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[发明专利]掩模版移动装置、光刻机及光刻方法-CN201810145886.7在审
发明人：丁功明 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-02-12 - 公布日： 2019-08-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种掩模版移动装置、光刻机及光刻方法。该掩模版移动装置包括：加热模块；所述加热模块包括掩模支架和加热单元；所述掩模支架内设置有掩模版设置区；所述加热单元固定于所述掩模支架上，所述加热单元包括第一加热面，所述第一加热面与所述掩模版设置区对应。本发明提供的掩模版移动装置，可以解决现有技术中，在光刻过程中，因掩模版受热膨胀后会产生弯曲，进而造成受热膨胀后掩模版上的图形偏离最佳的物面位置，致使出现物像距误差的问题，达到了提高掩模版定位的正确率，进而提高半导体集成电路的制作良率的目的
掩模版移动装置加热单元掩模支架加热模块受热膨胀光刻机加热面设置区光刻半导体集成电路光刻过程图形偏离物面位置物像距正确率良率制作

[发明专利]用于定义光刻图形侧壁形貌的光刻工艺方法-CN201910742905.9在审
发明人：王辉 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2019-08-13 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于定义光刻图形侧壁形貌的光刻工艺方法，包括：步骤一、进行掩模版设计，在掩模版上形成有掩模版图形，掩模版图形用于定义光刻图形；光刻图形具有侧壁，在掩模版图形上设置有定义光刻图形的侧壁形貌的掩模版侧面图形结构，掩模版侧面图形结构具有使曝光光强逐渐变化的结构；步骤二、在需要曝光的基底上涂布光刻胶；步骤三、采用掩模版对光刻胶进行曝光，进行显影形成光刻图形，在曝光过程中，掩模版侧面图形结构通过使曝光光强逐渐变化来定义光刻图形的侧壁形貌
光刻图形掩模版侧壁形貌掩模版图形图形结构侧面逐渐变化曝光光侧壁掩模版设计光刻工艺曝光过程曝光光刻胶后烘基底显影

[发明专利]曝光方法、掩模版和掩模版设计方法-CN200810117725.3有效
发明人：黄旭鑫 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2008-08-04 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：可在利用现有掩模版的前提下减小曝光偏差。本发明还提供了一种掩模版，和一种掩模版设计方法，利用所述掩模版执行曝光操作时，可减小曝光偏差。
曝光方法模版设计

[发明专利]掩模版清洗设备和掩模版清洗方法-CN202210414657.7在审
发明人：吕龙 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2022-04-15 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本申请提供一种掩模版清洗设备和掩模版清洗方法；该掩模版清洗设备通过设置温控单元，且在掩模版设置于温控单元内时，温控单元的温度大于有机物的分解温度，则可以通过温控单元对有机物进行分解，使有机物碳化、汽化、分解为小分子，则可以初步去除掩模版上的有机物，然后通过清洗掩模版上的残留物，并对掩模版进行干燥，完成对掩模版的清洁，该过程无需引入NMP等化学物质，提高了安全性，且该过程无需特定空间，提高掩模版清洁的效率
模版清洗设备方法

[实用新型]一种张网装置-CN201720578738.5有效
发明人：郭登俊;靳福江;张健;孙朴;张德 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-05-23 - 公布日： 2017-12-05 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种张网装置，用于安装蒸镀设备中的辅助掩模版，所述蒸镀设备包括中部具有开口区域的边框；具有掩模图案的蒸镀掩模版，设置在所述边框的开口区域；用于辅助所述蒸镀掩模版的张网，所述辅助掩模版设置在所述边框的开口区域，并位于所述蒸镀掩模版与所述边框之间；所述张网装置包括用于设置在所述边框外侧，在安装辅助掩模版时，对待安装辅助掩模版与所述边框进行对位的对位机构。本实用新型所提供的张网装置，通过设置对位机构，能够在安装或修复辅助掩模版时，将辅助掩模版与边框进行初步对位，以将待安装的辅助掩模版准确地放到边框上，便于辅助掩模版的安装定位，便于操作。
一种装置

[实用新型]一种上转换荧光防伪标签的连续制备系统-CN201920853635.4有效
发明人：李岳彬;王成;柳维端;赵倩茹;黄浩;胡永明;顾豪爽 -专利权人：湖北大学
申请日： 2019-06-06 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： C25D19/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种上转换荧光防伪标签的连续制备系统，系统是由防伪信息编码及掩模版设计、恒温电化学沉积和废液处理回收三个模块构成。防伪信息编码及掩模版设计模块完成了上转换荧光薄膜的图案化设计，恒温电化学沉积模块实现了上转换荧光薄膜的制备，碱液处理回收模块完成了对废电解液的处理与回收。
一种转换荧光防伪标签连续制备系统

[发明专利]全背电极太阳电池背面离子注入掩模版及背面图形实现方法-CN201710133610.2在审
发明人：李华;鲁伟明;李中兰 -专利权人：泰州乐叶光伏科技有限公司
申请日： 2017-03-08 - 公布日： 2017-07-04 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明所述的全背电极太阳电池背面离子注入掩模版及背面图形实现方法，包括相互配合的emitter掩模版和BSF掩模版,所述emitter掩模版上设有emitter开口,所述BSF掩模版设有与emitter开口配合的BSF开口；通过离子注入法，采用该掩模版分别在电池背面定域形成固定图形。
电极太阳电池背面离子注入模版图形实现方法

[实用新型]全背电极太阳电池背面离子注入掩模版-CN201720218838.7有效
发明人：李华;鲁伟明;李中兰 -专利权人：泰州隆基乐叶光伏科技有限公司
申请日： 2017-03-08 - 公布日： 2017-11-14 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本实用新型所述的全背电极太阳电池背面离子注入掩模版及背面图形实现方法，包括相互配合的emitter掩模版和BSF掩模版,所述emitter掩模版上设有emitter开口,所述BSF掩模版设有与emitter开口配合的BSF开口，采用该掩模版分别在电池背面定域形成固定图形。
电极太阳电池背面离子注入模版

[发明专利]一种光强调制方法-CN201610200470.1有效
发明人：马鹏川;田毅强 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-03-31 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光强调制方法，包括：步骤1：根据照明系统的弥散斑函数、照明视场的既有光强分布及目标光强分布，计算得到所需的掩模版透过率分布；步骤2：根据目标光强分布的精度需求，对掩模版进行网格划分，根据所述掩模版透过率分布和透过率分布精度需求，继而确定每个网格内不透光点的分布；步骤3：根据所述不透光点的分布，制作加工掩模版；然后，将所述掩模版设置在照明系统中。
一种调制方法

[实用新型]一种半透膜掩模版LCVD修补系统-CN201721254299.9有效
发明人：李跃松;张建国;罗俊辉 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半透膜掩模版LCVD修补系统，使用激光扫描的方式，扫描光斑小于1um，可以均匀扫描沉积出一块可以控制厚度和均匀性的铬层，从而实现半透膜掩模版修补。该修补系统包括：激光器、光栅光阀、滤光组件、振镜以及物镜组件，所述激光器发出的光源经过整形成一线光源，所述线光源照射在所述光栅光阀后反射形成一均匀线光源，所述均匀线光源照射在所述振镜后经所述物镜组件聚集照射在掩模版上，所述掩模版设置在一XY平台上，通过所述振镜在所述掩模版上形成一块方形均匀激光扫描光斑，分解羰基铬并沉积铬到所述掩模版。
掩模版修补系统半透膜振镜光源光栅光阀扫描光斑物镜组件激光器均匀线沉积照射本实用新型光源照射激光扫描均匀激光滤光组件均匀性线光源反射铬层羰基修补扫描分解

[发明专利]印刷设备、封框胶印刷装置-CN202010151772.0有效
发明人：田志峰 -专利权人：鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-03-06 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： B41F15/08 文献下载
摘要：本发明提供一种印刷设备、封框胶印刷装置，属于显示面板制备技术领域，其可解决现有的丝网印刷掩模版易损耗、寿命短的问题。本发明的印刷设备用于向显示基板上印刷封框胶；所述印刷设备包括：容纳室，其包括主体部和掩模版，所述主体部用于容纳封框胶材料；所述掩模版设置于所述主体部用于靠近所述显示基板的一侧，且所述掩模版具有图案化的开口区；气压腔室，与所述容纳室连通，用于调节所述容纳室的气压，以使所述容纳室中的所述封框胶材料在气压作用下经由所述掩模版的开口区溢出。
印刷设备胶印装置

[发明专利]掩模版及显示装置的制备方法-CN202210216231.0有效
发明人：胡明;蒋志亮;王格 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-03-07 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G02F1/133 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种掩模版及显示装置的制备方法，其中，该掩模版设置有具有一定图形的多个开口，每个图形的各内转角处分别设置有朝向图形的中心延伸的凸部。
模版显示装置制备方法

[发明专利]掩模装置-CN202010031294.X在审
发明人：李柯;张波;杨大伟;王瑞瑞;刘家璇;杨兵兵;钱宏 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司
申请日： 2020-01-13 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种掩模装置，掩模版设置有镂空缝，镂空缝组成镂空图案。围挡部与掩模版包围形成容纳腔。围挡部在掩模版所在平面的正投影围绕镂空缝在掩模版所在平面的正投影设置。当需要在待刻蚀膜层形成具有掩模版上镂空图案的光刻胶层时，可以在容纳腔中注入光刻胶，并将掩模装置放置于待刻蚀膜层的上方，光刻胶通过镂空缝流出沉积在待刻蚀膜层的表面，形成具有镂空图案的光刻胶层。因此，掩模装置结构简单，仅通过掩膜装置就可以完成制作具有镂空图案的光刻胶层的工艺，能够省去涂胶设备、曝光设备和显影设备，降低了生产成本。
装置

[发明专利]一种掩模版及蒸镀装置-CN201810325468.6有效
发明人：张浩瀚 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-04-12 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，公开一种掩模版及蒸镀装置，掩模版设置在待蒸镀基板的PS层上方，包括掩模基板，掩模基板上形成有用于蒸镀有机发光材料的多个掩模图案，在掩模图案的开口处沿开口的形状分布有突出掩模基板一定高度的突出边缘，用于阻挡有机发光材料从掩模版和PS层的间隙进入到掩模图案的开口在待蒸镀基板上投影以外区域，进而能够降低蒸镀工艺的阴影和混色现象，从而提高产品良率，而且通过设置突出边缘阻挡有机发光材料从掩模版和PS层的间隙进入到掩模图案的开口在待蒸镀基板上投影以外区域，可以避免为消除间隙而去除PS层的情况，能够保护掩模版，避免其与待蒸镀基板相接触而受到待蒸镀基板上颗粒物的损伤。
一种模版装置

[实用新型]刻蚀设备-CN202122155687.4有效
发明人：诸嘉豪 -专利权人：无锡迪思微电子有限公司
申请日： 2021-09-07 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种刻蚀设备，其包括：装配盒，装配盒包括相互连接且沿装配盒的高度方向分布的第一盒体部和第二盒体部，第二盒体部的底部用于支撑掩模版；检测部，检测部用于设置在第一盒体部的一侧，以检测第一盒体部处是否有掩模版；承载台，承载台可拆卸地设置在装配盒内，通过使预设尺寸的掩模版设置在承载台上，以使预设尺寸的掩模版的顶端位于第一盒体部内；其中，预设尺寸的掩模版的厚度小于第二盒体部的高度，装配盒的高度方向与装配盒内的掩模版的厚度方向相同
刻蚀设备

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