专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种陶瓷干压成型的制粉设备及生产方法-CN201610752581.3在审
  • 徐平;游洪 - 佛山市陶泽新能源科技有限公司
  • 2016-08-29 - 2017-01-18 - C04B35/626
  • 本发明公开了一种陶瓷干压成型的二次混粒制粉设备,包括湿法磨机、喷雾干燥塔、雾化干燥料仓;干法磨机、干法造粒机、干法造粒料仓,其特征在于在所述的雾化干燥料仓及干法造粒料仓与混料机相连接。该设备的生产方法的步骤1)陶瓷原料湿法碾磨;2)雾化干燥造粒;3)陶瓷原料干法碾磨;4)干法造粒;5)雾化干燥粉体与干法造粒粉体按比例混合;6)坯体干压成型。解决了陶瓷砖产品干燥、烧成收缩大、易变形缺陷,提高了产品质量;同时,干法制粉节能效果好,有利于原料集约化生产,具有显著的经济效益。
  • 一种陶瓷成型制粉设备生产方法
  • [发明专利]干法乙炔联产电石渣水泥工艺及装置-CN201210234315.3有效
  • 郭庆人;张新力;吴彬;熊新阳;李朝阳 - 新疆天业(集团)有限公司
  • 2012-07-09 - 2012-10-24 - C07C11/24
  • 本发明提供一种干法乙炔联产电石渣水泥工艺及装置,包括电石破碎系统、干法乙炔反应系统、水泥生产系统;由电石炉出来的液态电石通过重力作用送往密闭装置,密闭装置设置气流喷嘴,通入加压的二氧化碳击碎液态电石,经破碎的电石通过除铁、破碎、除铁工序,再次送往干法乙炔反应器,经过计量的小粒径电石落入干法乙炔反应器内,在干法乙炔反应器隔板二段位置处设置开口,加入风积沙或炉渣,在搅拌装置作用下风积沙或炉渣与电石渣一起由干法反应器出口排出干法乙炔反应系统,后送往水泥生产系统,解决现有技术中电石破碎成本高、干法乙炔工段电石反应不完全、电石资源被浪费、乙炔收率低、反应器容易堵塞、工艺复杂等问题。
  • 乙炔联产电石水泥工艺装置
  • [实用新型]一种高炉煤气干法静电除尘装置-CN201320428812.7有效
  • 贾彩清;马作仿;陈乐 - 中冶赛迪工程技术股份有限公司
  • 2013-07-18 - 2013-12-25 - C21B5/06
  • 本实用新型公开了一种高炉煤气干法静电除尘装置,包括干法粗除尘装置及布置在该装置之后的干法精除尘装置,关键在于:所述干法精除尘装置包括两个以上并联布置的静电除尘单元,每个静电除尘单元包括两个以上串联布置的干法静电除尘器所述静电除尘单元中的第一个干法静电除尘器和最后一个干法静电除尘器上均并联有旁通管。本实用新型中每个静电除尘单元包括两个以上串联布置的干法静电除尘器,每个单元至少有一个静电除尘器的收尘富裕能力,即便其中某干法静电除尘器故障,其余除尘器任然可以满足该单元内高炉煤气精除尘要求,保证出口净煤气的净化质量
  • 一种高炉煤气静电除尘装置
  • [发明专利]一种干法熄焦系统-CN201310577013.0无效
  • 孙胜强;黄兵 - 孙胜强;黄兵
  • 2013-11-14 - 2014-02-26 - C10B39/02
  • 本发明涉及一种干法熄焦系统,它包括干熄焦仓、轨道及其上面行驶的湿焦车,熄焦仓位于轨道旁,所述熄焦仓下置,熄焦仓的上部靠轨道一侧的侧壁上开有装焦口,轨道与熄焦仓之间设有通向开口的溜装焦槽;溜装焦槽靠轨道的一端高与现有技术相比,本发明可免去焦罐车、焦罐检修站、提升机、横牵引装置和辅助的迁车台,简化工艺,大大了降低设备成本。
  • 一种干法熄焦系统
  • [发明专利]清洗机台以及清洗方法-CN202010982723.1在审
  • 郗宁 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-09-17 - 2022-03-18 - H01L21/67
  • 本发明实施例提供一种清洗机台以及清洗方法,其中,清洗机台包括:湿法清洗模块,用于对晶圆执行湿法清洗工艺;干法清洗模块,用于对晶圆执行干法清洗工艺;输送模块,用于将晶圆输入至湿法清洗模块或干法清洗模块中,或用于将湿法清洗模块或干法清洗模块中的晶圆输出;传送模块,用于将晶圆从湿法清洗模块传送至干法清洗模块,或用于将晶圆从干法清洗模块传送至湿法清洗模块;处理模块,用于抽取传送模块中的气体;本发明实施例提高填充刻蚀缺陷形成的半导体结构的稳定性
  • 清洗机台以及方法

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