专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种装置-CN202021986258.0有效
  • 张昊;白龙 - 北京华卓精科科技股份有限公司
  • 2020-09-11 - 2021-04-06 - H01L21/67
  • 本实用新型提供一种装置和方法,装置包括上晶圆装载组件、下晶圆装载组件和装载本体;上晶圆装载组件包括夹紧环和夹紧控制机构,夹紧环为开口环且用于夹持上晶圆,夹紧控制机构用于控制夹紧环的开口度以实现对上晶圆夹紧程度的控制采用本实用新型装置,可以减少甚至消除因夹持上晶圆过松而脱落或过紧而夹碎的情况的发生,从而顺利完成上晶圆与下晶圆的工艺。
  • 一种解键合装置
  • [发明专利]一种可适用于多尺寸晶圆的设备-CN202211121444.1在审
  • 邱新智 - 苏州芯睿科技有限公司
  • 2022-09-15 - 2023-01-06 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种可适用于多尺寸晶圆的设备,包括底座,所述底座的顶部固定安装有支撑架,所述支撑架的顶部固定安装有分离箱,所述支撑架的顶部设置有按压机构,所述按压机构的输出端固定安装有夹板,所述夹板的底部开设有凹槽通过第一进液管和第二进液管便于向分离箱内通入胶溶解剂或净水,从而对尺寸较大的晶圆进行,并在结束后进行清洗,通过加热板对分离箱进行加热,使得分离箱内部净水升温,对载片与晶圆的连接处传递热量,从而对尺寸较小的晶圆进行,避免加热时间过长影响晶圆间的
  • 一种适用于尺寸解键合设备
  • [发明专利]一种晶圆背面激光切割方法及晶圆-CN202310011048.1有效
  • 唐义洲 - 成都功成半导体有限公司
  • 2023-01-05 - 2023-07-25 - B23K26/38
  • 本发明公开了一种晶圆背面激光切割方法及晶圆,属于半导体加工技术领域,包括以下步骤:对载片和/或晶圆进行热氧生长;对载片、晶圆进行处理、退火处理,得到片;对片进行背面金属沉积得到金属层,并进行激光退火;对片进行背面激光划片处理;对片进行处理。采用生长有热氧的载片和/或晶圆进行合并退火形成永久,进行激光划片处理等操作时晶圆均处于状态,且后无需在晶圆上进行工艺制程,避免了激光划片等对晶圆正面的影响,保证了晶圆的洁净度,进而保证了工艺良率;同时,相较于减薄后的单片晶圆,与载片的晶圆具有更强的机械强度,避免了碎片风险。
  • 一种背面激光切割方法
  • [发明专利]晶圆的方法-CN202010511286.5在审
  • 刘效岩;张凇铭;王建 - 北京华卓精科科技股份有限公司
  • 2020-06-08 - 2020-09-15 - H01L21/18
  • 本发明公开了一种晶圆的方法,属于集成电路芯片制造领域。该方法在集成电路芯片制造厂依次进行清洗工艺和烘烤工艺;通过晶圆设备进行如下键工艺:机械手传送区将晶圆从晶圆存取区取出;晶圆ID阅读器和晶圆预对准器读取晶圆ID并预对准晶圆;对准预单元对晶圆进行对准和预;视觉检测区检测预后的晶圆对是否存在缺陷,若存在,则单元对晶圆对进行后将晶圆放到晶圆存取区;否则,直接将晶圆对放到晶圆存取区。工艺中,通过机械手传送区和/或后置机械手对晶圆和晶圆对进行传输。本发明优化了晶圆的方法,提高了工艺的产能,晶圆设备结构紧凑、占地面积小、成本低。
  • 晶圆键合方法
  • [发明专利]用于晶圆和解的装置及晶圆和解方法-CN202011618307.X有效
  • 袁晓春;张振敏;周丹 - 北京中电科电子装备有限公司
  • 2020-12-31 - 2023-06-20 - H01L21/67
  • 本发明提供了一种用于晶圆和解的装置及晶圆和解方法,涉及半导体封装技术领域。该装置,包括:平台和位于平台上的工作台;移动结构,通过移动结构,工作台在平台上能够在第一位置与第二位置之间移动;真空吸附结构,用于吸附设置于工作台上的待载片或待晶圆;滴胶结构,用于向待载片滴入胶;吸盘结构,用于吸附待晶圆;驱动结构,用于驱动工作台在第一位置转动;侧向推动结构,用于推动工作台横移预设距离。通过驱动结构驱动工作台旋转,并在旋转过程中滴入胶,可以使胶更加均匀,通过侧向推动结构推动工作台横移,减小晶圆与工作台上载片的接触面积,更易于,减少解过程中的碎片概率。
  • 用于晶圆键合和解装置方法
  • [实用新型]一种晶圆的设备-CN201620364897.0有效
  • 唐昊 - 浙江中纳晶微电子科技有限公司
  • 2016-04-26 - 2016-08-31 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种晶圆的设备,它包括用于放置后晶圆和载片的台面;以及一刀具,所述刀具通过一调节机构安装于近台面所在位置,调节机构控制刀具做远离或靠近台面的运动,刀具上设有刀头,用于在后晶圆和载片的结合处的膜或胶上刺出一缺口,其特征在于:它还包括用于带动台面周向转动的驱动器,当刀头刺入后晶圆和载片的结合处的膜或胶上时刀头沿切线方向剪切随台面转动的晶圆和载片的结合处;刀具上设有至少一个气嘴,当刀头刺入后晶圆和载片的结合处时气嘴指向结合处的缺口本实用新型提供一种晶圆的设备,其自动化程度高、操作简便,且能对较大直径晶圆进行
  • 一种解键合设备
  • [发明专利]芯片方法-CN202011473320.0在审
  • 郭万里;刘天建 - 武汉新芯集成电路制造有限公司
  • 2020-12-10 - 2022-06-14 - H01L21/18
  • 本发明提供了一种芯片方法,通过在器件晶圆的正面临时第一载片晶圆,可以在器件晶圆的背面形成背连线结构,以将器件晶圆中的互连结构从器件晶圆的背部引出,通过在器件晶圆的背面第二载片晶圆,可以将第一载片晶圆,在将器件晶圆与第二载片晶圆后先保留第二胶,第二胶可以在后续对器件晶圆进行划片时保护器件晶圆的背面,防止划片过程中产生的颗粒物或刻蚀副产物附着在器件晶圆的背面上,后续去除第二胶时可同步去除第二胶上的颗粒物或刻蚀副产物,保证了划片后产生的单个芯片的背面的洁净度,可提高将芯片的背面至目标晶圆上的效果。
  • 芯片方法

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