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- [发明专利]清洗机台以及清洗方法-CN202010982723.1在审
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郗宁
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长鑫存储技术有限公司
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2020-09-17
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2022-03-18
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H01L21/67
- 本发明实施例提供一种清洗机台以及清洗方法,其中,清洗机台包括:湿法清洗模块,用于对晶圆执行湿法清洗工艺;干法清洗模块,用于对晶圆执行干法清洗工艺;输送模块,用于将晶圆输入至湿法清洗模块或干法清洗模块中,或用于将湿法清洗模块或干法清洗模块中的晶圆输出;传送模块,用于将晶圆从湿法清洗模块传送至干法清洗模块,或用于将晶圆从干法清洗模块传送至湿法清洗模块;处理模块,用于抽取传送模块中的气体;本发明实施例提高填充刻蚀缺陷形成的半导体结构的稳定性
- 清洗机台以及方法
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