[发明专利]磊晶用碳化硅基板及半导体芯片有效
申请号: | 201710812888.2 | 申请日: | 2017-09-11 |
公开(公告)号: | CN108573932B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 吴耀铨;陈柏霖;吴佩瑜;郭彦廷;庄志远;刘哲铭;施英汝;李奇泽 | 申请(专利权)人: | 环球晶圆股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/15 | 分类号: | H01L23/15;H01L23/04 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 中国台湾新竹科学*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种磊晶用碳化硅基板及半导体芯片,其中碳化硅基板具有一表面及自所述表面凸起形成的多个图案化结构,所述表面的晶面为(0001)面;所述图案化结构的宽度由下往上逐渐减小且形成倾斜的至少一侧面,侧面的晶面为(‑1,0,1,2)面。碳化硅基板的顶部设置有一氮化镓磊晶层以构成所述半导体芯片。因此,氮化镓磊晶层的底部形成侧向延伸的差排缺陷,不易形成往上延伸的穿透差排缺陷,让氮化镓磊晶层具有良好的磊晶品质。 | ||
搜索关键词: | 磊晶用 碳化硅 半导体 芯片 | ||
【主权项】:
1.一种磊晶用碳化硅基板,具有一顶部,所述顶部用于设置氮化镓磊晶层,其特征在于,所述顶部具有一表面及自所述表面凸起形成的多个图案化结构,其中,所述表面的晶面为(0001)面;所述图案化结构的宽度由下往上逐渐减小且形成至少一倾斜的侧面,所述侧面的晶面为(‑1,0,1,2)面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于环球晶圆股份有限公司,未经环球晶圆股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710812888.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电子装置
- 下一篇:半导体装置及其制造方法