规则，生成第一辅助图形；以第一辅助图形作为新增的参考图形，对目标图形执行辅助图形基准规则，生成第二辅助图形；将第一辅助图形，第二辅助图形和其它已有辅助图形叠加构成最终的辅助图形。 | ||
| 搜索关键词： | 辅助图形 目标图形 基准规则 放大 减去 叠加 参考 | ||
【主权项】：
1.一种辅助图形的添加方法，其特征在于，包括：步骤01：提供一OPC目标图形，根据辅助图形基准规则，选取其中只能加入一根辅助图形部分的规则，建立辅助图形额外规则；其中，OPC目标图形中已有辅助图形；步骤02：把目标图形整体进行放大，使目标图形的所有边向外扩展A距离；A为非负数，A的单位为长度单位；步骤03：基于辅助图形额外规则，将所述辅助图形额外规则中相应目标图形之间的距离值减去2A；并且，基于A距离，将辅助图形额外规则中因目标图形整体放大而受到影响的其他参数进行相应调整；步骤04：运行辅助图形额外规则，生成第一辅助图形；步骤05：以第一辅助图形作为新增的参考图形，对目标图形执行辅助图形基准规则，生成第二辅助图形；将第一辅助图形，第二辅助图形和已有辅助图形叠加构成最终的辅助图形。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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