[发明专利]柱互连的方法和结构有效

专利信息
申请号: 01111778.8 申请日: 2001-03-16
公开(公告)号: CN1314710A 公开(公告)日: 2001-09-26
发明(设计)人: J·J·埃利斯-莫纳格翰;P·M·菲尼;R·M·格夫肯;H·S·兰迪斯;R·A·普雷维蒂-科利;B·L·B·路透;M·J·鲁藤;A·K·斯坦珀;S·J·杨基 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L23/52 分类号: H01L23/52;H01L21/768
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 陈霁,张志醒
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体芯片的方法和结构,它包括多个互连金属化层、互连金属化上的至少一个可形变的介电材料层、至少一个输入/输出键合焊点、以及支持结构,此支持结构包含对焊点进行支持的避免可形变的介电材料破裂的相当坚固的电介质。
搜索关键词: 互连 方法 结构
【主权项】:
1.一种半导体芯片,它包含:多个互连金属化层;所述互连金属化上的至少一个可形变的介电材料层;支持结构,它包含连接到所述可形变的电介质的相当坚固的电介质;以及至少一个连接到所述支持结构的输入/输出键合焊点,其中所述支持结构对所述焊点进行支持,以避免所述可形变的介电材料破裂。
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