专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置及其制作方法-CN202111562477.5在审
  • 许智凯;傅思逸;林毓翔;林建廷 - 联华电子股份有限公司
  • 2021-12-20 - 2023-06-23 - H01L27/088
  • 本发明公开一种半导体装置及其制作方法,半导体装置包括基底、第一晶体、第二晶体以及第三晶体。基底包括高压区、中压区以及低压区。第一晶体设置在该高压区内并包括第一栅极介电层以及第一栅极电极。第二晶体,设置在该低压区内并包括多个鳍状结构以及第二栅极电极。第三晶体,设置在该中压区内并包括第三栅极介电层以及第三栅极电极,其中该第一栅极电极的最顶表面、该第二栅极电极的最顶表面以及该第三栅极电极的最顶表面相互齐平。
  • 半导体装置及其制作方法
  • [发明专利]半导体器件模型的建模方法及其建模系统-CN202211565432.8在审
  • 秦苏梅 - 上海积塔半导体有限公司
  • 2022-12-07 - 2023-03-21 - G06F30/367
  • 本公开涉及一种半导体器件模型的建模方法及其建模系统。所述半导体器件模型的建模方法,包括以下步骤:在不同测量条件下分别对半导体器件中的每个晶体进行电性测试,以得到各晶体的电性参数。对各晶体的电性参数的曲线进行拟合,以得到各晶体的模型参数。对测量条件、各晶体的电性参数和各晶体的模型参数进行描述,以得到各晶体晶体模型。基于各晶体晶体模型组建半导体器件模型。上述半导体器件模型的建模方法大大增加了半导体器件模型的精确度,进而有利于集成电路设计者的电路设计、仿真。
  • 半导体器件模型建模方法及其系统
  • [发明专利]高压集成电路和半导体电路-CN202211237161.3有效
  • 冯宇翔;左安超 - 广东汇芯半导体有限公司
  • 2022-10-11 - 2023-01-24 - H02M1/088
  • 本发明提供一种高压集成电路和半导体电路,所述高压集成电路包括第一晶体、自举控制电路、升压电路以及驱动电路;所述第一晶体连接至所述高压集成电路的电源电压端口;所述自举控制电路用于将所述升压电路输出的电压处理产生自举电压,再检测所述自举电压的大小并根据所述自举电压的大小控制所述第一晶体的开通和断开;所述自举电压高于预设值时,所述自举控制电路控制所述第一晶体的断开以隔离所述自举电压通过所述第一晶体输出至所述高压集成电路的电源电压端口;所述升压电路用于将所述高压集成电路的电源电压端口输入的电源电压升压。与相关技术相比,本发明的高压集成电路和半导体电路的可靠性高。
  • 高压集成电路半导体电路
  • [发明专利]输出级结构-CN200410092714.6有效
  • 李朝政;林永豪;王文祺;蔡瑞原 - 瑞昱半导体股份有限公司
  • 2004-11-11 - 2006-05-17 - H01L27/092
  • 本发明涉及一种输出级结构,其包含第一、第二p型金属氧化物半导体晶体以及第一、第二n型金属氧化物半导体晶体,其中,该些金属氧化物半导体晶体是以双阱工艺制作。第一p型金属氧化物半导体晶体的源极连接电压源,栅极连接第一电压;第二p型金属氧化物半导体晶体的源极连接第一p型金属氧化物半导体晶体的漏极,栅极连接第二电压,漏极连接输出垫;第一n型金属氧化物半导体晶体的漏极连接输出垫,栅极连接第三电压;第二n型金属氧化物半导体晶体的漏极连接第一n型金属氧化物半导体晶体的源极,栅极连接第四电压,源极连接一接地点。
  • 输出结构
  • [发明专利]一种半导体器件及其制造方法和电子装置-CN201510019318.9有效
  • 张弓 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2015-01-14 - 2019-10-25 - H01L27/11
  • 本发明提供一种半导体器件及其制造方法和电子装置,涉及半导体技术领域。该半导体器件包括SRAM单元,其中所述SRAM单元包括:作为上拉晶体的第一PMOS晶体和第二PMOS晶体、作为下拉晶体的第一NMOS晶体和第二NMOS晶体、以及作为传输门晶体的第三NMOS晶体和第四NMOS晶体,其中,在每个所述传输门晶体中,源极和漏极相对于栅极结构非对称设置。本发明的半导体器件由于包括的SRAM单元中的传输门晶体的源极和漏极相对于栅极结构非对称设置,因此相对于现有技术具有更好的读噪声容限和写噪声容限。本发明的半导体器件的制造方法用于制造上述半导体器件,制得的半导体器件同样具有上述优点。本发明的电子装置包括上述半导体器件,同样具有上述优点。
  • 一种半导体器件及其制造方法电子装置
  • [发明专利]参考电压电路-CN200710306361.9无效
  • 谢其松;刘宇华 - 络达科技股份有限公司
  • 2007-12-28 - 2008-07-09 - G05F3/24
  • 本发明公开了一种参考电压电路,主要包括有一电流镜、一第一电阻、一第一金属氧化物半导体晶体及一第二金属氧化物半导体晶体,其中电流镜的输出端耦接该第一电阻,电流镜的节点则耦接该第一金属氧化物半导体晶体,并使得第二金属氧化物半导体晶体耦接该第一金属氧化物半导体晶体,且该第二金属氧化物半导体晶体的第一端点与栅极端相耦接,藉此将可以在第一金属氧化物半导体晶体及第二金属氧化物半导体晶体之间得到一个稳定的参考电压
  • 参考电压电路
  • [发明专利]半导体装置-CN201980085350.3在审
  • 奥田肇;福田泰诏;宅间彻;高桥俊太郎;高桥直树 - 罗姆股份有限公司
  • 2019-12-20 - 2021-08-06 - H01L29/78
  • 半导体装置包括:半导体层;绝缘栅极型的第一晶体,其形成于上述半导体层;绝缘栅极型的第二晶体,其形成于上述半导体层;以及控制配线,其以与上述第一晶体以及上述第二晶体电连接的方式形成于上述半导体层之上,传递在通常动作时将上述第一晶体以及上述第二晶体控制为接通状态、在有源钳位动作时将上述第一晶体控制为断开状态并且将上述第二晶体控制为接通状态的控制信号。
  • 半导体装置
  • [实用新型]车载充电机半导体晶体的先装后焊结构-CN201921588676.1有效
  • 刘钧;冯颖盈;姚顺;罗耀文;肖伟军 - 深圳威迈斯新能源股份有限公司
  • 2019-09-23 - 2020-05-29 - H05K7/02
  • 本实用新型提供了一种车载充电机半导体晶体的先装后焊结构,包括:壳体、塑胶支架、弹片、半导体晶体和电路板,半导体晶体粘贴在塑胶支架的一侧,弹片安装在壳体内,弹片将塑胶支架上的半导体晶体的一侧压紧贴合在壳体内的水道侧壁上,电路板固定地安装在半导体晶体及水道的上方,半导体晶体的引脚在未焊接之前穿设在电路板上的焊接通孔中。本实用新型将现有技术中的先焊后装方案改进为先装后焊方案,从而避免了半导体晶体的引脚、焊点受到很大的应力,造成功能失效的问题,同时也避免了由于半导体晶体引脚先被焊住再压紧,导致半导体晶体不能很好的贴合在散热器上
  • 车载充电机半导体晶体管先装后焊结构
  • [发明专利]MOS晶体及其制造方法与包含MOS晶体的三维存储器-CN202111079115.0在审
  • 姚兰 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-09-15 - 2021-11-23 - H01L21/336
  • 本公开提供了一种MOS晶体及其制造方法,以及包括该MOS晶体的三维存储器。根据本公开的一种MOS晶体的制造方法包括:提供半导体衬底,半导体衬底包括有高压器件区和低压器件区;在高压器件区形成高压器件栅极,在低压器件区形成低压器件栅极;在高压器件栅极的两侧以及低压器件栅极的两侧均形成侧墙,其中,在高压器件栅极的两侧形成的侧墙的宽度大于在低压器件栅极的两侧形成的侧墙的宽度;以及在高压器件栅极的侧墙的两侧的半导体衬底中形成高压器件区的源极和漏极,在低压器件栅极的侧墙的两侧的半导体衬底中形成低压器件区的源极和漏极
  • mos晶体管及其制造方法包含三维存储器

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