[发明专利]扫描曝光设备和方法，以及装置制造方法无效
| 申请号： | 03148254.6 | 申请日： | 2003-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN1472603A | 公开（公告）日： | 2004-02-04 |
| 发明（设计）人： | 香田徹;筒井慎二 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;G03F7/26;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种扫描曝光设备，包括：照射光学系统，用于利用弧形照射光照射掩膜上的图形；投影光学系统，用于将由所述照射光学系统照射的掩膜上的图形投影到一个板片上；掩膜托架，用于扫描掩膜；板片托架，用于扫描该板片，所述扫描曝光设备相对于所述投影光学系统同步扫描所述掩膜托架和板片托架；掩膜支撑机构，用于支撑掩膜的边缘；以及掩膜托架倾斜机构，用于将由弧形照射光照射的区域中的图形置于所述投影光学系统的对象表面侧聚焦平面中，其中掩膜由于其自身的重量从被支撑的边缘变形。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 曝光 设备 方法 以及 装置 制造 | ||
【主权项】：
1.一种扫描曝光设备，包括：照射光学系统，用于利用弧形照射光照射掩膜上的图形；投影光学系统，用于将由所述照射光学系统照射的掩膜上的图形投影到一个板片上；掩膜托架，用于扫描掩膜；板片托架，用于扫描该板片，所述扫描曝光设备相对于所述投影光学系统同步扫描所述掩膜托架和板片托架；掩膜支撑机构，用于支撑掩膜的边缘；以及掩膜托架倾斜机构，用于将由弧形照射光照射的区域中的图形置于所述投影光学系统的对象表面侧聚焦平面中，其中掩膜由于其自身的重量从被支撑的边缘变形。
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