专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果1202714个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]新型衬底装置-CN201620505844.6有效
  • 王云翔 - 苏州美图半导体技术有限公司
  • 2016-05-30 - 2016-12-07 - B32B38/10
  • 本实用新型涉及到微纳米技术领域,尤其涉及新型衬底装置。该新型衬底装置,包括底板、前限位挡块、后限位挡块、导轨、滑动装置、上盘定位盘、气缸、上加热盘和立柱。本实用新型所涉及的新型衬底装置能够将合在一起的两块衬底分离开来,弹簧和多个真空吸孔使得合在一起的上下两块衬底吸附更加稳定,并且不会对衬底本身造成损坏。此外,该新型衬底装置结构设计合理,对衬底的分离安全高效,适合推广使用。
  • 新型衬底解键合装置
  • [实用新型]一种装置-CN201620348189.8有效
  • 刘伟;余斌 - 上海微电子装备有限公司
  • 2016-04-22 - 2016-11-23 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种装置,包括:底座,所述底座上安装有直线导轨;支撑梁,滑动式设置在所述直线导轨上,且与所述直线导轨垂直;上片盘组件,滑动式架设在所述支撑梁上,用于吸附待片或后的载片;上吸盘组件,设于所述上片盘组件上方,用于从所述上片盘组件上吸附所述片或将所述载片放置在所述上片盘组件上;下吸盘组件,与所述上吸盘组件相对设置,用于吸附所述片的下表面;取片组件,滑动式悬挂在所述支撑梁上,用于从所述下吸盘组件上吸附后的基底。
  • 一种解键合装置
  • [实用新型]一种新型衬底装置-CN201620038288.6有效
  • 王云翔 - 苏州美图半导体技术有限公司
  • 2016-01-15 - 2016-07-13 - B32B38/10
  • 本实用新型涉及到微纳米技术领域,尤其涉及一种新型衬底装置。该新型衬底装置,包括底板、前限位挡块、后限位挡块、导轨、拉手、气缸和立柱,所述前限位挡块和后限位挡块固定在底板上。本实用新型所涉及的一种新型衬底装置能够将合在一起的两块衬底分离开来,并且不会对衬底本身造成损坏。此外,该新型衬底装置结构设计合理,对衬底的分离安全高效,适合推广使用。
  • 一种新型衬底解键合装置
  • [发明专利]低温晶圆直接机台和晶圆方法-CN201910405744.4有效
  • 周华 - 芯盟科技有限公司
  • 2019-05-16 - 2021-03-09 - H01L21/67
  • 一种低温晶圆机台和晶圆方法,其中所述低温晶圆机台包括表面处理单元,用于对待晶圆的表面进行活化处理;预单元,用于将经过活化处理后的一片待晶圆与经过活化处理后的另外至少一片待晶圆或者与未经过活化处理的另外至少一片待晶圆贴合,形成预晶圆对;缺失检测单元,用于检测所述预晶圆对是否存在缺失;单元,用于将所述存在缺失的预晶圆对分离。本发明的低温晶圆机台的的成功率提升。
  • 低温直接机台晶圆键合方法
  • [发明专利]一种晶圆设备-CN202110281462.5在审
  • 沈达;薛亚玲;蒋人杰 - 吾拾微电子(苏州)有限公司
  • 2021-03-16 - 2021-06-01 - H01L21/67
  • 本发明公开一种晶圆设备,包括电气控制柜、工控机、操作面板、作业平台、丝杆滑台、上料台、机构以及负压加载机构,所述电气控制柜内置工控机、操作面板和作业平台,所述操作面板电性连接工控机,所述作业平台上设置有与工控机电性连接的丝杆滑台,所述丝杆滑台上沿线径设置有分别与工控机电性连接的上料台和解机构,所述丝杆滑台尾部上方架设有电性连接工控机的负压加载机构。通过上述方式,本发明提供一种晶圆设备,通过机构与上料台、负压加载机构的协同匹配,建立零压加持环境来杜绝晶圆与设备间的摩擦、接触、受力,从而极大降低废片率,显著增加易耗件使用寿命。
  • 一种晶圆解键合设备
  • [实用新型]一种晶圆设备-CN202120542051.2有效
  • 沈达;薛亚玲;蒋人杰 - 吾拾微电子(苏州)有限公司
  • 2021-03-16 - 2022-05-10 - H01L21/67
  • 本实用新型公开一种晶圆设备,包括电气控制柜、工控机、操作面板、作业平台、丝杆滑台、上料台、机构以及负压加载机构,所述电气控制柜内置工控机、操作面板和作业平台,所述操作面板电性连接工控机,所述作业平台上设置有与工控机电性连接的丝杆滑台,所述丝杆滑台上沿线径设置有分别与工控机电性连接的上料台和解机构,所述丝杆滑台尾部上方架设有电性连接工控机的负压加载机构。通过上述方式,本实用新型提供一种晶圆设备,通过机构与上料台、负压加载机构的协同匹配,建立零压加持环境来杜绝晶圆与设备间的摩擦、接触、受力,从而极大降低废片率,显著增加易耗件使用寿命。
  • 一种晶圆解键合设备
  • [发明专利]一种激光解装置-CN202111035726.5在审
  • 侯煜;张紫辰;李纪东;张昆鹏;张喆;张彪;易飞跃;杨顺凯;李曼 - 北京中科镭特电子有限公司
  • 2021-09-03 - 2021-12-24 - H01L21/67
  • 本发明提供了一种激光解装置,该激光解装置包括载物台,用于将待件保持在其上,待件包括第一层结构、以及通过层粘接的第二层结构。还包括吸盘和激光系统。吸盘吸附在第二层结构表面。激光系统用于产生依次透过吸盘及第二层结构后聚焦在层的激光束,并控制激光束的焦点在层扫描,以对层进行。还包括与吸盘连接的拉伸机构,该拉伸机构用于在激光束扫描层的部分区域后,向上拉吸盘,以使第一层结构和第二层结构在和该部分区域重合的位置处分离。以采用边激光解,边拉吸盘进行分离的剥离方式,防止两个层结构之间由于熔融状态的材料再次冷却凝固而使两个层结构再次粘连,降低剥离难度。
  • 一种激光解键合装置
  • [发明专利]硅基板上解SiC片方法-CN202111119932.4在审
  • 严立巍;符德荣;李景贤 - 浙江同芯祺科技有限公司
  • 2021-09-24 - 2022-01-18 - H01L21/78
  • 本发明提出了一种硅基板上解SiC片方法。包括:S100:将有多片SiC片的硅基板翻转,使SiC片朝向石墨托盘并嵌入石墨托盘;S200:向硅基板喷洒蚀刻液,使多片SiC片与硅基板;S300:移除后的硅基板,并使多片SiC留置于石墨托盘根据本发明提出的的硅基板上解SiC片方法,通过将SiC片对准并嵌入石墨盘,利用石墨盘耐高温的性质,便于后续对SiC片进行高温退火等工艺,另外,通过蚀刻液以化学蚀刻的方式进行,避免了对SiC片的表面损伤
  • 硅基板上解键合sic方法
  • [实用新型]晶圆设备-CN202222073981.5有效
  • 任凯;何雅彬 - 上海博纳微电子设备有限公司
  • 2022-08-08 - 2022-12-20 - H01L21/67
  • 本实用新型属于晶圆技术领域,尤其是晶圆设备,针对现有的技术中存在晶圆合时,便需要使用晶圆设备,因此还存在晶圆在合时,晶圆通常是放置在工作台上,导致在合时晶圆容易受到外力晃动或震动导致偏移电动吸盘、激光器与电动伸缩杆,所述放置台固定连接在外壳的底部内壁,所述电机固定连接在外壳的底部内壁,电机输出轴的左侧固定连接有螺纹柱,通过电动伸缩杆与固定机构和升降机构的配合,实现了将晶圆固定住,防止对晶圆合时
  • 晶圆解键合设备

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top