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[发明专利]加工面判定装置、加工面判定程序、加工面判定方法、以及加工系统-CN202180071197.6在审
发明人：内村知行;坂井智哉;织田健太郎 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-07-13 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：加工面判定装置(7)具备：图像获取部(70)，其获取具有拍摄到判定对象物的加工面的规定的判定用图像区域的判定用图像(42)；推论部(71)，其将通过将判定用图像区域划分为小图像区域从判定用图像(42)生成的多个小图像(43)的每一个输入至学习模型(2)，由此以小图像为单位推论针对多个小图像(43)的分类结果，其中，学习模型(2)机器学习了具有与小图像区域相当的学习用图像区域的学习用图像与将包含在该学习用图像内的加工面的状态分类为多个加工状态的某一个的分类结果之间的相关关系；分类结果处理部(73)，其通过对以小图像为单位推论的针对多个小图像(43)的分类结果进行处理而求出处理结果；以及判定部(75)，其基于处理结果判定加工面的状态。
加工判定装置程序方法以及系统

[发明专利]缓冲室及具备缓冲室的AM系统-CN202180070756.1在审
发明人：篠崎弘行;浅井润树;向山佳孝 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B33Y10/00 文献下载
摘要：在AM系统中，构建粉末材料等微粒不会从能够存在微粒的区域飞散到其他区域的环境。根据一个实施方式，提供一种用于制造造型物的AM系统，该AM系统具有：造型室，该造型室配置有AM装置；以及缓冲室，该缓冲室与所述造型室相连，所述缓冲室具有：入口，该入口与周围环境相连；出口，该出口与所述造型室相连；格栅地板；以及排气口，所述AM系统具有：第一门，该第一门能够对所述缓冲室的所述入口进行开闭；以及第二门，该第二门能够对所述缓冲室的所述出口进行开闭。
缓冲具备 am 系统

[发明专利]镀覆装置及触点清洗方法-CN202180040817.X在审
发明人：山本健太郎;富田正辉;辻一仁 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-11-04 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C25D21/08 文献下载
摘要：镀覆模块包括：镀覆槽，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板；旋转机构，构成为使基板保持器旋转；触点部件(494‑4)，具有与保持于基板保持器的基板的被镀覆面的外周部接触的基板接点(494‑4a)、及比基板接点(494‑4a)向上方延伸的主体部(494‑4b)，该触点部件安装于基板保持器；以及触点清洗部件(482)，用于从基板保持器的下方朝向触点部件(494‑4)的主体部(494‑4b)排出清洗液。
镀覆装置触点清洗方法

[发明专利]镀覆装置-CN202211411683.0在审
发明人：石井翼;下山正;大渊真志;增谷浩一 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2022-11-11 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明提供镀覆装置，能够实现形成于基板的镀膜的均匀性的提高。镀覆装置具备：镀覆槽、用于保持基板的基板支架以及以与被上述基板支架保持的基板对置的方式配置于上述镀覆槽内的阳极。另外，镀覆装置具备：导管，该导管具有配置于被上述基板支架保持的基板与上述阳极之间的区域的包含开口端的第一部分、和远离被上述基板支架保持的基板与上述阳极之间的区域的第二部分，该导管的至少一部分被镀覆液填满；以及电位传感器，该电位传感器配置于上述导管的上述第二部分，构成为对镀覆液的电位进行测量。
镀覆装置

[发明专利]镀覆装置-CN202180013895.0有效
发明人：中滨重之;长井瑞树 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够实现基板的膜厚的面内均匀性的技术。本发明的镀覆装置(1)具备辅助阳极(60a、60b、60c、60d)，辅助阳极的延伸方向的端部附近区域被具有大于零的电导率并且具有比镀覆液的电导率低的电导率的电阻器(65)包覆，辅助阳极的比端部附近区域靠中央侧的区域未被电阻器包覆而露出辅助阳极的表面。
镀覆装置

[发明专利]温度调节装置及研磨装置-CN201911191166.5有效
发明人：本岛靖之 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2019-11-28 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：本发明为温度调节装置及研磨装置，课题在于改善研磨装置中的研磨的面内均匀性。本发明提供一种温度调节装置，用于对旋转的研磨垫的温度进行调节，所述温度调节装置具备：传热体，该传热体能够与所述研磨垫的上表面接触；臂，该臂用于将所述传热体保持在所述研磨垫上；上游侧柱部件及下游侧柱部件，该上游侧柱部件及下游侧柱部件是竖立设置于所述传热体的上表面的柱部件，分别配置于成为所述研磨垫的旋转的上游侧的位置和成为所述研磨垫的旋转的下游侧的位置；以及伸出部件，该伸出部件从所述上游侧柱部件及下游侧柱部件沿与所述传热体的上表面平行的方向伸出，所述伸出部件能够与所述臂的上表面接触。
温度调节装置研磨

[发明专利]真空泵装置及其运转方法-CN202211611161.5在审
发明人：长山真己;荒井秀夫 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2022-12-14 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： F04D17/10 文献下载
摘要：本发明提供一种下述的真空泵装置及其运转方法：能够减少由工艺气体引起的副产物在泵室内的堆积，防止真空泵装置的意外停止，而且能够可靠地进行真空泵装置的再起动。真空泵装置具备：泵壳体(2)，该泵壳体在内部具有泵室(1)；泵转子(5E)，该泵转子配置在泵室(1)内；旋转轴(7)，在该旋转轴固定有泵转子(5E)；轴承(17)，该轴承将旋转轴(7)支承为能够旋转；侧盖(10A)，该侧盖与泵壳体(2)连接；加热器(35)，该加热器安装于侧盖(10A)；以及加热器控制部(40)，该加热器控制部在泵转子(5E)正在旋转时使加热器(35)间歇性地发热，轴承(17)与侧盖(10A)连结。
真空泵装置及其运转方法

[发明专利]熔盐用滑动轴承装置、泵、及使泵运转的方法-CN202211644030.7在审
发明人：山本凉太郎;金成夏;桥元洋人;飞浮珠·舞螺磨值;藤泽宏行;安岛高博;稻垣正生 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2022-12-15 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： F04D29/046 文献下载
摘要：本申请涉及熔盐用滑动轴承装置、泵、及使泵运转的方法。本申请提供在熔盐环境中的耐磨损性及耐腐蚀性优异的熔盐用滑动轴承装置、具备该熔盐用滑动轴承装置的泵、及使该泵运转的方法。熔盐用滑动轴承装置，前述熔盐用滑动轴承装置具备：滑动轴承；及与前述滑动轴承一起滑动的套筒，前述滑动轴承的滑动面及前述套筒的滑动面的维氏硬度为330以上，前述滑动轴承的滑动面及前述套筒的滑动面是由选自由镍基合金、钴基合金、镍基金属间化合物、Al2O3、以及包含97mol％ZrO2及3mol％Y2O3的ZrO2‑Y2O3复合陶瓷组成的组中的至少1种所形成的。
熔盐用滑动轴承装置运转方法

[发明专利]用于面朝上式的研磨装置的研磨头、具备该研磨头的研磨装置及使用该研磨装置的研磨方法-CN201910007722.2有效
发明人：小林贤一;户川哲二 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2019-01-04 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供了用于面朝上式的研磨装置的研磨头、具备该研磨头的研磨装置及使用了该研磨装置的研磨方法。在面朝上式的研磨装置中，不经由旋转接头就供给研磨液。作为一实施方式，本申请公开了一种研磨头，该研磨头在下表面安装研磨垫来使用，该研磨头用于面朝上式的研磨装置，该研磨头具备：液体贮存部，该液体贮存部设于研磨头的旋转轴的周围，且用于接收液体；及液体排出口，该液体排出口设于研磨头的下表面，且用于排出由液体贮存部接收到的液体，在研磨头的上部形成有以研磨头的旋转轴为中心的环状的开口，液体贮存部经由开口而研磨头的外部的空间连通。
用于朝上研磨装置具备使用方法

[发明专利]研磨装置及研磨方法-CN201911309643.3有效
发明人：富樫真吾;福岛诚;並木计介;锅谷治;山木晓;大和田朋子;加藤良和 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2019-12-18 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供一可精确控制基板的周缘部的研磨轮廓的研磨装置及研磨方法。研磨装置(1)具备：用于支承具有研磨面(2a)的研磨垫(2)的研磨台(3)；具有按压面(45a)的可旋转的头主体(11)；与头主体(2a)一起旋转同时用以压靠研磨面的挡圈(20)；旋转环(51)；固定环(91)；及用于向固定环(91)施加局部载荷的多个局部载荷施加装置(30A、30B)。局部载荷施加装置(30A、30B)包含连接至固定环(91)的第一按压构件(31A)和第二按压构件(31B)。第一按压构件(31A)配置于研磨面的行进方向上的挡圈的上游侧，第二按压构件(31B)配置于研磨面的行进方向上的挡圈的下游侧。
研磨装置方法

[发明专利]镀覆装置-CN202180015247.9有效
发明人：下山正;増田泰之;辻一仁;樋渡良辅 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2021-06-04 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： C25D21/12 文献下载
摘要：本发明提供能够提高形成于基板的镀覆膜的均匀性的镀覆装置。镀覆装置具备：镀覆槽；基板保持架，其用于保持基板；阳极，其以与被上述基板保持架保持的基板对置的方式配置于上述镀覆槽内；以及膜厚测量模块，其具有用于检测与形成于上述基板的被镀覆面的镀覆膜有关的参数的传感器，在镀覆处理过程中，基于上述传感器的检测值对上述镀覆膜的膜厚进行测量。
镀覆装置

[发明专利]检查方法、检查装置以及具备该检查装置的电镀装置-CN201910343590.0有效
发明人：富田正辉 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2019-04-26 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： C25D21/12 文献下载
摘要：本发明提供一种即使是少量的液体也能够检测的基板支架的检查装置。提供一种基板支架的检查方法，上述基板支架具有：第一部件和第二部件，夹住基板对其进行保持；电接点，构成为与上述基板的被处理面接触；以及密封部件，以使液体不与上述电接点接触的方式与上述基板的上述被处理面接触，上述第一部件具有通过上述密封部件防止上述液体的浸入的表面区域，上述第二部件具有上述密封部件。该检查方法具有：通过基板支架开闭装置的保持部保持上述第二部件，将上述第二部件从上述第一部件取下的工序；以及通过位于上述第一部件和上述第二部件的上方的检测装置，检测在上述第一部件的上述表面区域附着有液体的检测工序。
检查方法装置以及具备电镀

[发明专利]基板清洗装置以及基板研磨装置-CN202211555298.3在审
发明人：马场枝里奈;深谷孝一;武渕健一;斎藤贤一郎 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本发明提供一种基板清洗装置及基板研磨装置，效率良好地去除在研磨处理后的基板、膜片以及固定环上附着的颗粒。基板清洗装置被设于包括研磨平台及顶环的基板研磨装置，对研磨后的基板的表面进行清洗，研磨平台具有进行基板研磨的研磨面，顶环一边利用固定环来围绕基板的外周部，一边利用膜片来保持基板。顶环于在研磨平台的上方进行基板研磨的研磨位置、与在研磨平台的侧方进行基板的交接的交接位置之间移动自如。基板清洗装置是对应于研磨位置以及交接位置之间的清洗位置而设，且包括：第一喷射单元，包含对位于清洗位置的基板、膜片以及固定环喷射清洗液的多个清洗喷嘴；以及第二喷射单元，包含对位于清洗位置的基板喷射冲洗液的基板冲洗喷嘴。
清洗装置以及研磨

[发明专利]镀覆装置、以及镀覆处理方法-CN202080027298.9有效
发明人：富田正辉;增田泰之 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C25D17/06 文献下载
摘要：本发明容易地进行基板支架的位置调整。镀覆模块(400)包含：镀覆槽(410)，用于收容镀覆液；基板支架(440)，用于以使被镀覆面(Wf－a)朝向收容于镀覆槽(410)的镀覆液的状态保持基板(Wf)；升降机构(480)，用于使基板支架(440)升降；以及移动机构(490)，用于使基板支架(440)向与基板支架(440)的升降方向正交的方向移动。
镀覆装置以及处理方法

[发明专利]基板处理装置、基板处理装置的控制装置、基板处理装置的控制方法、储存程序的存储介质-CN202211571161.7在审
发明人：加贺谷俊介 -专利权人： 株式会社荏原制作所
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置、基板处理装置的控制装置、基板处理装置的控制方法、储存程序的存储介质。本发明的课题在于，在基板处理装置中灵活且迅速地节约处理液。一种基板处理装置，其构成为在基板处理装置的生产率成为最大的通常模式与在至少一个处理槽中节约处理液的处理液节约模式之间切换输送时间表，基于对上述基板处理装置整体的处理速度进行限速的限速部分，判定是否是基板处理装置中的需要生产量较少的空闲期，在判定为基板处理装置处于空闲期时，将输送时间表设定为处理液节约模式，在判定为基板处理装置不处于空闲期时，将输送时间表设定为通常模式。
处理装置控制方法储存程序存储介质