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[发明专利]研磨装置-CN201811241908.6有效
发明人：小林贤一;中西正行;柏木诚;保科真穗 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供一种在基板的背面朝下的状态下，能够有效地对包含最外部的基板的背面整体进行研磨的研磨装置。研磨装置具有：使晶片(W)旋转的基板保持部(10)；对晶片(W)的背面进行研磨的研磨头(50)；带输送装置(46)；以及使研磨头(50)进行平移旋转运动的平移旋转运动机构(60)。基板保持部(10)具有多个辊(11)。多个辊(11)构成为能够以各辊(11)的轴心为中心旋转，并具有能够与晶片(W)的周缘部接触的基板保持面(11a)。研磨头(50)相比于基板保持面(11a)配置在下方，具有对研磨带(31)进行按压的研磨托板(55)、和将研磨托板(55)向上方抬起的加压机构(52)。
研磨装置

[发明专利]基板清洗装置及基板的清洗方法-CN202111590195.6在审
发明人：及川文利;深谷孝一;马场枝里奈;末政秀一;中野央二郎 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：提供一种基板清洗装置及基板的清洗方法。基板清洗装置具备：旋转机构，该旋转机构使基板旋转；清洗液供给喷嘴，该清洗液供给喷嘴向所述基板的表面喷出施加了超声波振动的清洗液；以及摆动机构，该摆动机构使所述清洗液供给喷嘴从所述基板的旋转中心附近朝向所述基板的外周端在比所述基板的半面窄的范围内摆动。
清洗装置方法

[发明专利]研磨装置及研磨方法-CN202111599867.X在审
发明人：铃木佑多;高桥太郎 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明是研磨装置以及研磨方法，以相较过去更为改善的精度来检测摆动臂摆动时晶片与研磨垫间的摩擦力变化，以提高研磨终点检测的精度。用于在研磨垫(10)与和研磨垫相对配置的半导体晶片之间进行研磨的研磨装置(34)具有：用于保持研磨垫的研磨台(30)；用于保持半导体晶片的顶环(31)；用于保持顶环的摆动臂(110)；及用于摆动摆动臂的摆动轴马达。研磨装置进一步具有：在摆动臂以指定的角度范围摆动时，检测施加于摆动臂的臂转矩(26a)的臂转矩检测部(26)；及依据臂转矩检测部所检测出的臂转矩来检测表示研磨结束的研磨终点的终点检测部(28)。
研磨装置方法

[发明专利]滑动轴承装置及具备该滑动轴承装置的泵-CN201880076405.X有效
发明人：金成夏;杉山宪一;杉山和彦;小宫真;西谷要介 -专利权人： 株式会社荏原制作所;学校法人工学院大学
申请日： 2018-11-26 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： F16C33/20 文献下载
摘要：提供在水泵中所使用的径向轴承用的滑动轴承装置中具备在包含泥沙等异物(泥浆)的水中运转时如以往那样维持耐磨性、并且在空气中滑动的干燥润滑条件下即使是比较高的PV值的范围也以摩擦系数低的状态得以稳定地维持的滑动轴承的滑动轴承装置以及具备该滑动轴承装置的泵。该滑动轴承装置是具备滑动轴承的滑动轴承装置，前述滑动轴承包含芳香族聚醚酮、滑石、碳纤维及不可避免的杂质，前述滑石相对于前述滑动轴承的含有率为7～18质量％，前述滑动轴承的滑动面中的前述碳纤维的面积率为27～35％。
滑动轴承装置具备

[发明专利]处理气体吸入构造及废气处理装置-CN202111436606.6在审
发明人：关根贵史;宫崎一知 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： F04B37/14 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止因温度降低而导致从处理气体产生生成物的处理气体吸入构造及废气处理装置。处理气体吸入构造(100)具备：双层管构造体(101)；以及对双层管构造体(101)进行加热的加热装置(102)。双层管构造体(101)具备：供处理气体流动的处理气体流路部(105)；以及配置于处理气体流路部(105)的外侧的分隔部(106)。
处理气体吸入构造废气装置

[发明专利]镀敷装置及镀敷方法-CN202111455081.0在审
发明人：富田正辉;关正也;下山正;张绍华 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-12-01 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：实现一种能够在所希望的时机将基板的特定的部位遮蔽的镀敷装置。镀敷装置包括：用于收容镀敷液的镀敷槽(410)；配置于镀敷槽(410)内的阳极(430)；用于以将被镀敷面朝向下方的状态保持基板(Wf)的基板保持架(440)；用于使基板保持架(440)旋转的旋转机构(447)；以及与基板保持架(440)的旋转角度相对应地使遮蔽部件(482)向阳极(430)与基板(Wf)之间移动的遮蔽机构(460)。
装置方法

[发明专利]联轴器保护件及机械装置-CN201710576646.8有效
发明人：魏威;川畑润也;中村阳一 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： F16P1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种联轴器保护件及机械装置，联轴器保护件能够容易地调整长度，能够在将原动机的驱动轴与旋转机械的旋转轴连结了的状态下容易地进行安装作业及拆卸作业，而且能够不需要腿部件和专用的制作设备。联轴器保护件(1)具有：能够安装在旋转机械上的罩(11)；安装在罩上的第1保护件(12)；和安装在第1保护件上的第2保护件(14)。罩(11)具备：端板部(19)，其具有能够供旋转轴贯穿的贯穿孔(18)，且具有多边形状；和多个侧板部(20)，其从端板部朝向第1保护件延伸。多个侧板部相互隔开间隔，第1保护件具有固定在侧板部上的第1多棱柱部(30)。第2保护件具有插入了第1多棱柱部的一部分的第2多棱柱部(36)。
联轴器保护机械装置

[发明专利]清洗药液供给装置以及清洗药液供给方法-CN202111421977.7在审
发明人：豊増富士彦;国泽淳次 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-11-26 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： B01F33/80 文献下载
摘要：提供一种清洗药液供给装置及方法。一个清洗装置中，可供给不同药液于基板，且浓度可变。所述装置具有：第一混合器，混合第一药液与稀释水并供给于将调整为所需流量及浓度的第一药液供给于第一位置的第一喷嘴；第二混合器，混合第一药液与稀释水并供给于将为所需流量及浓度的第一药液供给于第二位置的第二喷嘴；第一稀释水控制箱，控制供给第一及第二混合器的稀释水流量；第三混合器，混合第二药液与稀释水并供给于将调整为所需流量及浓度的第二药液供给于第三位置的第三喷嘴；第四混合器，混合第二药液与稀释水并供给于将调整为所需流量及浓度的第二药液供给于第四位置的第四喷嘴；以及第二稀释水控制箱，控制供给第三及第四混合器的稀释水流量。
清洗药液供给装置以及方法

[发明专利]基板处理装置、存储介质及基板研磨的响应特性的获取方法-CN201811433092.7有效
发明人：渡边夕贵;八木圭太 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2018-11-28 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置、存储介质、及基板研磨的响应特性的获取方法，能够通过简便的方法更准确地得到晶片等基板研磨的响应特性。基板处理装置具备：研磨头，该研磨头形成用于将晶片(W)按压于研磨垫(42)的多个压力室(D1～D5)；压力控制部，该压力控制部用于对该多个压力室的内部的力进行彼此独立的控制，从而进行压力反馈控制；膜厚测定部，该膜厚测定部测定研磨中的晶片的膜厚分布；存储部，该膜厚测定部存储多个压力室中的设定压力的信息；及响应特性获取部，在晶片的研磨中每当满足规定条件时，该响应特性获取部变更设定压力并测定对于晶片的研磨率，基于得到的多个研磨率获取基板研磨对于压力反馈的响应特性。
处理装置存储介质研磨响应特性获取方法

[发明专利]研磨方法、工件的研磨监视方法及研磨监视装置-CN202111375685.4在审
发明人：渡边夕贵;盐川阳一;广尾康正 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-11-19 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：提供一种能够不受噪声的影响地确定正确的研磨对象层的厚度的研磨方法、工件的研磨监视方法及研磨监视装置。本方法是用于研磨工件(W)的研磨对象层的研磨方法，使支承研磨垫(2)的研磨台(3)旋转，将工件(W)按压于研磨垫(2)而对研磨对象层进行研磨，向工件(W)照射光，接收来自工件(W)的反射光，根据每个波长测定反射光的强度，生成表示强度与反射光的波长的关系的分光波形，对分光波形进行傅里叶变换处理，从而生成频率光谱，使频率光谱的波峰搜索范围根据研磨时间进行移动，确定在波峰搜索范围内的频率光谱的波峰，从而确定与所确定的波峰对应的所述研磨对象层的厚度。
研磨方法工件监视装置

[发明专利]涡电流传感器及研磨装置-CN202111413479.8在审
发明人：山田洋人;高桥太郎;涩江宏明 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本发明提供一种对周围环境的变化与过去相比更不易受到影响的涡电流传感器及研磨装置。用于检测可生成于晶片的涡电流的涡电流传感器(50)具有作为磁性体的磁芯(136)。磁芯(136)具有：基部(120)；在基部(120)的第一方向(122)的中央且设于基部(120)的中央壁(144)；及在基部120的第一方向(122)的两端部，分别设于基部(120)的端部壁(134)。涡电流传感器(50)具有：配置于端部壁(134)，且可在晶片上生成涡电流的励磁线圈(62)；及配置于中央壁(144)，且用于检测涡电流的检测线圈(63)。
电流传感器研磨装置

[发明专利]镀覆装置以及镀覆装置的接触部件清洗方法-CN202180005685.7在审
发明人：关正也;富田正辉;张绍华 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-03-17 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明涉及镀覆装置以及镀覆装置的接触部件清洗方法。本发明提供一种能够通过简单的构造来清洗接触部件的技术。镀覆装置(1000)具备镀覆槽、基板保持件(20)、旋转机构、升降机构、接触部件(40)、以及清洗接触部件(40)的清洗装置(50)，清洗装置(50)具有回转轴(51)、第一臂(53)、第二臂(54)、以及具有至少一个喷出口的喷嘴(55)，上述清洗装置(50)构成为通过从喷出口喷出的清洗流体碰触接触部件(40)来清洗接触部件(40)。
镀覆装置以及接触部件清洗方法

[发明专利]搬送异常预测系统-CN202080069453.3在审
发明人：中村显 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：搬送异常预测系统具备推定部，该推定部具有完成学习模型，该完成学习模型对包含从设于基板搬送部的多个传感器分别在过去的基板搬送时所输出的传感器数据的数据集与该基板搬送时的搬送异常度的关系性进行了机器学习，该推定部将包含从所述多个传感器分别在新的基板搬送时所输出的传感器数据的数据集作为输入，推定该新的基板搬送时的搬送异常度并输出。
异常预测系统

[发明专利]光束弯折器-CN201910496639.6有效
发明人：村上武司 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2019-06-10 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H01J37/26 文献下载
摘要：本发明提供一种光束弯折器，能够提高由光束弯折器弯曲后的电子射线的集束性。在沿着通过光束弯折器(12)的内侧曲面(17)与外侧曲面(19)之间的电子射线的行进方向的第一剖面中，设定成内侧曲面的曲率和外侧曲面的曲率分别恒定，内侧曲面的曲率中心与外侧曲面的曲率中心一致。在与电子射线的行进方向垂直的第二剖面中，设定成内侧曲面的曲率和外侧曲面的曲率分别恒定，内侧曲面的曲率中心与外侧曲面的曲率中心一致。第二剖面中的内侧曲面的曲率半径被设定得比第一剖面中的内侧曲面的曲率半径大，第二剖面中的外侧曲面的曲率半径被设定得比第一剖面中的外侧曲面的曲率半径大。
光束弯折器

[发明专利]气体溶解液制造装置-CN201910133203.0有效
发明人：中川洋一 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2019-02-22 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： B01F23/23 文献下载
摘要：本发明提供一种气体溶解液制造装置，能够提高气体溶解效率，并且能够提高气体溶解液的浓度的稳定性。气体溶解液制造装置(臭氧水制造装置(1))具备：供给臭氧气体的臭氧气体供给部(2)；供给纯水的纯水供给部(3)；以及臭氧水生成部(4)，该臭氧水生成部使臭氧气体溶解于供给的纯水并生成臭氧水。臭氧水生成部(4)具备：第一喷嘴(10)，该第一喷嘴具有第一最佳流量；第二喷嘴(11)，该第二喷嘴具有与第一最佳流量不同的第二最佳流量；流量检测部(15)，该流量检测部对供给的纯水的流量进行检测；以及控制部(16)，该控制部基于在流量检测部检测的纯水的流量，对将供给的气体向第一喷嘴和第二喷嘴的哪一个供给进行控制。
气体溶解制造装置