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[发明专利]曝光方法、曝光装置及器件制造方法-CN03130923.2无效
发明人：入江信行 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2003-05-08 - 公布日： 2003-12-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供在用适合于批量处理的装置进行处理的基板上可防止累积工序误差、制造高品质的半导体装置的曝光方法。在半导体集成电路生产线1，精制的各感应基板，以CMP装置20的第1处理系统21及第2处理系统22每次研磨2片。表示各感应基板是用第1处理系统21及第2处理系统22中的哪一处理系统处理的感应基板处理信息，经通信线路40被传送到含曝光装置10的后段的处理装置。投入到曝光装置10的各精制的感应基板，由曝光装置10的多个处理系统分担、由各处理系统进行曝光处理，使得由CMP装置20的同一处理系统处理的感应基板能够由曝光装置10的两个处理系统11、12中的某个同一处理系统处理
曝光方法装置器件制造

[发明专利]物体识别装置-CN202080036066.X在审
发明人：远藤健;永崎健 -专利权人：日立安斯泰莫株式会社
申请日： 2020-05-15 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： G06K9/00 文献下载
摘要：本发明以较短处理时间准确地识别物体。本发明的物体识别装置(10)具备曝光量决定部(101)、图像获取部(102)、光源检测部(103)、尺寸确定部(104)、识别候选提取部(105)以及识别处理部(106)。图像获取部(102)获取以第一曝光量(F101)拍摄到的第一曝光图像和以比第一曝光量(F101)少的第二曝光量(C101)拍摄到的第二曝光图像。识别候选提取部(105)根据光源检测部(103)所检测到的光源区域的位置以及尺寸确定部(104)所确定的物体的尺寸、从第二曝光图像中提取物体所存在的区域的候选即识别候选。识别处理部(106)对识别候选提取部(105)所提取到的识别候选实施与物体相关的识别处理。
物体识别装置

[发明专利]一种基于FPGA空间动态目标自适应权值的自动曝光方法-CN202310332275.4在审
发明人：张海峰;段嘉欣;周顺;黄继江;梅超;王华;李彪;路荣 -专利权人：中国科学院西安光学精密机械研究所
申请日： 2023-03-30 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H04N23/71 文献下载
摘要：本发明涉及图像处理方法，具体涉及一种基于FPGA空间动态目标自适应权值的自动曝光方法，用于解决传统曝光方法面对动态的目标时无法将目标一直锁定在高权重区域，当目标不在设定的权重区域时，自动曝光调节无法实现很好的曝光效果的不足之处该基于FPGA空间动态目标自适应权值的自动曝光方法通过将待处理图像分为多个尺寸相等的子区域，并预处理分割出目标部分和背景部分；再根据目标部分在各子区域比重排序进行自适应权值设置，对待处理图像的平均灰度进行计算；然后根据平均灰度和预设期望灰度的偏差计算曝光调整量来调节曝光时间，直到调整到最佳图像亮度，最后完成图像数据输出。
一种基于 fpga 空间动态目标自适应自动曝光方法

[发明专利]自动检测影像图片中曝光区域的方法及系统-CN201210549883.2有效
发明人：孙凯;杜静;陈娴;查日东;周顺阳 -专利权人：深圳市安健科技有限公司
申请日： 2012-12-18 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： G06K9/38 文献下载
摘要：本发明适用于图像处理技术领域，提供了一种自动检测影像图片中曝光区域的方法，包括下述步骤：步骤A，获取待检测的影像图片；步骤B，接收输入的体位信息；步骤C，若输入的体位信息为普通体位，则以普通分割阈值对图像进行二值化处理从中分割出曝光区域；步骤D，若输入的体位信息为特殊体位，则分别获取图像中X光线的穿透区域和初始曝光区域，然后通过穿透区域对初始曝光区域进行边界修正，获取最终的曝光区域。使用本发明提供的自动检测技术可以对图像的曝光区域自动进行检测，总体的准确率在98%以上，在图像处理的所有过程中，可以去除去非曝光区域图像数据的处理，提高了程序运行效率。
自动检测影像图片曝光区域方法系统

[发明专利]摄像装置-CN200580038856.7无效
发明人：佐野俊幸;星野功一 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2005-11-14 - 公布日： 2007-10-17 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：摄像装置(10)包括：输出至少两种曝光量不同的视频信号的摄像元件(11)；对于两种视频信号中曝光时间较长的长时间曝光信号执行拐点处理的拐点处理执行部分(15)；将两种视频信号中曝光时间较短的短时间曝光信号和执行过拐点处理的长时间曝光信号进行合成的信号合成部分(17)；以及将作为在拐点处理中拐点的信号电平的拐点电平根据短时间曝光信号的信号电平在一个画面的视频信号内进行变更的电平变更部分(18)。
摄像装置

[发明专利]一种图像双重曝光融合方法及装置-CN201610793954.1有效
发明人：张勇;夏石川 -专利权人：北京贝塔科技股份有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： G06T5/50 文献下载
摘要：本申请提供了一种图像双重曝光融合方法及装置，图像双重曝光融合方法包括：对原始人脸图像进行人脸控制点识别，得到人脸区域图；对人脸区域图进行亮度填充，得到人脸权重图；对人脸权重图和原始人脸图像的单通道图像进行权重融合，得到融合权重图；对原始人脸图像和原始背景图像进行柔光处理，得到柔光处理图，并对原始人脸图像和原始背景图像进行滤色处理，得到滤色处理图；对柔光处理图和滤色处理图进行融合处理，得到待融合图像；按照融合权重图对原始人脸图像和待融合图像进行融合处理，得到双重曝光融合图像。在本申请中，通过以上方式使人脸图像在双重曝光融合图像中的双重曝光效果更佳，从而使双重曝光融合图像更加自然。
一种图像双重曝光融合方法装置

[发明专利]曝光控制方法、装置、设备以及存储介质-CN202110246912.7有效
发明人：孙牵宇;许亮;王勇 -专利权人：上海商汤临港智能科技有限公司
申请日： 2021-03-05 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本申请提出一种曝光控制方法、装置、设备以及存储介质。其中，上述方法可以包括控制卷帘快门RS设备按照第一预设曝光时长进行曝光。根据上述RS设备的起始曝光时刻与全局快门GS设备的起始曝光时刻之间的预设时间差，控制上述GS设备按照第二预设曝光时长进行曝光。其中，上述第一预设曝光时长与上述第二预设曝光时长之和不大于上述RS设备的图像帧采集周期与单个图像帧采集周期内上述RS设备的有效像素行的有效处理时长的差；以及，上述预设时间差不小于上述有效处理时长，并且不大于上述单个图像帧采集周期，与上述第一预设曝光时长和上述第二预设曝光时长之和的差值。
曝光控制方法装置设备以及存储介质

[发明专利]一种拍照的方法及装置-CN201410279489.0在审
发明人：李黎国;李振华;张文娜 -专利权人：中兴通讯股份有限公司
申请日： 2014-06-20 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明公开了一种拍照的方法及装置，包括：在闪光灯主闪时，使预闪时确定的正常曝光区域、过曝区域和曝光不足区域的曝光值分别收敛正常，以得到三张不同曝光值的图片；将该三张不同曝光值的图片中曝光值收敛正常的区域合成为一张图片本发明将预闪中的过曝区域和曝光不足区域处理为正常的曝光值区域，并将处理后的区域进行重新整合，最终得到一张亮度均匀的图片，从而大大提高了闪光灯的拍照效果。
一种拍照方法装置

[发明专利]一种多工位硅片台多台交换系统及其交换方法-CN201210147747.0有效
发明人：朱煜;张鸣;支凡;刘昊;刘召;徐登峰;杨开明;胡金春;尹文生 -专利权人：清华大学
申请日： 2012-05-11 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种多工位硅片台多台交换系统及其交换方法，该多台交换系统除测量工位和曝光工位外，还包括一个工艺处理工位；此工艺处理工位与测量工位、曝光工位均处于基台上表面的气浮平面或磁浮平面内；承片台通过气浮轴承或磁悬浮设置在基台上表面增加工艺处理工位，在光刻机中可以实现相邻曝光工序间的工艺处理，在同一台光刻机中可以并行完成曝光工序及工艺处理工序，使得在同一台光刻机内实现连续曝光，满足双曝光技术甚至多重曝光技术中提高生产率和精度、减少成本和使用面积等需求
一种多工位硅片台多台交换系统及其方法

[发明专利]曝光方法及电子器件制造方法-CN200880011418.5无效
发明人：白石直正;井上英也 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-04-07 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种使得能够快速且精确地测量在单位曝光场(10f)中发生的变形并且使得能够高准确度地在基板(W)上重叠多个图案的曝光方法。使用投影光学系统(PL)在基板(W)上曝光明暗图案的本实施例的曝光方法包括：位置检测处理(S13)，检测布置在基板(W)的单位曝光场(10f)的至少一个功能元件中的多个位置检测标记关于基板(W)的基板面内方向的位置；变形计算处理(S14)，基于在位置检测处理(S13)中获得的与位置检测标记的位置有关的信息，计算在单位曝光场(10f)中发生的变形的状态；以及形状修改处理(S15)，基于在变形计算处理(S14)中获得的变形状态，修改要在基板(W)上曝光的明暗图案的形状。
曝光方法电子器件制造

[发明专利]曝光后处理设备-CN201780073007.8有效
发明人：维加斯拉夫·巴巴扬;卢多维克·戈代;凯尔·M·汉森;罗伯特·B·穆尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-11-03 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文描述的实施方式涉及用于曝光后处理的设备。更具体言之，本文描述的实施方式涉及处理平台上使用的场引导式曝光后处理腔室及冷却/显影腔室。在一个实施方式中，多个曝光后处理腔室和冷却/显影腔室对以堆叠布置的方式定位在处理平台上，并利用共享的管道模块。在另一实施方式中，多个曝光后处理腔室和冷却/显影腔室以线性布置的方式定位在处理平台上，且每个腔室利用单独专用的管道模块。
曝光处理设备

[发明专利]基板处理装置-CN200710001774.6有效
发明人：滨田哲也 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-01-16 - 公布日： 2007-07-25 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置具有接口区。相邻于接口区而配置有曝光装置。接口区包括第一以及第二清洗/干燥处理单元。在第一清洗/干燥处理单元中，对曝光处理前的基板进行清洗以及干燥处理；在第二清洗/干燥处理单元中，对曝光处理后的基板进行清洗以及干燥处理。
处理装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN200510129566.5有效
发明人：安田周一;金冈雅;金山幸司;宫城聪;茂森和士;浅野彻;鸟山幸夫;田口隆志;三桥毅;奥村刚 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-12-06 - 公布日： 2006-06-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：基板处理装置具有：分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、洗涤/显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在洗涤/显影处理模块的洗涤处理单元中进行基板的洗涤以及干燥处理。
处理装置以及方法

[发明专利]摄像设备及其控制方法-CN200710143429.6有效
发明人：高桥贤司 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2007-07-31 - 公布日： 2008-02-06 - 主分类号： G03B7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种摄像设备及其控制方法，该摄像设备连续执行摄像并输入多个图像，其具有：数字信号处理电路，为每个输入图像从其图像数据中检测满足预定条件的被摄体；第一曝光值确定单元，从图像数据中计算第一曝光值；第二曝光值确定单元，根据由检测单元从图像数据中检测到的被摄体，来计算第二曝光值；以及选择单元，根据数字信号处理电路所获得的被摄体检测结果，选择第一曝光值、第二曝光值、当前设定的曝光值、或者在计算当前设定的曝光值时根据所参考的区域的亮度而新计算的曝光值，作为对下一摄像所使用的曝光值。
摄像设备及其控制方法

[发明专利]一种降低油墨曝光能量的方法-CN202211354833.9在审
发明人：王申 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2022-11-01 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明公开了一种降低油墨曝光能量的方法，包括如下步骤：(一)、过前处理：将板件清洗、粗化、烘干处理，得基板；(二)、涂敷固化：将防焊油墨涂覆在步骤(一)所得基板上，烘烤固化，得油墨板；(三)、压膜：对步骤(二)所得油墨板的表面上压合贴敷透明聚酯膜；(四)、曝光：将步骤(三)贴膜后的油墨板放置在平台上，对所述油墨板的表面进行曝光；(五)、显影和固化：对步骤(四)曝光后的油墨板件进行显影和固化处理。根据本发明降低油墨曝光能量的方法，通过在油墨板的表面上压合贴敷透明聚酯膜，抑制氧气与油墨板的待曝光部位的自由基的反应，从而提升了油墨的曝光效率，降低油墨曝光的能量。
一种降低油墨曝光能量方法