[发明专利]半导体装置及半导体装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 201910576377.4 申请日: 2019-06-28
公开(公告)号: CN110690119A 公开(公告)日: 2020-01-14
发明(设计)人: 原田健司;曾根田真也 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L23/488;H01L21/329;H01L29/861
代理公司: 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种能够提高半导体装置的耐久性的技术。半导体装置具备:半导体衬底、半导体衬底之上的电极、电极之上的焊料接合用金属膜、焊料接合用金属膜之上的防氧化用金属膜、以及防氧化用金属膜之上的焊料层。在从防氧化用金属膜侧俯视观察焊料接合用金属膜及防氧化用金属膜时,焊料接合用金属膜具有不与防氧化用金属膜重叠的第1部分。
搜索关键词: 金属膜 防氧化 焊料 接合 半导体装置 电极 衬底 半导体 俯视观察 焊料层
【主权项】:
1.一种半导体装置,具备:/n半导体衬底;/n所述半导体衬底之上的电极;/n所述电极之上的焊料接合用金属膜;/n所述焊料接合用金属膜之上的防氧化用金属膜;以及/n所述防氧化用金属膜之上的焊料层,/n在从所述防氧化用金属膜侧俯视观察所述焊料接合用金属膜及所述防氧化用金属膜时,所述焊料接合用金属膜具有不与所述防氧化用金属膜重叠的第1部分。/n
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说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

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