专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半导体封装结构的开封方法-CN202110226516.8在审
  • 徐静 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-03-01 - 2021-06-22 - H01L21/02
  • 本申请公开了一种半导体封装结构的开封方法,半导体封装结构包括基板、晶粒堆叠结构和封装材料层;晶粒堆叠结构包括依次堆叠设置在基板上的多个晶粒;多个晶粒包括目标晶粒;开封方法包括以下步骤:对半导体封装结构远离基板的一侧沿纵向进行处理,直至距离目标晶粒的上表面预设距离的停止面,使半导体封装结构保留位于目标晶粒的上表面与停止面之间的剩余材料,以及位于停止面下方且位于目标晶粒四周的后封装材料层;以及移除剩余材料以及位于停止面下方且位于目标晶粒四周的部分后封装材料层
  • 一种半导体封装结构开封方法
  • [发明专利]IGBT晶圆的方法-CN202010618537.X有效
  • 郁新举;叶斐;朱伟杰 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2020-07-01 - 2022-08-16 - H01L21/304
  • 本申请公开了一种IGBT晶圆的方法,包括:在集成有IGBT器件的晶圆的正面贴附第一薄膜;对晶圆进行,使晶圆的厚度至第一目标厚度;去除第一薄膜,在晶圆的正面贴附第二薄膜;对第二薄膜进行;对晶圆进行,使晶圆的厚度至第二目标厚度;去除第二薄膜。本申请通过在对IGBT晶圆进行制造的过程中,在对晶圆的背面研磨至所需求的厚度之前,依次对晶圆的背面和贴附在晶圆正面的薄膜进行,从而降低了在晶圆研磨过程中晶圆的厚度和薄膜的厚度对工艺的影响,从而提高了后的晶圆的厚度的一致性
  • igbt方法
  • [实用新型]玻璃基材装置及系统-CN201320349250.7有效
  • 蔡锦云;符维强;李步龙 - 厦门市豪尔新材料有限公司
  • 2013-06-18 - 2013-11-27 - C03C15/00
  • 本实用新型公开一种玻璃基材装置及系统,包括:补液槽、槽、挡板、滤板、阀门、过滤槽,所述补液槽设于槽的上方,在补液槽内设有氟离子浓度测量装置,所述挡板设于槽的两侧,所述挡板上开设多个用以分流的小孔,所述滤板设在槽内部的下方,所述阀门设在槽底部,所述滤板通过阀门连接所述过滤槽。通过在挡板上设置分流的小孔,可避免蚀刻溶液流速过快对玻璃基材产生划伤,使后的玻璃光泽饱满,没有残留的污渍,同时也保证溶液中每个位置氟离子浓度相同,由于设置滤板,时产生的氟化合物颗粒随着蚀刻溶液往管道里走,直接进入过滤槽,滤板能够阻挡颗粒往槽运动,避免颗粒对玻璃产生划伤。
  • 玻璃基材装置系统
  • [实用新型]盖板组件、电池单体、电池模块、电池组及装置-CN201922387308.7有效
  • 白璐璐 - 宁德时代新能源科技股份有限公司
  • 2019-12-26 - 2020-07-14 - H01M2/12
  • 本实用新型实施例提供一种盖板组件、电池单体、电池模块、电池组及装置,盖板组件包括:顶盖板,顶盖板上设置有防爆阀;绝缘板,和顶盖板层叠设置,绝缘板具有基体部和位于基体部的区域,区域由基体部形成,且在盖板组件的厚度方向上,区域正投影边界围合形成的区域和防爆阀的正投影至少部分重叠设置。区域由基体部形成,因此区域受热易软化变形,导致区域出现通孔,能够有效增大排气面积,保证防爆阀正常及时开启。区域在厚度方向上和防爆阀的位置相对应,使得气体能够快速抵达防爆阀,进而能够快速冲破防爆阀,能够有效提高电池单体的安全性能。
  • 盖板组件电池单体模块电池组装置
  • [实用新型]一种圆壳底部装置-CN202320059044.6有效
  • 袁沙;励建立;李武章 - 江苏科达利精密工业有限公司
  • 2023-01-09 - 2023-05-23 - B21D37/10
  • 本实用新型涉及圆壳再加工技术领域,且公开了一种圆壳底部装置,包括固定座,所述固定座上安装有圆壳凸模,且所述圆壳凸模可在所述固定座上径向滑动,所述圆壳凸模与固定座之间安装有弹簧,所述圆壳凸模的底部设置有凹模,所述凹模的内部固定有顶杆,所述顶杆的顶部中间位置固定有凸块,该圆壳底部装置,实现对圆壳底部进行自动化加工,效率更高,且在加工的过程中能够保证处与圆壳之间同心,提高加工的精度。
  • 一种底部装置
  • [发明专利]锗薄膜的方法-CN201410459554.8在审
  • 孙川川;王敬;梁仁荣;许军 - 清华大学
  • 2014-09-10 - 2015-01-07 - H01L21/02
  • 本发明公开了一种锗薄膜的方法,包括以下步骤:提供表面为锗薄膜的晶片;将晶片浸于包括氧化剂的水溶液中以进行锗薄膜的,其中氧化剂将锗转化为锗氧化物,锗氧化物溶解在水溶液中;对后的晶片进行清洗。本发明实施例的锗薄膜的方法具有成本低、操作简便的优点,此外,与现有化学机械抛光相比,具有可以通过控制溶液的配比以及温度,使得腐蚀速率可控、后表面粗糙度小的优点。
  • 薄膜方法
  • [发明专利]麦克风MEMS工艺方法-CN201410268499.4有效
  • 郁新举 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2014-06-17 - 2019-06-11 - H01L21/306
  • 本发明公开了一种麦克风MEMS工艺方法,该方法在进行晶圆工艺前,先将麦克风的通孔细化为多个微孔,并在微孔内填满介质膜,在晶圆完成后,再去除所述介质膜,形成所要求尺寸的通孔。本发明通过将大通孔微量化,并填充介质膜,作为晶圆时的支撑物,后再去除介质膜形成通孔,确保了晶圆过程中有足够的支撑力,从而改善了过程中因支撑力不足而导致的碎片问题。
  • 麦克风mems工艺方法
  • [发明专利]晶圆方法-CN201210333127.6有效
  • 邢家明;洪齐元 - 豪威科技(上海)有限公司
  • 2012-09-10 - 2012-12-19 - B24B37/04
  • 本发明提供了一种晶圆方法,所述晶圆方法包括:提供晶圆,并在所述晶圆中形成阻挡层;利用磨削工艺晶圆;利用化学机械研磨工艺晶圆至所述阻挡层。利用阻挡层标示出晶圆需要到的位置,由此,利用化学机械研磨工艺便能实现对晶圆的精度要求,避免了对于湿法刻蚀工艺的使用,由此也就避免了湿法刻蚀工艺所带来的一些缺陷,提高了晶圆工艺的可靠性。
  • 晶圆减薄方法

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