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- [发明专利]基板处理装置-CN200810124894.X有效
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上代和男;松井久明
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大日本网目版制造株式会社
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2008-06-25
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2009-03-04
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H01L21/00
- 本发明提供一种基板处理装置，能更可靠地防止处理液(雾滴)侵入相邻的处理室。该基板处理装置具有对基板(S)实施药液处理的湿式处理部(2)和对基板(S)实施作为前处理的干式清洗等处理的前处理部(1)。各处理部(1、2)的处理室(10、20)经由开口部(11a)而连通，该开口部(11a)可通过设置在前处理部(1)一侧的闸门装置(14)和设置在湿式处理部(2)一侧的闸门装置(24)进行开闭。此外，在前处理部(1)的处理室(10)内配备有在开口部(11a)处于打开状态时对开口部(11a)向湿式处理部(2)一侧喷出空气的空气喷嘴(19a、19b)。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN200810129592.1有效
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小路丸友则;宫胜彦
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大日本网目版制造株式会社
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2008-07-02
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2009-02-04
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H01L21/00
- 一种使用低表面张力溶剂使处理液润湿的基板表面干燥的基板处理装置及基板处理方法，使用少量低表面张力溶剂能使基板的表面良好干燥。在冲洗处理结束之后，基板转速从600rpm降低至10rpm从而呈浸泡状形成DIW(去离子水)液膜。并且在DIW供给停止后，经过规定时间(0.5秒)等到浸泡状的液膜的膜厚几乎均匀后，以例如100(mL/min)的流量向基板表面的表面中央部喷出IPA(异丙醇)。通过供给IPA，在基板表面中央部形成用IPA置换DIW的置换区域。进一步IPA的供给经过3秒后，基板转速从100rpm加速至300rpm。由此置换区域在基板直径方向上扩大，使整个基板表面置换为低表面张力溶剂。
- 处理装置以及方法
- [实用新型]基板处理装置-CN200720000398.4无效
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山本真弘
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大日本网目版制造株式会社
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2007-03-28
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2008-12-24
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H01L21/00
- 本实用新型的基板处理装置具有：多个处理部，其用于对基板进行处理；预备单元，其进行在处理部中使用的处理液的准备；以及控制部。前述控制部具有：时序安排部，其对应于包括多个处理工序的工艺处方，生成时序表；以及预备单元时序安排部，其与时序安排部连接，参照前述时序安排部生成的时序表，生成前述预备单元的时序表，以使前述预备单元中的准备处理所需时间与前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。通过将预备单元的准备处理纳入时序表，在进行处理液的准备处理的情况下，也可以提高装置的运转率。
- 处理装置
- [发明专利]喷嘴清洗装置-CN200810001965.7有效
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高木善则
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大日本网目版制造株式会社
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2008-01-04
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2008-12-03
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B05B15/02
- 本发明提供一种在长时间内都能够充分干净地清洗喷嘴的喷嘴清洗装置。该清洗区(61)具有：一对飞散防止板(73)；具备惰性气体喷出用狭缝(77、78)的四个惰性气体喷出用区(75)；隔板(74)；由支撑构件支撑的下面清洗刷(82)、右侧面清洗刷(83)以及左侧面清洗刷(81)；支撑第一喷嘴(87)、第二喷嘴(84)以及第三喷嘴(85、86)的一对喷嘴用区(76)。当清洗区配置于清洗区域时，下面清洗刷配置于能够抵接于狭缝喷嘴下端部下面的位置；右侧面清洗刷配置于朝向狭缝喷嘴的长度方向能够抵接于下端部右侧面的位置；左侧面清洗刷配置于向着狭缝喷嘴的长度方向能够抵接于下端部左侧面的位置。
- 喷嘴清洗装置
- [发明专利]基板处理装置-CN200810093530.X无效
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富藤幸雄;尾崎一人
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大日本网目版制造株式会社
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2008-04-23
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2008-11-26
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H01L21/00
- 本发明提供一种基板处理装置，能够更正确地把握基板的处理状况。基板处理装置具有处理槽(10A～10C)，将基板(S)以倾斜姿势输送的同时，在各处理槽(10A～10C)内分别通过喷淋喷嘴(14)向基板(S)的表面供给冲洗液，同时实施清洗处理。在各处理槽(10A～10C)内部设置有在沿基板(S)的表面流下的冲洗液到达槽内的底部之前接受该清洗液而测定其pH值的第一pH值测定装置(16)，基于各pH值测定装置(16)的测定结果，通过控制器(40)控制各处理槽(10A～10C)中的冲洗液的供给量。
- 处理装置
- [发明专利]涂敷装置-CN200810004929.6无效
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相良秀一;增市干雄;高村幸宏;川越理史;松家毅
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大日本网目版制造株式会社
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2008-01-29
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2008-11-26
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B05C5/02
- 本发明涉及一种涂敷装置，喷嘴从其前端部以液柱状态喷出涂敷液；载物台将基板装载在其上表面上；喷嘴移动机构在载物台上的空间中，在横穿该载物台面的方向上使喷嘴进行往复移动；液体接受部，其包括有倾斜面，在喷嘴移动机构使喷嘴沿着横穿的方向移动并由该喷嘴向着从载物台上偏离的位置喷出涂敷液时，接受从该喷嘴向载物台外喷出的涂敷液。倾斜面在配置于从载物台上偏离的位置处的喷嘴的前端部的垂直下方的位置，向着横穿的方向延伸设置，并相对于与该横穿的方向相垂直的水平方向而倾斜。液体接受部使配置于从载物台上偏离的位置处的喷嘴所喷出的涂敷液以液柱状态涂敷附着于倾斜面上进行回收。
- 装置
- [发明专利]基板处理装置-CN200810094841.8有效
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仲野彰义;迎垣孝一;加护由一;上野博之
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大日本网目版制造株式会社
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2008-04-28
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2008-10-29
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H01L21/00
- 本发明的基板处理装置是一种用于对基板边缘部进行清洗处理的基板处理装置。该基板处理装置具有：基板保持机构，其用于保持基板；刷子，其具有清洗面，所述清洗面相对纵向倾斜，所述纵向是垂直于所述基板保持机构所保持的基板的表面的方向；刷子移动机构，其用于在所述纵向以及与该纵向正交的横向上移动所述刷子；负荷检测单元，其用于检测沿所述纵向施加到所述刷子的负荷；第一判断单元，其基于所述负荷检测单元的输出，判断所述刷子是否配置到基准位置，所述基准位置在向处理时位置导向所述刷子之际成为基准，其中，所述处理时位置是在进行清洗处理时所述刷子应配置的位置。
- 处理装置
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