[发明专利]硅基石墨烯的光泵浦电控太赫兹波调控方法在审

专利信息
申请号: 201811020525.6 申请日: 2018-09-03
公开(公告)号: CN108897150A 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 温中泉;陈刚;张智海;梁高峰 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: G02F1/015 分类号: G02F1/015;G02F1/00
代理公司: 重庆市信立达专利代理事务所(普通合伙) 50230 代理人: 包晓静
地址: 400000 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了硅基石墨烯的光泵浦电控太赫兹波调控方法,解决了现有的太赫兹波调控技术存在插入损耗大、调制深度较窄、响应速度较慢和单元串扰大的问题,其技术方案要点是:包括以下步骤:通过光泵浦技术,使硅层产生光生载流子;将所述光生载流子扩散到石墨烯层,使所述硅层与所述石墨烯层之间界面处形成耗尽层;将所述石墨烯层的费米能级升高进入导带;在所述石墨烯层与所述硅层衬底之间施加反向偏压,使所述耗尽层展宽,具有使太赫兹波调控的调制深度增大、响应速度加快、插入损耗降低和单元串扰降低的效果。
搜索关键词: 石墨烯层 太赫兹波 光泵浦 硅层 光生载流子 调控 插入损耗 耗尽层 石墨烯 电控 串扰 硅基 调制 技术方案要点 反向偏压 费米能级 深度增大 响应 界面处 衬底 导带 升高 施加 扩散
【主权项】:
1.硅基石墨烯的光泵浦电控太赫兹波调控方法,其特征是:包括以下步骤:S1:通过光泵浦技术,使硅层(3)产生光生载流子;S2:将所述光生载流子扩散到石墨烯层(1),使所述硅层(3)与所述石墨烯层(1)之间界面处形成耗尽层(2);S3:将所述石墨烯层(1)的费米能级升高进入导带;S4:在所述石墨烯层(1)与所述硅层(3)衬底之间施加反向偏压,使所述耗尽层(2)展宽。
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  • 刘正奇;刘桂强;黄镇平;张后交;陈戬 - 江西师范大学
  • 2017-07-21 - 2017-11-07 - G02F1/015
  • 本发明公开了基于ITO‑金属‑半导体结构的近红外光吸收器件,属于光电材料领域。所述吸收器自下而上依次由衬底、金属膜层、半导体结构层和ITO膜层组成,所述半导体结构层由半导体颗粒阵列和半导体膜层组成。通过引入ITO(氧化铟锡)透明材料实现光能量的有效入射和进入半导体材料以及运用ITO材料膜层本身的高电导特性,实现良好电导特性与良好光吸收特性的半导体光电器件。这种基于半导体结构的吸收器具有结构简单、近红外波段吸收和宽波段吸收的特点。此外结构中采用的半导体材料便于拓展此类吸收器在光电检测、光电转换、光生电子和热电子产生与收集以及电磁能量吸收等领域的应用开发。
  • 一种黑磷光调制器及其制备方法-201710211015.6
  • 张晗;陆璐;张家宜 - 深圳大学
  • 2017-03-31 - 2017-07-04 - G02F1/015
  • 本发明提供了一种黑磷光调制器,包括黑磷光调制器本体、槽型玻片和盖玻片,槽型玻片包括一凹槽,黑磷光调制器本体容置在所述凹槽中,盖玻片覆盖槽型玻片以密封所述凹槽。本发明提供的黑磷光调制器为黑磷提供了稳定的存储环境,有效地解决黑磷容易被氧化的难题,同时本发明黑磷光调制器的结构不同于传统的脊型波导,缩小了光调制器的尺寸,减小了光调制器的体积。本发明还提供了一种黑磷光调制器的制备方法,包括提供槽型玻片和黑磷光调制器本体,槽型玻片包括一凹槽以及与凹槽邻接的上表面,在凹槽中容置黑磷调制器本体;提供盖玻片,在上表面或盖玻片表面涂覆无影胶,将盖玻片覆盖上表面以密封凹槽,固化后,得到黑磷光调制器。
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