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[发明专利]光掩模图形处理方法、装置、设备、介质-CN202211252683.0在审
发明人：张家玮;刘婉华 -专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
申请日： 2022-10-13 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G06F21/10 文献下载
摘要：本申请提供一种光掩模图形处理方法、装置、设备、介质，涉及数据加密技术领域，其中光掩模图形处理方法包括以下步骤，步骤S1，通过控制图形变量，对光掩模上的标准图形进行加密处理，得到加密图形；步骤S2，根据图形变量对加密图形进行解密处理，得到标准图形，标准图形用于对光掩模进行标记。通过标准图形的加密处理，在无法得知实际解密方法的情况下，无法直接从加密图形中获取出标准图形，进而也就降低了标准图形被盗用的风险，经过加密处理的标准图形可以对光掩模实现标记，与竞品之间形成区别，防止产品被盗用
光掩模图形处理方法装置设备介质

[发明专利]SRAM标记图形检测方法-CN202310782752.7在审
发明人：涂超;顾婷婷;陈翰 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2023-06-29 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种SRAM标记图形检测方法，包括：建立SRAM图形库；获取SRAM标记图形；从SRAM标记图形选出预检区域，将位于预检区域的子单元图形与各标准SRAM图形进行匹配以找出目标标准SRAM图形，根据目标标准SRAM图形确定初始匹配位置；将处于初始匹配位置的目标标准SRAM图形以第一预设步长沿第一方向对SRAM标记图形的子单元图形进行匹配，将所有子单元图形作为一个整体形成重构标准SRAM图形；将重构标准SRAM图形以第二预设步长沿第二方向对子单元图形进行匹配；输出SRAM标记图形中完成匹配的各子单元图形的OPC差异。
sram 标记图形检测方法

[发明专利]曲线图形光学邻近修正方法-CN202010279739.6有效
发明人：陈世杰;黄增智;郭进 -专利权人：联合微电子中心有限责任公司
申请日： 2020-04-10 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曲线图形光学邻近修正方法，在对导入的原始设计图形进行光学邻近修正后，对曲线图形进行填充拟合处理以形成标准图形；所述填充拟合处理的步骤包括：在包含所述曲线图形的边线的设定区域内排布标准填充图形的阵列；将与所述曲线图形相交的所述标准填充图形作为填充拟合图形，所述填充拟合图形具有与所述曲线图形重叠的重叠部分以及与所述曲线图形不重叠的非重叠部分；通过使所述曲线图形合并所述非重叠部分或去除所述重叠部分，形成所述标准图形本发明通过对硅光器件的曲线图形进行填充拟合处理，以形成标准图形，使版图图形符合常规光掩模版标准，在确保光学邻近修正结果接近原始图形的同时，降低光掩膜版生产成本。
曲线图形光学邻近修正方法

[发明专利]对准图形、具有对准图形的半导体结构及其制造方法-CN201910419613.1在审
发明人：范聪聪 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2019-05-20 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：本发明涉及一种对准图形、具有对准图形的半导体结构及其制造方法，制造方法包括：沿第一方向排列的至少两个标准图形区，每一标准图形区包括至少两个分立的子图形区，在沿所述第一方向上，每一所述标准图形区中相邻所述子图形区之间的距离为第一距离，相邻所述标准图形区之间的距离为第二距离，且所述第二距离大于所述第一距离；遮挡图形，所述遮挡图形位于相邻所述标准图形区之间，且所述遮挡图形与相邻所述标准图形区之间具有间隙。本发明能够减小对准图形中空旷区域的面积，避免由于刻蚀残留物导致的缺陷问题，从而改善对准质量。
对准图形具有半导体结构及其制造方法

[发明专利]图纸中图形单元识别方法、装置、电子设备及存储介质-CN202210356420.8在审
发明人：张进程;尚伟;曹瑞;牛京;李凯;周照 -专利权人：软通动力信息技术（集团）股份有限公司
申请日： 2022-03-30 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： G06V30/422 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种图纸中图形单元识别方法、装置、电子设备及存储介质。该方法包括：获取图纸数据中包含的所有待识别图形元素、待识别的目标图形单元对应的标准图例，以及标准图例包含的标准图形元素；按照标准图例中标准图形元素的组成，对待识别图形元素进行排列组合，得到多个待识别元素单元；确定各待识别元素单元与标准图例的相似度，并将满足预设相似判定条件的相似度对应的待识别元素单元确定为目标元素单元；将目标元素单元中各待识别图形元素构成的图形单元识别为目标图形单元。避免依靠人工识别图纸中的图形单元，提高识别图形单元的效率和准确性。
图纸图形单元识别方法装置电子设备存储介质

[发明专利]一种鼠标轨迹识别并自动生成图形的方法-CN201110207412.9无效
发明人：丁万年;廖强;何永安;陈日良 -专利权人：福州锐达数码科技有限公司
申请日： 2011-07-21 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： G06T11/80 文献下载
摘要：本发明提供一种鼠标轨迹识别并自动生成图形的方法，其包括步骤10、获取鼠标轨迹信息；步骤20、由获取的鼠标轨迹信息，比较鼠标轨迹与标准图形的贴近度，将与鼠标轨迹贴近度最高的标准图形作为识别出的图形类型；步骤30、根据识别出的图形类型，并结合鼠标轨迹信息，计算出生成标准图形的必要参数；步骤40、根据必要参数利用系统提供的2D绘图函数生成相应的标准图形并显示出效果。本发明方法用于实现鼠标轨迹图形的识别，以解决在画图软件上，用鼠标充当画笔进行书写大致图形时，可以自动生成标准图形。
一种鼠标轨迹识别自动生成图形方法

[发明专利]图形绘制方法、装置、计算设备及计算机存储介质-CN202210226744.X在审
发明人：郑智雄 -专利权人：锐捷网络股份有限公司
申请日： 2022-03-09 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G06T11/20 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种图形绘制方法、装置、计算设备及计算机存储介质。其中，图形绘制方法包括：响应于用户触发操作，识别待处理几何图形的几何参数；根据几何参数，确定待处理几何图形对应的标准图形类型；根据几何参数及标准图形类型，确定绘制参数；按照绘制参数，生成待处理几何图形对应的标准图形本发明实施例提供的技术方案可以根据用户手绘的待处理几何图形生成与待处理几何图形相对应的标准图形，提升演示效果和用户体验。
图形绘制方法装置计算设备计算机存储介质

[发明专利]一种侦测掩膜图形保真度的系统及方法-CN201410531631.6有效
发明人：张士健;林益世 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-10-10 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种侦测掩膜图形保真度的系统及方法，将掩膜图形的量测图形与掩膜图形的版图进行亚像素精度的叠图匹配，并建立所述掩膜图形的量测图形的边界至所述掩膜图形的版图边界的法向量，计算所述法向量长度的标准差，根据所述标准差来判断掩膜图形的保真度。将所述掩膜图形的量测图形与所述掩膜图形的版图进行亚像素精度的叠图匹配，并经过计算所述法向量长度的标准差来评判掩膜图形的保真度，大大提高了评判的精准度；最终使用法向量长度的标准差来作为评判标准，给出了直观的评判数据，使得标准更加规范化和直观化。
一种侦测图形保真度系统方法

[发明专利]工程图纸识别审核方法和装置-CN202010176935.0在审
发明人：刘静 -专利权人：华黔科技有限公司
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： G06K9/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种工程图纸识别审核方法和装置，将导入的初始格式图纸转化为标准格式图纸；解析标准格式图纸，确定标准格式图纸对应的图形对象集合；利用预设的图形过滤算法，根据标准格式图纸的图纸类型，对图形对象集合进行过滤，确定待审核图形对象集合；利用预设的图形补全算法，根据图纸类型，对待审核图形对象集合中所有待审核图形对象的连接关系进行验证，得到自动修改信息；根据自动修改信息，对待审核图形对象集合进行修改，得到标准化图形对象集合；利用预先获取的建筑规范库，对标准化图形对象集合进行验证审核，得到审核结果，以使客户端获取并展示审核结果。
工程图纸识别审核方法装置

[发明专利]喷涂机器人轨迹修正方法、装置、设备及可读存储介质-CN201810245841.7有效
发明人：刘建群;凌冠耀;高伟强 -专利权人：广东工业大学
申请日： 2018-03-23 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： G05D1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种喷涂机器人轨迹修正方法、装置、设备及可读存储介质，包括：获取机器人喷枪的运动轨迹的初始轨迹点以及运动轨迹的标准图形模型，将运动轨迹的轨迹点与标准图形模型进行匹配得到匹配轨迹点，从而得到匹配图形，依据机器人的喷枪在匹配图形上的速度对匹配图形进行离散计算得到新的轨迹点，用新的轨迹点替换匹配图形上对应的初始轨迹点。本发明得到新的轨迹点都是符合标准图形模型的轨迹点，再用这些符合标准图形模型的轨迹点去替换运动轨迹上的初始轨迹点，使得旧的运动轨迹变成了一段符合标准图形模型的标准轨迹，因此，消除了喷涂后生成的图形的轨迹与标准图形模型的轨迹之间的偏差
喷涂机器人轨迹修正方法装置设备可读存储介质

[实用新型]防霉片-CN201521073640.1有效
发明人：李方贵 -专利权人：东莞市隆威实业有限公司
申请日： 2015-12-17 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： B32B27/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种防霉片，包括一载体、设置在载体一侧的纸片、设置在载体另一侧的PE层、及设置在PE层外侧的印刷层；所述防霉片还包括一时间指示图形及标准色图形，所述标准色图形呈环形设置，该标准色图形对应所述时间指示图形的外围；所述时间指示图形呈矩形设置，所述标准色图形对应呈矩形环状设置，并且标准色图形对应设置在时间指示图形的周围。本实用新型的防霉片通过载体、一侧的纸片、另一侧的PE层及印刷层，有效地减缓了载体中防霉保鲜成分的挥发，延迟了防霉片的使用时间；同时，通过设置指示图形及标准色图形，可以明显地指示防霉片是否失效，便于客户更换
防霉

[实用新型]防霉片-CN201521071489.8有效
发明人：李方贵 -专利权人：东莞市隆威实业有限公司
申请日： 2015-12-17 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： B32B27/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种防霉片，包括一载体、设置在载体一侧的纸片、设置在载体另一侧的PE层、及设置在PE层外侧的印刷层；所述防霉片还包括一时间指示图形及标准色图形，所述标准色图形呈环形设置，该标准色图形对应所述时间指示图形的外围；所述时间指示图形及标准色图形设置在一标签上，该具有时间指示图形及标准色图形的标签贴设在所述印刷层上。本实用新型的防霉片通过载体、一侧的纸片、另一侧的PE层及印刷层，有效地减缓了载体中防霉保鲜成分的挥发，延迟了防霉片的使用时间；同时，通过设置指示图形及标准色图形，可以明显地指示防霉片是否失效，便于客户更换
防霉

[发明专利]利用Excel实现晶圆测试Summary标准化的方法-CN201510402232.4有效
发明人：张亚军;徐德生 -专利权人：无锡中微腾芯电子有限公司
申请日： 2015-07-09 - 公布日： 2018-01-05 - 主分类号： G01R31/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种利用Excel实现晶圆测试Summary标准化的方法，首先每个产品建立明确的失效项目表格和标准化的测试图形母版（含标准参考点）；然后利用Excel VBA编程将探针台原始文件转换成测试图形（含确定的参考点）；再次利用Excel VBA编程，计算参考点和标准参考点之间的差值，实现原始测试图形和标准化测试图形母版的参考点的重合，同时进行相关数据处理，生成和标准化测试图形母版一致的图形；最后根据失效项目表格对批量处理后的标准化图形进行Summary信息提取统计，最终实现晶圆测试Summary的标准化。本发明实现了测试总数、失效项目等的严格统一，替换传统的风格各异的Summary格式，适用于不同类型探针台生成的测试图形或不同测试代工厂提供的测试图形等。
利用 excel 实现测试 summary 标准化方法

[发明专利]用于相机的检测方法-CN201310630133.2有效
发明人：林金霖 -专利权人：达丰（上海）电脑有限公司;达功（上海）电脑有限公司;达人（上海）电脑有限公司;达利（上海）电脑有限公司;达群（上海）电脑有限公司
申请日： 2013-11-29 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： H04N17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种用于相机的检测方法，包括：预设一个方形的标准图像，所述标准图像包括：布设于标准图像中心位置用于检测相机偏移量的偏移量检测图形；布设于标准图像内至少包含一行一列图形、用于检测相机变形量的变形量检测图形，所述变形量检测图形具有预设的颜色以检测相机清晰度；围设于偏移量检测图形周围用于检测相机感色性能、具有标准颜色的色彩检测图形；通过相机摄取标准图像，获取标准图像的电子化图像；通过分析所述电子化图像中偏移量检测图形、变形量检测图形、变形量检测图形的颜色以及色彩检测图形对应检测相机的偏移量、变形量、清晰度以及感色性能。
用于相机检测方法

[发明专利]一种半导体器件的检测方法-CN201110029703.3有效
发明人：李钢;张迎春 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2011-01-27 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种半导体器件检测方法，包括以下步骤：提供标准光掩膜，所述标准光掩膜包含有光刻信息；获取光刻信息中晶圆检测区的坐标信息；将坐标信息转化成SEM可读的SEM坐标信息；建立量测图形模板，所述量测图形模板包含标准检测区图形；将具有由标准光掩膜定义的图案化光刻胶层的晶圆依次放入SEM中，通过SEM坐标信息找出晶圆检测区；将晶圆检测区图形与量测图形模板的标准检测区图形进行比较；如果晶圆检测区图形与标准检测区图形一致，则检测位置正确；如晶圆检测区图形与标准检测区图形不一致，则检测位置有偏差。
一种半导体器件检测方法

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