[发明专利]半导体装置以及功率放大器模块在审

专利信息
申请号: 201810261605.4 申请日: 2018-03-27
公开(公告)号: CN108735698A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 大部功;梅本康成;柴田雅博;那仓健一 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L27/06;H01L21/60
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李逸雪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种在使用了包含化合物半导体的基板的半导体装置中,能够抑制芯片面积的增大的半导体装置。在包含化合物半导体的基板上形成电路元件。在电路元件上,接合焊盘被配置为与电路元件至少局部重叠。接合焊盘包含第1金属膜以及形成于第1金属膜上的第2金属膜。第2金属膜的金属材料比第1金属膜的金属材料硬。
搜索关键词: 金属膜 半导体装置 电路元件 化合物半导体 金属材料 接合焊盘 基板 功率放大器模块 局部重叠 增大的 芯片 配置
【主权项】:
1.一种半导体装置,具有:电路元件,形成在包含化合物半导体的基板上;和接合焊盘,在所述电路元件上,被配置为与所述电路元件至少局部重叠,所述接合焊盘包含第1金属膜以及形成于所述第1金属膜上的第2金属膜,所述第2金属膜的金属材料的杨氏模量比所述第1金属膜的金属材料的杨氏模量大。
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