“株式会社荏原制作所”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果1369个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]镀覆装置以及镀覆方法-CN202280004862.4在审
发明人：下山正;増田泰之;樋渡良辅 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2022-01-31 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明提供镀覆装置以及镀覆方法。能够在所希望的时机对基板的特定的部位进行遮蔽，并且提高镀覆膜厚的均匀化。镀覆模块包括：镀覆槽(410)，其用于收容镀覆液；阳极(430)，其配置于镀覆槽(410)内；基板支架(440)，其用于在将被镀覆面(Wf‑a)朝向下方的状态下对基板(Wf)进行保持；旋转机构(447)，其构成为使基板支架(440)向第1方向以及与第1方向相反的第2方向旋转；以及遮蔽机构(485)，其根据基板支架(440)的旋转角度使遮蔽部件(481)向阳极(430)与基板(Wf)之间移动。
镀覆装置以及方法

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN202180052111.5在审
发明人：佐竹正行;中西正行;山下道义 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明关于一种抑制接合多个基板而制造的层叠基板的裂纹和碎裂的基板处理方法。进而，本发明关于一种能够实施这样的基板处理方法的基板处理装置。本方法使将第一基板(W1)与第二基板(W2)接合而制造的层叠基板(Ws)旋转，将具有热固化性的填充剂(F)涂敷至第一基板(W1)的周缘部与第二基板(W2)的周缘部之间的间隙，使该填充剂(F)固化，涂敷填充剂(F)的工序与使填充剂(F)固化的工序在同一个处理室(21)内连续进行。
处理方法装置

[发明专利]粉末供给装置及镀覆系统-CN202211510861.5在审
发明人：张绍华;藤方淳平 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2018-12-24 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C25D21/14 文献下载
摘要：本发明提供一种尽可能地防止粉末飞散的粉末供给装置及镀敷系统。提供一种将包含镀覆中使用的金属的粉末向镀覆液供给的粉末供给装置。该粉末供给装置具有：构成为收纳镀覆液的镀覆液箱；用于向镀覆液箱内投入粉末的投入配管；用于供给气体的气体供给管路；和构成为接收来自气体供给管路的气体、并在投入配管的内部生成朝向镀覆液箱的螺旋气流的螺旋气流生成部件。
粉末供给装置镀覆系统

[发明专利]阳极室的液体管理方法和镀敷装置-CN202280005429.2在审
发明人：富田正辉;増田泰之 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2022-06-20 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C25D21/12 文献下载
摘要：一种阳极室的液体管理方法，包括如下步骤：准备镀敷槽，上述镀敷槽配置有阳极和与上述阳极的上表面接触或者紧贴的隔膜，并具备由上述隔膜分隔出的上方的阴极室和下方的阳极室以及与上述阳极室连通而用于从上述阳极室向上述镀敷槽的外部排出气泡的排气通路；在上述阳极室和上述阴极室保持镀敷液，并使上述阳极室的镀敷液的液面亦即上述排气通路内的镀敷液的液面比上述阴极室的镀敷液的液面低；基于配置于上述排气通路内的液面传感器的输出，辨别上述排气通路内的镀敷液的液面的高度是否不足规定高度；以及在辨别为上述排气通路内的镀敷液的液面的高度不足规定高度时，对上述阳极室供给纯水或者电解液。
阳极液体管理方法装置

[发明专利]镀覆装置以及镀覆方法-CN202280005515.3在审
发明人：后藤悠水;辻一仁;长井瑞树 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2022-02-16 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C25D17/02 文献下载
摘要：本发明提出一种能够提高形成于基板的镀覆膜的均匀性的镀覆装置等。镀覆装置具备：镀覆槽；基板支架，其用于保持基板；阳极支架，其以与被上述基板支架保持的基板对置的方式配置在上述镀覆槽内，且构成为对溶解性的阳极进行保持；阳极遮罩，其安装于上述阳极支架，并具有供在上述阳极与上述基板之间流经的电流通过的开口；调整机构，其构成为对上述阳极遮罩的开口尺寸进行调整；以及控制器，其基于使用上述阳极的期间的该阳极中的电解量来控制上述调整机构。
镀覆装置以及方法

[发明专利]镀覆装置-CN202180003017.0有效
发明人：关正也;富田正辉;张绍华 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-02-22 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C25D17/06 文献下载
摘要：本发明涉及镀覆装置，本发明提供一种能够抑制由旋转机构的轴承产生的颗粒侵入镀覆槽的技术。镀覆装置(1000)具备迷宫式密封部件(50)，迷宫式密封部件具有：内侧迷宫式密封件(53)，配置于比轴承(33)靠下方的位置，且密封轴承；外侧迷宫式密封件(54)，配置于比内侧迷宫式密封件在旋转轴(32)的径向上靠外侧的位置；排出口(55)，构成为向形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的内侧密封空间(60)供给空气；以及吸收口(56)，构成为对形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠外侧且比外侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的外侧密封空间(65)的空气进行吸收。
镀覆装置

[发明专利]镀覆装置以及冲洗处理方法-CN202180006466.0有效
发明人：辻一仁 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明涉及镀覆装置以及冲洗处理方法。本发明提供一种能够抑制冲洗液大量进入镀覆槽的镀覆液中的技术。镀覆装置(1000)具备能够执行冲洗处理的冲洗模块(40)，冲洗模块具备：冲洗喷嘴(41)，在执行冲洗处理时，朝向被冲洗部件(25)喷出冲洗液；吹气喷嘴(42)，配置于比冲洗喷嘴靠下方的位置，在执行冲洗处理时，以横穿镀覆槽与基板保持件(20)之间的空间的方式吹出气体；以及回收部件(50)，配置于从吹气喷嘴吹出的气体的下游侧，对从被冲洗部件落下而随着从吹气喷嘴吹出的气体的流动的冲洗液进行回收。
镀覆装置以及冲洗处理方法

[发明专利]镀覆装置以及镀覆液的搅拌方法-CN202080027302.1有效
发明人：张绍华;关正也 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C25D17/06 文献下载
摘要：本发明涉及镀覆装置以及镀覆液的搅拌方法。本发明提供一种无需使用搅棒，就能够搅拌镀覆液的技术。镀覆装置(1000)具备保持件盖(50)，该保持件盖(50)配置于基板保持件(30)，并在基板保持件旋转的情况下与基板保持件一起旋转，保持件盖具有浸渍于镀覆液且位于比基板的被镀覆面靠下方的位置的下表面，在保持件盖的下表面设置有沿相对于保持件盖的旋转方向交叉的方向延伸的至少一个盖槽。
镀覆装置以及搅拌方法

[发明专利]镀覆装置以及基板的膜厚测定方法-CN202180003254.7有效
发明人：关正也;富田正辉;张绍华 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-01-20 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C25D17/08 文献下载
摘要：本发明提供能够在镀覆处理时测定基板的膜厚的技术。镀覆装置(1000)具备：镀覆槽(10)；基板保持架(20)；旋转机构(30)；接触部件(50)，配置于基板保持架，并且在基板保持架的周向上配置有多个，与基板的下表面的外周缘接触，在镀覆处理时向基板供电；线圈(60)，构成为通过基于因在镀覆处理时与基板保持架一起旋转的接触部件流动的电流而产生的磁场的电磁感应来产生电流；电流传感器(65)，对在线圈产生的电流进行检测；以及膜厚测定装置(70)，在镀覆处理时，基于电流传感器检测出的电流来对基板的膜厚进行测定。
镀覆装置以及测定方法

[发明专利]镀覆装置、预湿处理方法以及清洗处理方法-CN202080034254.9有效
发明人：张绍华;关正也 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C25D17/06 文献下载
摘要：本发明提供能够实现镀覆装置的小型化的技术。镀覆装置具备喷出模块(50)，喷出模块具备：模块主体(51)，具有将处理液朝向上方喷出的多个喷嘴(52)；和移动机构(60)，具有配置于镀覆槽的旁边并且与模块主体连接的旋转轴(61)，通过旋转轴旋转来使模块主体移动，移动机构使模块主体在第1位置与第2位置之间移动，多个喷嘴配置为在模块主体移动至第2位置的情况下，从多个喷嘴喷出的处理液从基板的下表面的中心部起抵接至外周缘部，模块主体还具备回收部件，上述回收部件构成为对在被从多个喷嘴喷出并与基板的下表面抵接之后落下的处理液进行回收。
镀覆装置处理方法以及清洗

[发明专利]镀覆装置以及镀覆处理方法-CN202080039920.8有效
发明人：张绍华;増田泰之;关正也 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2020-12-08 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C25D21/04 文献下载
摘要：本发明涉及镀覆装置以及镀覆处理方法。本发明提供一种能够抑制因滞留在隔膜的下表面的工艺气体而导致基板的镀覆品质变差的技术。镀覆装置(1000)具备：镀覆槽(10)，在阳极室(13)配置有阳极(11)；和基板保持件(30)，配置于比阳极室靠上方的位置，并保持作为阴极的基板(Wf)，阳极具有沿上下方向延伸的圆筒形状，镀覆装置还具备：气体存积部(60)，以在与阳极之间具有空间，并且覆盖阳极的上端、外周面以及内周面的方式设置于阳极室，存积从阳极产生的工艺气体；和排出机构(70)，使存积于气体存积部的工艺气体排出到镀覆槽的外部。
镀覆装置以及处理方法

[发明专利]预湿模块和预湿方法-CN202180005800.0有效
发明人：关正也 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-05-31 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C25D5/00 文献下载
摘要：提高基板的被处理面的清洗处理和脱气处理的效率。预湿模块(200)具备：工作台(220)，其构成为对使被处理面(WF‑a)向上的基板(WF)的背面进行保持；旋转机构(224)，其构成为使工作台(220)旋转；预湿室(260)，其具备具有与基板(WF)的被处理面(WF‑a)相向的相向面(262a)的盖构件(262)和安装于盖构件(262)的相向面(262a)的外缘部的筒状构件(264)；升降机构(230)，其构成为使预湿室(260)升降；脱气液供给构件(204)，其构成为对形成于预湿室(260)与基板(WF)的被处理面(WF‑a)之间的预湿空间(269)供给脱气液；喷嘴(268)，其安装于盖构件(262)的相向面(262a)；以及清洗液供给构件(202)，其构成为经由喷嘴(268)而对基板(WF)的被处理面(WF‑a)供给清洗液。
模块方法

[发明专利]粉末供给装置及镀覆系统-CN202211510136.8在审
发明人：张绍华;藤方淳平 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2018-12-24 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C25D21/14 文献下载
摘要：本发明提供一种尽可能地防止粉末飞散的粉末供给装置及镀敷系统。提供一种将包含镀覆中使用的金属的粉末向镀覆液供给的粉末供给装置。该粉末供给装置具有：构成为收纳镀覆液的镀覆液箱；用于向镀覆液箱内投入粉末的投入配管；用于供给气体的气体供给管路；和构成为接收来自气体供给管路的气体、并在投入配管的内部生成朝向镀覆液箱的螺旋气流的螺旋气流生成部件。
粉末供给装置镀覆系统

[发明专利]基板保持装置、基板研磨装置、弹性构件以及基板保持装置的制造方法-CN201910420608.2有效
发明人：锅谷治 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2019-05-20 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本发明提供一种基板保持装置、基板研磨装置、弹性构件以及基板保持装置的制造方法。基板保持装置具备：顶环主体；弹性膜，具有第一面和第二面，在第一面与顶环主体之间形成有多个区域，第二面位于与第一面相反的一侧且能保持基板；第一线路，与多个区域中的第一区域连通，能对第一区域进行加压；第二线路，与第一区域连通，能从第一区域排气；测定器，其测定值基于第一区域的流量而变化；第三线路，与第二区域连通且能对第二区域进行减压，第二区域是多个区域中的与第一区域不同的区域；弹性构件，在第一线路与第二线路之间被设置成，在弹性膜的第二面未保持基板时与弹性膜的第一面分离，在弹性膜的第二面保持有基板时与弹性膜的第一面接触。
保持装置研磨弹性构件以及制造方法

[发明专利]研磨装置及研磨方法-CN201910720628.1有效
发明人：陈柏翰;外崎宏;曾根忠一 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2019-08-06 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供一种降低研磨液的使用量的研磨装置及研磨方法。研磨装置使用具有研磨面的研磨垫进行研磨对象物的研磨，具备：研磨台，所述研磨台构成为能够旋转，并用于支承所述研磨垫；基板保持部，所述基板保持部用于保持研磨对象物并将研磨对象物按压于所述研磨垫；供给装置，所述供给装置用于在按压于所述研磨垫的状态下向所述研磨面供给研磨液；以及按压机构，所述按压机构对所述研磨垫按压所述供给装置，所述按压机构能够分别调整将所述供给装置的上游侧及下游侧的侧壁按压于研磨面的力。
研磨装置方法